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      溫度對(duì)牙膏用二氧化硅濕式比表面積的影響

      2022-06-13 02:30:58梁少彬侯燦明林英光
      口腔護(hù)理用品工業(yè) 2022年3期
      關(guān)鍵詞:二氧化硅濕式牙膏

      梁少彬 侯燦明 林英光

      (廣州市飛雪材料科技有限公司,廣東廣州 510030 ;金三江(肇慶)硅材料股份有限公司,廣東肇慶 526238)

      1 前言

      比表面積與材料的結(jié)構(gòu)及性能息息相關(guān)。目前,N2吸附比表面積在材料研究領(lǐng)域應(yīng)用最為廣泛,然而,N2吸附比表面積測(cè)試時(shí)間長(zhǎng),前處理繁瑣,只能測(cè)試氣-固界面,以氮?dú)庾鳛槲綄?duì)象,在液氮(約-195℃)的條件下進(jìn)行吸附。濕式比表面積(Acorn Surface Area,ASA)利用核磁共振原理,測(cè)試懸浮體系中單位質(zhì)量物料與分散介質(zhì)直接接觸的總面積,國(guó)際單位為m2/g[1],測(cè)試時(shí)間快速,平均測(cè)試時(shí)間僅需要約1分鐘,并且可測(cè)試大部分的懸浮液樣品。對(duì)任何大小、形狀的固體顆粒,特別是高濃度體系樣品,只要體系分散性較好,均可以直接測(cè)量出濕式比表面積。濕式比表面積是評(píng)價(jià)研磨液、藥物顆粒、電子材料、涂料、漿料等工業(yè)應(yīng)用的重要指標(biāo)之一[1-2]。

      目前,對(duì)于牙膏用二氧化硅濕式表面積的研究非常少,二氧化硅是牙膏配方的主要成分之一,特別是磨擦型牙膏用二氧化硅在牙膏配方中占比可達(dá)約20%[3],為高濃度的二氧化硅分散體系。由于二氧化硅在水介質(zhì)中具有親水性,表面可吸附大量水分[4],可使用核磁共振濕式比表面積進(jìn)行表征;牙膏用二氧化硅的ASA反映了粉體在水中的分散性,并可能與牙膏中的氟等活性離子的穩(wěn)定性相關(guān)聯(lián)。通過(guò)在水分散體系中利用核磁共振測(cè)試牙膏用二氧化硅表面吸附水與自由水的弛豫時(shí)間差異,可得到牙膏用二氧化硅的ASA;溫度不僅在干燥過(guò)程中影響二氧化硅的結(jié)構(gòu)與性能,也是影響二氧化硅顆粒表面吸附水的關(guān)鍵因素。因此,研究溫度對(duì)牙膏用二氧化硅濕式比表面積的影響具有重要的意義。

      2 實(shí)驗(yàn)部分

      2.1 原料與設(shè)備

      表1 實(shí)驗(yàn)原料

      表2 實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備

      2.2 二氧化硅樣品的制備

      取一定量的硫酸鈉溶液于反應(yīng)罐中,待反應(yīng)溫度升至78±1℃,先往反應(yīng)罐中加入一定量的水玻璃,調(diào)至pH=8~11,然后按照一定的流速同時(shí)滴加硫酸溶液于水玻璃溶液,控制過(guò)程pH=8~11。待水玻璃添加完畢,繼續(xù)滴加硫酸溶液進(jìn)行酸化至終點(diǎn)pH=4~5,陳化30min。洗滌、過(guò)濾,干燥(105℃)、破碎。取破碎后的樣品置于馬弗爐中,在不同溫度下煅燒5min,煅燒溫度分別為105℃、200℃、300℃、400℃、450℃、500℃、550℃、600℃。

