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    Ti-MOFs基復(fù)合材料的制備及其光電催化性能研究

    2022-07-23 02:17:14郭芳穎賈偉科王際平
    材料科學(xué)與工藝 2022年3期
    關(guān)鍵詞:光電催化電流密度半導(dǎo)體

    郭芳穎,王 群,賈偉科,蘇 騎,王際平

    (1.上海工程技術(shù)大學(xué) 紡織服裝學(xué)院,上海 201620; 2. 上海紡織化學(xué)清潔生產(chǎn)工程技術(shù)研究中心,上海 201620)

    隨著現(xiàn)代工業(yè)化發(fā)展和人口的快速增長,環(huán)境污染問題日益嚴重,已成為迫切需要解決的世界性問題[1-3]。各大行業(yè)每年都要產(chǎn)生大量廢水,特別是紡織品行業(yè),其廢水排放量每年都呈翻倍趨勢增長,已在世界范圍內(nèi)引起高度關(guān)注[4-6]。廢水成分復(fù)雜,其中有機染料在大多數(shù)情況下具有較穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)、高色度值和高化學(xué)需氧量(COD)和生物降解性差等特點,從而難以處理[7-8]。若工業(yè)廢水未經(jīng)適當處理即排放,可能導(dǎo)致水體富營養(yǎng)化,給生態(tài)系統(tǒng)和人類健康帶來極大危害[9-11]。

    目前,人們關(guān)于環(huán)境污染問題已提出眾多解決方法,包括膜過濾法[12-13]、生物處理[14-15]、電化學(xué)法[16-17]、催化氧化及吸附法[18-20]等,但是這些方法的處理效果都不盡如人意。光電催化技術(shù)是一種操作簡單、無二次污染、低能耗且高效的催化降解污染物的方法。在光電的條件下,催化劑表面能夠產(chǎn)生電子-空穴對(e--h+),電子-空穴對在合適的帶隙寬度條件下即可轉(zhuǎn)移和分離,從而催化劑表面形成的活性氧簇(ROS)可將有機污染物氧化降解為二氧化碳和水[21-22]。

    光電催化材料種類豐富,包括金屬有機框架[23-24]、金屬氧化物半導(dǎo)體[25-26]、硫化物半導(dǎo)體[27-28]等。金屬有機骨架(MOFs)是一種新型納米級多孔聚合材料,這類材料是以金屬(簇)為節(jié)點,有機配體為連接體,通過強配位鍵橋連形成開放式的具有永久孔道的晶型骨架[29-30],它具有比表面積大、孔隙率高、穩(wěn)定性優(yōu)異等特有的物理化學(xué)性。MoS2是一種二維分層納米半導(dǎo)體材料,每個單元中都有S-Mo-S的結(jié)構(gòu),各層之間通過微弱的范德華力連接在一起[31-32]。此外,與納米顆粒狀的MoS2相比,花狀多級結(jié)構(gòu)的MoS2具有更大的比表面積和獨特的缺陷富集晶體結(jié)構(gòu),能夠暴露更多的活性邊緣位點,從而在光照條件下,其表面產(chǎn)生的載流子能夠有效轉(zhuǎn)移和分離[33-34]。

    本文借助簡單易行的水熱反應(yīng),將花狀多級結(jié)構(gòu)的MoS2成功負載至Ti-MOFs表面,構(gòu)建了MoS2/Ti-MOFs復(fù)合結(jié)構(gòu),并對樣品的形貌、結(jié)構(gòu)、組分、光電化學(xué)及光電催化性能做了系統(tǒng)研究。

