孫立民,丁 雪,陳振營(yíng),張南南
(上海交通大學(xué)a.分析測(cè)試中心;b.化學(xué)化工學(xué)院,上海 200240)
作為具有亞微米空間分辨率的高分辨表面質(zhì)譜儀——飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀(ToF-SIMS)廣泛應(yīng)用于高分子材料、生物醫(yī)藥材料、紙張、涂料、有機(jī)半導(dǎo)體及化工材料的研究與工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程[1-3]。ToF-SIMS技術(shù)只能表征固體樣品,且譜圖所提供的化學(xué)結(jié)構(gòu)信息局限在單分子層的深度范圍,其離子化原理是基于一束高能離子束轟擊到樣品表面引發(fā)的脫附及電離等過(guò)程。在這樣的二次離子形成機(jī)制下,有機(jī)分子易檢測(cè)到強(qiáng)度高的小分子碎片離子峰,而大碎片及分子離子峰強(qiáng)度較弱。所以,在表征未知有機(jī)物或者有機(jī)物混合物體系時(shí),有時(shí)由于缺乏分子離子峰的信息,而很難確認(rèn)有機(jī)物分子式,或辨識(shí)結(jié)構(gòu)相似的不同有機(jī)分子[4-5]。
如何提高有機(jī)分子的分子峰強(qiáng)度多年來(lái)一直是ToF-SIMS領(lǐng)域研究的話題。至今為止,主要通過(guò)兩種方式,在不同程度上增強(qiáng)了有機(jī)分子的分子峰或類分子峰。一方面,儀器設(shè)計(jì)者們?cè)O(shè)計(jì)出新型的團(tuán)簇一次離子源,提高了有機(jī)分子的二次離子產(chǎn)額。這些團(tuán)簇離子源包括C60,SF6,Bin,Arn以及最新比較熱門的(H2O)n離子源。目前,商業(yè)化的ToF-SIMS 標(biāo)配的離子源為Bin。另一方面,提高分子峰強(qiáng)度的途徑是通過(guò)向樣品表面添加基質(zhì)[6-7]或金屬物質(zhì)來(lái)實(shí)現(xiàn)[8],例如:添加2,5-dihydroxybenzoic acid[9]或2,4,6-trihydroxyacetophenone(MALDI 基質(zhì))[10],或使用Au、Ag襯底,以及向樣品表面沉積Ag或Au納米顆粒[11]。借助Au或Ag 襯底或納米顆粒,所產(chǎn)生的類分子峰(M+Ag)+或(M+Au)+往往峰強(qiáng)比(M+H)+高得很多,增強(qiáng)的幅度可高達(dá)幾個(gè)數(shù)量級(jí),從而達(dá)到增強(qiáng)分子離子峰檢測(cè)的目的。近幾年,石墨烯也成為一種新型的增強(qiáng)基質(zhì)應(yīng)用于提高藥物分子離子峰靈敏度的研究中,并取得較為明顯的效果[12-13]。
本文使用石墨烯負(fù)載的納米Ag 顆粒研究其對(duì)有機(jī)物分子的分子離子峰增強(qiáng)的效果。制備出適合做ToF-SIMS樣品襯底的石墨烯與納米Ag顆粒的復(fù)合材料(AgNP-GE)。選用了兩種模型化合物Irganox 1010與Risperidone為研究體系。比較這兩種模型化合物分別分散在AgNP-GE、Si以及氧化銀(AgO)襯底上分子離子峰的出峰情況。在AgNP-GE襯底上,兩種樣品均能形成(M+Ag)+,但是Irganox 1010 分子的(M+Ag)+遠(yuǎn)比M+峰強(qiáng)度高,而Risperidone 更容易產(chǎn)生(M+H)+。表明AgNP-GE襯底可以起到類似AgO襯底的作用而能與有機(jī)分子形成(M+Ag)+。
