科研人員研發(fā)出鈦基納米復(fù)合涂層新工藝

俄羅斯烏拉爾聯(lián)邦大學(xué)和俄羅斯科學(xué)院烏拉爾分院電物理研究所科研人員聯(lián)合研發(fā)出一種鈦基四組分納米復(fù)合涂層TiSiCN(鈦、硅、碳、氮)新工藝，可作為耐磨性保護(hù)涂層用于保護(hù)飛機(jī)和燃?xì)鉁u輪發(fā)動(dòng)機(jī)等部件，廣泛應(yīng)用于金屬加工和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。該復(fù)合涂層不需要高溫，也無需附加裝置和材料。研究結(jié)果發(fā)表在《Membranes》雜志上。

俄科研人員采用等離子體化學(xué)分解法，用具有空心陰極和活性陽極的氣體放電裝置來制造多組分活性介質(zhì)，無需單獨(dú)安裝電離和過濾系統(tǒng)。科研人員使用含有參與最終結(jié)構(gòu)形成的SiC(硅、碳)和SiN(硅、氮)鍵的有機(jī)硅前體—揮發(fā)性低毒液體，通過等離子體中的電子束蒸發(fā)鈦，將鈦添加到前體氣體介質(zhì)中，在處理過的部件表面形成TiN(鈦、氮)、TiC(鈦、碳)或 TiCN(鈦、碳、氮)晶體組成的納米晶相涂層。該工藝比磁控濺射具有更高的沉積速率和高離子通量密度，且成本低、無污染。