    1 實 驗

    1.1 MoS2/Ti-MOFs的制備

    1.1.1 Ti-MOFs的制備

    將2-氨基對苯二甲酸(NH2-BDC,0.181 g)緩緩加入到N,N-二甲基甲酰胺/甲醇(體積比9∶1)的混合溶劑中,待完全溶解后加入鈦酸異丙酯(0.194 mL),并在室溫下溫和攪拌30 min,然后將其轉(zhuǎn)移至50 mL的聚四氟乙烯內(nèi)襯中,置于150 ℃的烘箱中保持24 h[35];反應(yīng)結(jié)束后,反應(yīng)釜自然冷卻,將得到的黃色產(chǎn)物分別用N,N-二甲基甲酰胺、甲醇洗滌3次;最后,將洗凈后的樣品置于60 ℃的真空烘箱中干燥12 h,獲得黃色粉末產(chǎn)物。

    1.1.2 MoS2/Ti-MOFs的制備

    MoS2/Ti-MOFs的制備過程示意圖如圖1所示。將硫脲(1.066 g,14 mmol)和四水合鉬酸銨(1.236 g,1 mmol)溶解在去離子水中,然后將一定量的Ti-MOFs添加到上述溶液中形成懸浮液,將懸浮液轉(zhuǎn)移至50 mL的聚四氟乙烯內(nèi)襯中,并將反應(yīng)釜置于180 ℃的烘箱中保持12 h;反應(yīng)結(jié)束后,待冷卻至室溫,將懸浮液離心,并取其沉淀,再對所得沉淀分別用水、乙醇洗滌3次;最后,將產(chǎn)物置于60 ℃的真空烘箱內(nèi)干燥12 h,收集黑色粉末產(chǎn)物。改變Ti-MOFs含量,即MoS2質(zhì)量分數(shù)分別為60%、20%、10%、5%時,所得產(chǎn)物記為MoS2/Ti-MOF-40、MoS2/Ti-MOF-80、MoS2/Ti-MOF-90、MoS2/Ti-MOF-95。

    圖1 MoS2/Ti-MOFs制備過程示意圖Fig.1 Schematic diagram of preparation process for MoS2/Ti-MOFs

    1.2 材料表征

    紅外光譜儀(FTIR,Thermo Scientific,Nicolet 6700)用于分析樣品所含的官能團;X射線衍射儀(XRD,PANalytical,X’pert-Pro MRD)、冷場發(fā)射電子顯微鏡(SEM,Hitachi,SU8010)和透射電子顯微鏡(TEM,F(xiàn)EI Tecnai F-20)分別用于表征樣品的晶體結(jié)構(gòu)和微觀形貌;配置有單色的Al Kα X射線源的光電子能譜分析儀(XPS,KRATOS,Axis Ultra HAS)用于分析樣品所含化合態(tài);紫外-可見分光光度計(UV-vis DRS,Shimadzu,UV-2600)用于測試樣品的紫外-可見吸收光譜(UV-vis DRS)和Tauc plot圖,探究催化劑的光響應(yīng)性和帶隙寬度;電化學(xué)工作站(Metrohm Autolab,M204)用于分析樣品的光電化學(xué)性能。

    1.3 光電化學(xué)性能測試

    使用配置有傳統(tǒng)三電極電解池的電化學(xué)工作站為光電極施加一定的電壓,涂覆有制備的催化劑的導(dǎo)電玻璃(FTO)為工作電極,鉑箔和Ag/AgCl(3.0 mmol的KCl溶液)分別作為對電極和參比電極。在光電化學(xué)測試之前,將N2流鼓入Na2SO4溶液(0.2 mmol,pH=6.8)中30 min以去除溶解于電解質(zhì)溶液中的氧氣。配置有紫外濾光片(λ>420 nm)的300 W氙燈(Trusttech,PLS-SXE 300)作為可見光光源,光源與電極之間的距離設(shè)置為15 cm,光照射到電極表面的光強為100 mW/cm2。在0.30 V(vs. Ag/AgCl)的偏壓條件下記錄光電流-時間曲線(I-t),光源的開/關(guān)循環(huán)時間設(shè)置為30 s。在0.1~105Hz的頻率范圍內(nèi)獲取電化學(xué)阻抗譜(EIS),交流電壓振幅為5 mV,偏壓設(shè)置為0 V (vs.Ag/AgCl)。線性掃描伏安曲線(LSV)測試時,掃描速率為20 mV/s,電壓范圍設(shè)置為-0.5~1.0 V (vs.Ag/AgCl)。