模型化合物Irganox 1010(98%)[見(jiàn)圖1(a)],Risperidone(98%)[見(jiàn)圖1(b)]。Ag 片(99.99%);Si片。濃硝酸(100%),無(wú)水乙醇(分析純),無(wú)水丙酮(分析純)。AgNO3(化學(xué)純),NaBH4(化學(xué)純),氫氧化鈉(化學(xué)純),乙醇(化學(xué)純)。
圖1 兩種模型化合物
(1)氧化石墨烯(GO)制備。以天然石墨為原料制備氧化石墨烯[14],再合成GO 負(fù)載納米Ag 顆粒材料[15]。GO(100 mg)分散在100 mL 水溶液中超聲處理2 h。然后向GO 水溶液中滴加AgNO3水溶液(24 mmol/L)/(50 mL)室溫下超聲處理30 min。將NaBH4水溶液(0.494 mg/100 mL)滴加到GO和AgNO3水溶液中,并且室溫下攪拌12 h,反應(yīng)中通過(guò)加入0.5 mol/L濃度的氫氧化鈉水溶液將反應(yīng)液pH 值調(diào)節(jié)為11。將所得到漿狀產(chǎn)物離心,用去離子水和乙醇反復(fù)洗滌,最后進(jìn)行透析(12 kDa)去除樣品中的無(wú)機(jī)雜質(zhì)離子。將所得產(chǎn)物離心收集后,在60 ℃的烘箱中干燥過(guò)夜,用玻璃器皿封裝保存。
(2)AgNP-GE 膜制備。取約20 mg AgNP-GE 均勻分散到新鮮鋁箔上,折疊鋁箔,并用壓片機(jī)將鋁箔壓實(shí)。然后打開(kāi)鋁箔,將AgNP-GE 膜裁剪出約5 mm ×5 mm的方塊待用。
(3)AgO 襯底制備。將約1 cm × 1 cm Ag 片(99.99%純度)用純凈水超聲清洗,丙酮清洗;然后,放入濃硝酸(100%)溶液浸泡約5 min,取出來(lái)后再用去離子水超聲清洗多次,無(wú)水乙醇超聲清洗多次,最后氮?dú)獯瞪⒏稍锖蟠谩?/p>
(4)Si襯底的制備。將約1 cm ×1 cm Si片先后用去離子水、無(wú)水乙醇、丙酮超聲清洗,然后用等離子體清洗裝置對(duì)Si片表面進(jìn)行約10 min處理,最后用新鮮的鋁箔將其包裹待用。
(5)模型化合物溶液滴涂到AgNP-GE 膜、Si 片、AgO襯底表面。使用10 μL 的移液槍,將10 μL 0.1 mmol/L 的Risperidone 乙醇溶液和0.1 mmol/L 的Irganox 1010 乙醇溶液分別滴涂到AgNP-GE 膜襯底、Si片及AgO 襯底表面,然后放置到真空罐子里,連續(xù)抽真空(40 kPa)約1 h,除去乙醇溶劑后,放入ToFSIMS進(jìn)樣室內(nèi)。
透射電鏡照片的拍攝使用了FEI公司的場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡(TEM)TALOS F200X。X射線光電子能譜(XPS)譜圖使用的是島津AXIS Ultra DLD 型號(hào)的XPS儀器獲得。飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜儀的型號(hào)為ION ToF公司的ION TOF ToF SIMS 5-100。
XPS 譜圖采集參數(shù):?jiǎn)紊腁l Kα 射線源(1 486.6 eV);分析面積700 μm ×300 μm;分析室真空<0.7 μPa;寬譜和窄譜的通能分別為160 eV 和40 eV;寬譜和窄譜掃描步長(zhǎng)分別為1 eV及0.1 eV;Al Kα射線源功率為150 W;開(kāi)啟荷電中和系統(tǒng);數(shù)據(jù)處理使用CasaXPS軟件;以樣品C1 s峰最右邊峰的結(jié)合能為284.8 eV,對(duì)每個(gè)元素窄掃譜圖進(jìn)行能量位移校正。
