2011年晶圓設(shè)備支出高達(dá)23%，繼續(xù)維持歷史最高點(diǎn)

SEMI全球集成電路制造工廠報(bào)告表明，2011年資本支出將增至411億美元，達(dá)到歷史最高水平。由于某些公司基于更廣泛的經(jīng)濟(jì)狀況調(diào)整了計(jì)劃，這一新出爐的預(yù)測(cè)將增長(zhǎng)百分比下調(diào)至23% (2011年5月預(yù)期增長(zhǎng)為31%)。盡管2012年的支出有下降趨勢(shì)，但總體上仍有可能達(dá)到第二個(gè)歷史最高點(diǎn)。

SEMI產(chǎn)業(yè)研究與統(tǒng)計(jì)小組的高級(jí)分析師Christian Gregor Dieseldorff表示：“全球經(jīng)濟(jì)的變化影響到了半導(dǎo)體行業(yè)。最近幾個(gè)月的經(jīng)濟(jì)走向使消費(fèi)者的信心和消費(fèi)有所降低，此次放緩態(tài)勢(shì)也波及到半導(dǎo)體行業(yè)。”

2011年，據(jù)SEMI的統(tǒng)計(jì)，進(jìn)行設(shè)備支出的晶圓廠數(shù)量為223個(gè)，其中有77個(gè)為L(zhǎng)ED晶圓廠。明年，190個(gè)晶圓廠將開始或繼續(xù)進(jìn)行裝備，其中包括72個(gè)LED項(xiàng)目。2011年最高支出地區(qū)集中在美洲，總計(jì)約100億美元；臺(tái)灣地區(qū)緊隨其后，約為90億美元。美洲地區(qū)上一次引領(lǐng)支出之最是在2002年。盡管英特爾公司的支出最多，但促使美洲出現(xiàn)高支出的另一關(guān)鍵因素是三星電子公司，其在奧斯汀的晶圓廠支出了約25至30億美元，項(xiàng)目名為“S2-line”。2012年，預(yù)計(jì)韓國(guó)地區(qū)的支出將超過(guò)美洲，晶圓設(shè)備支出約100億美元；臺(tái)灣地區(qū)仍尾隨其后，約92億美元。在過(guò)去幾個(gè)月里，一些公司宣布2011年的資本支出有所削減，但多數(shù)公司的資本支出計(jì)劃仍維持不變。盡管市場(chǎng)的謹(jǐn)慎心態(tài)日趨明顯，但一些公司的支出甚至還略有增長(zhǎng)。

由于半導(dǎo)體行業(yè)根據(jù)市場(chǎng)進(jìn)行調(diào)整并削減了開支，報(bào)告預(yù)計(jì)擴(kuò)大產(chǎn)能的步伐將放緩。