    1.4 有機污染物催化降解實驗

    光電催化降解有機污染物實驗裝置與光電化學(xué)性能測試相同,裝置示意圖如圖2所示。將10 mg樣品分散在含全氟磺酸(Nafion)的乙醇溶液中,并取分散液涂覆至FTO的導(dǎo)電面制備光電極,以50 mL的2,4,6-TCP(10 mg/L,初始pH值為4.2)作為電解質(zhì),進行光電催化降解實驗。利用紫外分光光度計測試光電催化過程中2,4,6-TCP的吸光度,并將其換算為濃度,計算得到模擬有機污染物的降解速率。

    圖2 光電催化降解有機物示意圖Fig.2 Schematic diagram of photoelectrocatalytic degradation of organic pollutants

    2 結(jié)果與討論

    2.1 傅里葉紅外變換光譜

    圖3 Ti-MOFs與MoS2/Ti-MOFs-80的FTIRFig.3 FTIR of Ti-MOFs and MoS2/Ti-MOFs-80

    2.2 X射線衍射分析

    圖4給出了Ti-MOFs和MoS2/Ti-MOFs的XRD譜圖,位于6.7°、9.8°、11.9°、17.7°、19.5°和25°的特征峰分別歸因于Ti-MOFs的(101)、(002)、(211)、(301)、(004)和(101)晶面[22]。MoS2/Ti-MOF的XRD譜圖中不僅可以觀察到Ti-MOFs的所有特征峰,還可以觀察到位于11.1°、33.4°和54.4°的特征峰,分別歸因于MoS2的(001)、(100)和(110)晶面結(jié)構(gòu)(JCPDS 37-1492)[33,39]。XRD測試結(jié)果進一步證實MoS2/Ti-MOFs復(fù)合材料的成功制備,且水熱反應(yīng)過程引入MoS2不會破壞Ti-MOFs的化學(xué)結(jié)構(gòu)。

    圖4 Ti-MOFs和MoS2/Ti-MOFs的XRD譜圖Fig.4 XRD patterns of Ti-MOFs and MoS2/Ti-MOFs

    2.3 材料的表面形貌

    圖5(a)給出了材料的微觀形貌圖,由圖中可見,制備的Ti-MOFs為多面體,粒徑約200~500 nm。MoS2/Ti-MOFs-80的SEM表明花狀多級結(jié)構(gòu)的MoS2均勻包覆在Ti-MOFs表面(圖5(b)),MoS2/Ti-MOFs的TEM圖(圖5(c))進一步證實了MoS2在Ti-MOFs表面的均勻分布。MoS2/Ti-MOFs的HRTEM圖(圖5(d))表明,晶格條紋間距0.13 nm對應(yīng)于Ti-MOFs的(101)晶面[40],晶格條紋間距0.273、0.624 nm分別對應(yīng)于MoS2的(100)及(002)晶面[41],該結(jié)果進一步證實了MoS2/Ti-MOFs的成功制備,MoS2與Ti-MOFs的不同元素之間能夠充分接觸且深入雜化。

    圖5 Ti-MOFs的SEM(a)以及MoS2/Ti-MOFs-80的SEM(b)、TEM(c)、HRTEM(d)Fig.5 SEM image of Ti-MOFs (a) and SEM (b),TEM (c), and HRTEM (d) images of MoS2/Ti-MOFs-80

    2.4 X射線光電子能譜分析

    圖6 MoS2與MoS2/Ti-MOFs-80的XPS全譜圖Fig.6 XPS spectra of MoS2 and MoS2/Ti-MOF-80

    圖7 不同元素高分辨率峰擬合的XPS譜圖Fig.7 High-resolution peak-fitting XPS spectra of different elements: (a) C1s; (b) N1s; (c) Ti2p; (d) O1s; (e) Mo3d; (f) S2p