通過(guò)改變合成條件可以合成出Ag 負(fù)載量不同的復(fù)合材料。根據(jù)材料的成膜性及ToF-SIMS 譜圖上Ag+及離子峰的出峰情況,確定了最優(yōu)的合成條件。合成出的產(chǎn)物經(jīng)長(zhǎng)時(shí)間透析過(guò)程盡可能去除陰陽(yáng)離子雜質(zhì)。對(duì)該產(chǎn)物分別做了XPS、ToFSIMS和TEM表征以獲得化學(xué)成分,Ag 顆粒表面化學(xué)狀態(tài)及Ag納米顆粒分布信息。
(1)XPS表征。圖2 所示為純氧化石墨烯(GO)及AgNP-GE樣品的XPS全譜譜圖??梢钥吹剑啾扔贕O,AgNP-GE譜圖中有明顯的Ag 3 d 峰,證明了Ag物質(zhì)已經(jīng)復(fù)合到GO材料表面上。
圖2 XPS全譜譜圖
圖3 所示為GO 和AgNP-GE 樣品的窄掃XPS 譜圖。C—C峰的C1 s結(jié)合能為284.8 eV,C—O的C1 s結(jié)合能為286.9eV。對(duì)比2 個(gè)樣品的C1 s譜圖峰型可以看出,AgNP-GE 樣品C—O 的C1 s 的峰強(qiáng)與C—C的C1 s 的峰強(qiáng)比值比純GO 樣品的比值要低。這一結(jié)果與文獻(xiàn)[16]報(bào)道的基本一致。另外,AgNP-GE 樣品的Ag 3 d5/2的結(jié)合能位置為368.2eV,根據(jù)XPS 數(shù)據(jù)庫(kù)Ag3 d 結(jié)合能表,AgNP-GE 樣品的Ag 納米顆粒為金屬銀。
圖3 樣品的XPS窄掃譜圖
(2)TEM表征。從TEM照片(見(jiàn)圖4)可以看到,Ag顆粒比較均勻分散到石墨烯上,在所觀察的區(qū)域密度較高。較大尺寸的Ag顆粒平均尺寸在70 nm左右;大小居中的顆粒平均尺寸在30 nm 左右;而較小尺寸的Ag顆粒平均尺寸在10 nm左右。
圖4 Ag顆粒的TEM照片
圖5 空白AgNP-GE樣品的ToF-SIMS譜圖 (a)~(f)m/z =100~600
Irganox1010 和Risperidone 是文獻(xiàn)中常用于研究Ag襯底增強(qiáng)分子離子峰的模型化合物。本文也使用這2 個(gè)化合物來(lái)研究AgNP-GE襯底是否可以形成(M+Ag)+而達(dá)到對(duì)有機(jī)分子類分子離子峰的增強(qiáng)效果。
(1)Irganox 1010 的ToF-SIMS譜圖表征。圖6 所示為Irganox 1010 分別分散到AgO 襯底、AgNP-GE 膜及Si襯底上的ToF-SIMS譜圖。譜圖顯示的質(zhì)量范圍為1 160~1 310m/z,涵蓋了分子峰M+及Ag 螯合分子峰(M+Ag)+。從譜圖上可以發(fā)現(xiàn),在AgNP-GE膜上樣品觀察到較強(qiáng)的(M+Ag)+類分子峰,但是M+峰很弱。作為對(duì)比樣品,AgO的譜圖上也有明顯的(M+Ag)+峰,而較弱的M+。說(shuō)明AgNP-GE 膜中銀的納米顆粒能夠與AgO襯底一樣與有機(jī)分子形成Ag的螯合類分子峰從而達(dá)到增強(qiáng)分子峰的效果。Si片上樣品檢測(cè)到M+及(M+Na)+的峰,(M+Na)+比M+強(qiáng)一些。根據(jù)Irganox 1010 在3 種襯底上的分子峰及類分子峰的出峰情況,說(shuō)明Irganox 1010 更傾向形成金屬螯合的類分子峰。這與文獻(xiàn)報(bào)道的現(xiàn)象一致[8]。另外,Irganox 1010 分子在負(fù)離子譜中可以觀察到較強(qiáng)的M-峰,及碎片峰,但是在正離子譜圖中M+非常弱。