      2.3 二氧化硅性能測(cè)試

      2.3.1 熱重TG-DSC測(cè)試

      取105℃干燥后的SiO2樣品,采用德國(guó)耐馳NETZSCH公司STA449F3型TG-DSC熱重分析儀,N2氛圍下,以10℃/min的速率升溫,溫度范圍30~1200℃。

      2.3.2 吸油值測(cè)定

      將試樣置于105℃烘箱中烘2h,取出在干燥器冷卻30min,然后稱取1.0g(精確至0.0001mg)置于玻璃板上,從微量滴定管中逐滴加入亞麻籽油,操作溫度在20℃左右。在滴定時(shí),用壓舌板不停地?cái)嚢?,使試樣逐漸稠化發(fā)黏。在接近滴定終點(diǎn)以前減慢滴加速度,充分?jǐn)嚢璞苊獾芜^(guò)終點(diǎn)。最后至樣品全部稠化,形成一團(tuán),板上不留稠化物和二氧化硅粉末為止。

      2.3.3 核磁共振濕式比表面積(ASA)及弛豫時(shí)間(t)測(cè)定

      稱取去離子水8.4g,加入二氧化硅3.6g,待二氧化硅全部浸潤(rùn)(粉體濃度30%),放置在震蕩器上,以轉(zhuǎn)速200rpm震蕩15min后快速移入XIGO ACORN AREA測(cè)定儀的核磁管中,上下倒置兩次,放入測(cè)試孔,點(diǎn)擊開始測(cè)試。二氧化硅的濕法比表面積弛豫率 KA為0.00571,去離子水的弛豫時(shí)間2100mS,微粒體積比0.202。

      3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與討論

      磨擦型二氧化硅實(shí)驗(yàn)樣品的熱重TG-DSC測(cè)試結(jié)果見圖1。

      由圖1的TG-DSC曲線圖可知,二氧化硅主要有兩個(gè)失重臺(tái)階;第一個(gè)失重臺(tái)階在30~200℃,歸因于脫去物理吸附水,二氧化硅水分含量為9%。DSC曲線表示在77℃出現(xiàn)強(qiáng)吸熱峰,此時(shí)快速脫去物理吸附水。第二個(gè)失重臺(tái)階在200~800℃,歸因于脫去化學(xué)吸附水(表面硅羥基)。600℃時(shí)熱失重為12%,已經(jīng)脫去絕大部分的化學(xué)吸附水。二氧化硅表面羥基較為活潑,脫水縮合所需的能量較低,200~800℃范圍內(nèi)發(fā)生脫羥基作用。800~1200℃脫除顆粒內(nèi)部的硅羥基(內(nèi)表面羥基),結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,介孔坍塌。二氧化硅內(nèi)表面羥基較為穩(wěn)定,脫水縮合所需要的能量較高,未達(dá)到所需的能量時(shí),內(nèi)表面羥基呈現(xiàn)穩(wěn)定狀態(tài)。

      圖1 二氧化硅TG-DSC曲線圖

      綜上所述,沉淀二氧化硅表面含有物理吸附水、化學(xué)吸附水及顆粒自身Si-OH。其中,化學(xué)吸附水稱之為表面羥基,顆粒自身Si-OH稱之為內(nèi)表面羥基。二氧化硅表面覆蓋著顆粒自身的Si-OH及化學(xué)吸附水的-OH,Si-OH表面往往被大量的吸附水包覆。200~600℃范圍內(nèi),二氧化硅即可脫去表面羥基。