    2.5 紫外-可見漫反射光譜分析

    Ti-MOFs和MoS2/Ti-MOFs在紫外光區(qū)域均表現(xiàn)出優(yōu)異光吸收能力,在可見光區(qū)域,MoS2/Ti-MOFs仍然表現(xiàn)較強的光吸收性,而Ti-MOFs對可見光的吸收極其微弱(圖8(a))。此外,Ti-MOFs在290和390 nm處的吸收特征峰可能歸因于有機金屬框架的Ti-O轉(zhuǎn)變[43]。MoS2/Ti-MOFs表現(xiàn)出顯著增強的可見光響應(yīng)性,表明花狀多級結(jié)構(gòu)的MoS2作為光敏化劑,可有效促進Ti-MOFs對可見光的吸收。

    圖8 Ti-MOFs與MoS2/Ti-MOFs-80的紫外-可見漫反射光譜(a)和光學(xué)帶隙寬度(b)Fig.8 UV-vis DRS (a) andoptical band gap(b)of Ti-MOFs and MoS2/Ti-MOFs-80

    MoS2/Ti-MOFs優(yōu)異的可見光響應(yīng)性可能歸因于復(fù)合材料的窄帶隙寬度。半導(dǎo)體材料的帶隙能根據(jù)Tauc plot法進行測算,計算公式如下[44]

    [(αhν)]n=A(hν-Eg)

    (1)

    式中:α為光吸收指數(shù);h為普朗克常量;v為頻率;A是常數(shù);Eg為半導(dǎo)體材料帶隙寬度。

    指數(shù)n與半導(dǎo)體類型有關(guān),即半導(dǎo)體為直接帶隙半導(dǎo)體,n=1/2;半導(dǎo)體為間接帶隙半導(dǎo)體,n=2。如圖8(b)所示,MoS2/Ti-MOFs-80的帶隙寬度為1.99 eV,明顯小于Ti-MOFs帶隙寬度(2.28 eV)。較窄的帶隙寬度有利于半導(dǎo)體材料對可見光的吸收,因此帶隙能測試結(jié)果進一步證實了MoS2的修飾可有效增強Ti-MOFs的可見光響應(yīng)性。

    2.6 光電化學(xué)性能分析

    圖9所示的線性掃描伏安曲線、電化學(xué)阻抗譜(EIS)、I-t曲線測試用于研究催化劑的光電化學(xué)性能。如圖9(a)所示,在可見光照射下,MoS2/Ti-MOFs的飽和光電流密度較Ti-MOFs明顯增大,且MoS2/Ti-MOFs-80的飽和光電流密度高達0.290 mA/cm2(0.3 V (vs.Ag/AgCl)),幾乎是Ti-MOFs(0.033 mA/cm2)的9倍,表明MoS2的負載可有效增強Ti-MOFs對可見光的響應(yīng)性,并且通過調(diào)控MoS2在Ti-MOFs表明的負載量及分布可有效優(yōu)化樣品的光電響應(yīng)性。

    圖9 Ti-MOFs與MoS2/Ti-MOFs在可見光照射下的LSV曲線(a),EIS Nyquist譜圖(b)和I-t曲線(c)Fig.9 LSV curves (a), EIS Nyquist plots (b),and I-t curves (c) of Ti-MOFs and MoS2/Ti-MOFs under visible light irradiation

    EIS測試用于進一步探究電極/電解質(zhì)界面處的電荷轉(zhuǎn)移動力學(xué)。如圖9(b)所示,在可見光照射下,MoS2/Ti-MOFs的EIS譜圖較Ti-MOFs表現(xiàn)更小的弧半徑,表明MoS2的引入可有效增加載流子的轉(zhuǎn)移通道,促進電子-空穴對的分離和轉(zhuǎn)移。此外,在所有樣品中,MoS2/Ti-MOFs-80的EIS譜圖顯示的弧半徑最小,意味著MoS2負載量為20%時,制備的催化劑表界面產(chǎn)生的光生電荷的轉(zhuǎn)移和分離效率最高。