圖6 不同襯底下Irganox 1010的ToF-SIMS 譜圖
(2)Risperidone 的ToF-SIMS 譜圖表征。圖7 所示為Risperidone 分別分散到AgO 襯底、Si 襯底及AgNP-GE膜表面的ToF-SIMS 譜圖。譜圖顯示的質(zhì)量范圍為380~560m/z,涵蓋了分子峰(M+H)+及Ag螯合分子峰(M+Ag)+。3 個(gè)樣品的譜圖中均檢測(cè)到較強(qiáng)的(M+H)+峰。雖然在AgNP-GE 膜和AgO襯底上的Risperidone樣品有(M+Ag)+被檢測(cè)出來(lái),但是其強(qiáng)度相對(duì)于(M+H)+峰較弱。因此,對(duì)于Risperidone這個(gè)有機(jī)分子,AgNP-GE 膜和AgO均不能因產(chǎn)生強(qiáng)的(M+Ag)+而起到較明顯的增強(qiáng)作用。這與文獻(xiàn)報(bào)道的一致[17]。比較AgNP-GE 膜與AgO襯底2個(gè)樣品的(M+H)+/(M+Ag)+的比值,前者是后者的3 倍。這可能是由于AgNP-GE 膜中所含石墨烯成分對(duì)(M+H)+的形成略有增強(qiáng)的效果。
圖7 不同襯底下Risperidone的ToF-SIMS 譜圖
(3)AgNP-GE 膜襯底上Irganox 1010 與Risperidone ToF-SIMS 結(jié)果比較。比較兩種樣品的(M+Ag)+/M+比值或(M+Ag)+/(M+1)+比值可以發(fā)現(xiàn),Irganox 1010 樣品遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于Risperidone 樣品。這與兩種分子自身形成分子峰及金屬螯合離子峰的難易程度相關(guān)。文獻(xiàn)中報(bào)道Irganox 1010 分子自身易于與Ag材料形成(M+Ag)+而不易于形成M+/(M+1)+。而對(duì)于Risperidone 樣品,相比形成金屬螯合離子峰而更傾向形成(M+1)+。因此,AgNP-GE膜對(duì)于自身易于形成(M+Ag)+的有機(jī)分子可以通過(guò)形成強(qiáng)的(M+Ag)+峰起到增強(qiáng)效果,而對(duì)于自身傾向形成(M+1)+有機(jī)分子,可以通過(guò)使用像石墨烯基質(zhì)材料直接提高(M+1)+峰強(qiáng)而達(dá)到增強(qiáng)效果。
兩種模型化合物分散到AgNP-GE 膜表面上,在TOF-SIMS譜圖中均能檢測(cè)到Ag 螯合分子峰(M+Ag)+。比較(M+Ag)+與M+或(M+H)+相對(duì)強(qiáng)度,Irganox 1010 樣品遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于Risperidone,說(shuō)明AgNP-GE 膜對(duì)Irganox 1010 的ToF-SIMS 的分子離子峰的檢測(cè)有較為明顯的增強(qiáng)作用。今后,希望AgNPGE可以成為一種新型襯底材料應(yīng)用于有機(jī)物的ToFSIMS分析,特別在提高有機(jī)分子檢測(cè)靈敏度及對(duì)未知物分子峰的辨識(shí)能力兩方面發(fā)揮獨(dú)特的作用。