      磨擦型二氧化硅實(shí)驗(yàn)樣品的濕式比表面積(ASA)、弛豫時(shí)間(t)及吸油值的測(cè)定結(jié)果見表3及圖2。

      表3 磨擦型二氧化硅濕式比表面積(ASA)、弛豫時(shí)間(t)及吸油值

      圖2 溫度與二氧化硅ASA及弛豫時(shí)間之間的關(guān)系

      由表3、圖2可知,105℃與200℃處理的樣品,忽略測(cè)試誤差,濕式比表面積(ASA)與弛豫時(shí)間基本沒有變化。很可能由于溫度<200℃,主要脫去物理吸附水,化學(xué)吸附水(表面羥基)仍然穩(wěn)定存在,對(duì)ASA無(wú)顯著影響。隨著溫度的升高,二氧化硅的ASA逐漸下降,弛豫時(shí)間逐漸增加。當(dāng)溫度為550℃,ASA=2.9m2/g,弛豫時(shí)間突然升高至267.7 ms;繼續(xù)升高溫度,ASA降低不明顯,因?yàn)槎趸枰呀?jīng)脫除大部分的表面羥基。結(jié)合圖1,200~600℃范圍內(nèi),二氧化硅脫去表面化學(xué)吸附水,即脫去部分表面羥基。因此,在水介質(zhì)中,減弱表面羥基與水的氫鍵作用,表面吸附水含量降低,吸附水與自由水之間的差異減少,ASA數(shù)值降低。

      根據(jù)表3可知,二氧化硅吸油值在91.2~92.0g/100g范圍內(nèi),無(wú)顯著變化。結(jié)合圖1, 在200~800℃范圍內(nèi),二氧化硅主要脫去物理、化學(xué)吸附水,不影響材料結(jié)構(gòu);在800~1200℃范圍內(nèi),主要脫去顆粒本身羥基,才會(huì)對(duì)顆粒結(jié)構(gòu)產(chǎn)生影響。綜上,600℃以下的溫度對(duì)二氧化硅孔結(jié)構(gòu)無(wú)明顯影響,吸油值不會(huì)顯著變化。通過(guò)溫度控制表面羥基含量,進(jìn)而調(diào)節(jié)二氧化硅的ASA,且不影響其孔結(jié)構(gòu)。

      根據(jù)以上分析,構(gòu)建核磁共振測(cè)試二氧化硅濕式比表面積模型。如圖3(a)所示,在核磁場(chǎng)中,通過(guò)間歇性的脈沖,水分子會(huì)出現(xiàn)定向排列;脈沖停止后,水分子恢復(fù)原始狀態(tài),由定向排列恢復(fù)到原始狀態(tài)的時(shí)間,稱之為弛豫時(shí)間。根據(jù)圖3(b)所示,顆粒表面吸附水與自由水不同,兩者的弛豫時(shí)間存在較大的差異,ASA由測(cè)試弛豫時(shí)間的差異計(jì)算所得。

      圖3 (a)核磁共振原理圖(Bo為磁場(chǎng),B1為脈沖),(b)二氧化硅表面吸附水與自由水

      二氧化硅為介孔材料,具有豐富的孔結(jié)構(gòu),因而對(duì)水具有吸附作用。在水溶液中,二氧化硅吸附水的途徑主要通過(guò)表面羥基與水分子之間的氫鍵作用。在核磁共振作用下,二氧化硅通過(guò)氫鍵結(jié)合的吸附水與自由水的弛豫時(shí)間必然存在差異,從而可以測(cè)定ASA值。反之也然,通過(guò)測(cè)定二氧化硅的ASA值,則反映二氧化硅表面羥基的含量。

      4 結(jié)論

      ①磨擦型牙膏用二氧化硅表面含有物理吸附水、化學(xué)吸附水(表面羥基)及顆粒自身Si-OH(內(nèi)表面羥基)。在200~600℃范圍內(nèi),二氧化硅即可脫去表面羥基,對(duì)二氧化硅孔結(jié)構(gòu)影響較少,不改變吸油值。

      ②核磁共振濕式比表面積ASA與二氧化硅表面羥基及其表面吸附水(水介質(zhì))相關(guān),表面羥基含量越高,吸附水越多,ASA越大。

      ③在200~600℃范圍內(nèi),通過(guò)溫度可調(diào)節(jié)二氧化硅ASA;提高溫度,可降低表面羥基含量,增加弛豫時(shí)間,進(jìn)而降低ASA。

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