    此外,從I-t曲線(圖9(c))可以看出,在施加0.30 V (vs. Ag/AgCl)的偏壓條件下,MoS2/Ti-MOFs的光電流密度較Ti-MOFs明顯增大,且光電流密度隨MoS2沉積量的不同表現(xiàn)出明顯差異,其中MoS2/Ti-MOFs-80表現(xiàn)最大的光電流密度。此外,經(jīng)過450 s的循環(huán)測試,合成的催化劑的光電流密度略有下降。以上結(jié)果進一步證實,MoS2用于修飾Ti-MOFs可有效增強其可見光響應(yīng)性;光電流密度與時間關(guān)系的循環(huán)測試表明,合成的催化劑具有較好的光電化學(xué)穩(wěn)定性。

    2.7 光電催化降解模擬有機污染物分析

    在進行光電催化降解實驗之前,先將初始質(zhì)量濃度為10 mg/mL的2,4,6-TCP溶液置于黑暗中攪拌30 min,以達到吸附平衡。在之后的可見光照射下進行光電催化降解過程中,每隔1 h取3 mL懸浮液進行離心分離,得到的上層清液用于測試有機物的吸光度。有機物的降解效率可根據(jù)式(2)計算得到[22]

    η%= 1-Ct/C0×100%

    (2)

    式中:C0為有機物初始濃度;Ct為光電催化實驗進行到tmin時的有機物濃度。

    如圖10(a)所示,經(jīng)過6 h的光照后,MoS2/Ti-MOFs-80光電極對2,4,6-TCP的去除效率達到82.59%,為Ti-MOFs(32.15%)的2.6倍,且高于其他成分的MoS2/Ti-MOFs對2,4,6-TCP的去除效率;在相同條件下,MoS2對2,4,6-TCP的去除效率為52.52%,低于合成的MoS2/Ti-MOFs對2,4,6-TCP的去除效率。結(jié)果表明,MoS2具有明顯的光電催化活性,將其用做助催化劑可有效增強Ti-MOFs的光電催化能力。

    為進一步探究催化劑對有機物污染物的去除效果,我們對2,4,6-TCP降解的動力學(xué)曲線進行了擬合,所根據(jù)的一級動力學(xué)方程如下[32]

    k=-t/ln(C0/Ct)

    (3)

    其中k為催化反應(yīng)動力學(xué)常數(shù)。計算得到相關(guān)的線性擬合系數(shù)R2,幾種材料的R2值均大于0.98,說明其線性擬合關(guān)系較好,符合一級動力學(xué)方程。如圖10(b)所示,MoS2/Ti-MOFs-80作為光電極時,有機物催化降解的動力學(xué)常數(shù)達到1.77 h-1,為Ti-MOFs(0.39 h-1)的4.5倍,且高于MoS2(0.74 h-1)、MoS2/Ti-MOFs-40(1.13 h-1)、MoS2/Ti-MOFs-90(1.19 h-1)及MoS2/Ti-MOFs-95(1.44 h-1)作為光電極對應(yīng)的有機物催化降解動力學(xué)常數(shù)。上述結(jié)果表明,MoS2作為助催化劑能夠有效增強Ti-MOFs的光電催化活性,且MoS2負載量為20%時,即MoS2/Ti-MOFs-80光電催化活性最強。MoS2負載量過大或者過小,合成的催化劑的催化活性均減弱,原因可能在于MoS2負載量過低時,不能夠為載流子的轉(zhuǎn)移和分離提供足夠的通道及帶隙寬度,而過量的MoS2則會堆積在Ti-MOFs表面,抑制了載流子的轉(zhuǎn)移和分離。

    圖10 在可見光照射下,Ti-MOFs與MoS2/Ti-MOFs分別對2,4,6-TCP光電催化降解的速率-時間曲線(a)及對應(yīng)的動力學(xué)線性模型(b)Fig.10 Photoelectrocatalytic degradation rate curves of 2, 4, 6-TCP by Ti-MOFs and MoS2/Ti-MOFs under visible light irradiation (a)and corresponding kinetic models (b)

    為了驗證光電催化的優(yōu)越性,我們以MoS2/Ti-MOFs-80作為催化劑,分別在黑暗、電催化(0.30 V(vs. Ag/AgCl))、光催化條件下對2,4,6-TCP進行降解,并將降解速率與光電催化降解速率進行對比(圖11(a))。MoS2/Ti-MOFs-80在黑暗、電催化(0.30 V(vs. Ag/AgCl))、光催化條件下對2,4,6-TCP的降解速率分別為5.80%、50.23%和72.51%,對應(yīng)的催化降解速率常數(shù)分別為0.060、0.698和1.291 h-1(圖11(b))。上述結(jié)果表明,MoS2/Ti-MOFs-80作為催化劑,光電催化降解有機物的效率明顯優(yōu)于電催化、光催化降解有機物的效率。光電催化過程優(yōu)于電催化、光催化過程可歸因于施加電壓和提供光照的協(xié)同效應(yīng)。

    圖11 MoS2/Ti-MOFs-80在不同條件下對應(yīng)的2,4,6-TCP降解速率-時間曲線(a)及對應(yīng)的動力學(xué)線性模型(b)Fig.11 Degradation rate curves of 2, 4, 6-TCP by MoS2/Ti-MOFs-80 under different conditions (a)and corresponding kinetic models (b)

    為了進一步證實合成的催化劑的光電催化穩(wěn)定性,我們進行了5次循環(huán)(每個循環(huán)周期為6 h)的光電催化降解模擬有機污染物實驗。研究結(jié)果表明,在經(jīng)過5次循環(huán)的光電催化降解實驗后,2,4,6-TCP的降解速率仍保持在80%以上(圖12(a)),說明制備的MoS2/Ti-MOFs-80具有較好的光電催化穩(wěn)定性。此外,經(jīng)過5次循環(huán)光電催化降解實驗后,MoS2/Ti-MOFs-80的微觀形貌(圖12(b))幾乎無改變,進一步證實光電催化過程對合成的催化劑的結(jié)構(gòu)、活性幾乎無影響。

    圖12 MoS2/Ti-MOFs-80在可見光照射下連續(xù)5次循環(huán)時2,4,6-TCP光電催化降解的速率-時間曲線(a)和SEM圖(b)Fig.12 Photoelectrocatalytic degradation rate curves of 2,4,6-TCP by MoS2/Ti-MOFs-80 for five consecutive cycling runs (a) and SEM image (b)

    3 結(jié) 論

    1) 借助簡單易行的水熱反應(yīng),將花狀多級結(jié)構(gòu)的MoS2成功負載至Ti-MOFs表面,制備了MoS2/Ti-MOFs復(fù)合材料。

    2) 在可見光照射下,MoS2/Ti-MOFs-80的光電流密度達到0.290 mA/cm2,MoS2/Ti-MOFs較Ti-MOFs表現(xiàn)出顯著增強的光電化學(xué)性能。

    3) MoS2/Ti-MOFs-80對有機污染物的光電催化降解效率較Ti-MOFs顯著提高;模擬有機污染物降解循環(huán)實驗證實合成的催化劑具有較好的光電催化穩(wěn)定性。

    4)MoS2/Ti-MOFs的成功制備為開發(fā)基于鈦金屬有機框架的催化劑提供了新思路,促進了廢水處理技術(shù)的發(fā)展,具有潛在的應(yīng)用前景。

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