李丹鳳,高超嵩,孫向明
(華中師范大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,湖北武漢 430079)
為了充分掌握大腦的意識(shí)活動(dòng),科學(xué)家與工程師一直在尋找并探索意識(shí)活動(dòng)的起源與機(jī)制。神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的高度連通性和協(xié)調(diào)的電信號(hào)活動(dòng)被認(rèn)為是大腦能夠處理高度復(fù)雜信息的原因[1]。為了研究其工作機(jī)制,傳統(tǒng)采用光學(xué)儀器的檢測(cè)方式效果較差[2]。為了能夠深入的探索神經(jīng)信號(hào)的特性,科學(xué)家們研制出了多種技術(shù),例如膜片鉗[3]、細(xì)胞染色技術(shù)[4]。隨著科學(xué)的發(fā)展,需要對(duì)神經(jīng)細(xì)胞進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間、無(wú)傷害以及多次多方面檢測(cè)時(shí)[5],上述方案目前也難以解決。最近幾年,互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體[6](Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)的提出,上述場(chǎng)景的實(shí)現(xiàn)變得可行化。將微電極陣列(Micro-Electrode Array,MEA)[7-11]用CMOS的形式實(shí)現(xiàn),將電極與信號(hào)處理集成在一起,可以記錄神經(jīng)細(xì)胞的狀態(tài)以及信號(hào)的傳輸。
文中提出了一種檢測(cè)神經(jīng)信號(hào)的高密度微電極陣列芯片,用于活體組織或者體外培養(yǎng)的神經(jīng)組織刺激后,進(jìn)行信號(hào)的記錄。將非侵入性電極與模擬前端電路集成在一塊芯片上,有利于提高模擬-數(shù)字轉(zhuǎn)換等信號(hào)處理模塊的信噪比,有利于提高芯片移植入腦的可行性,使得神經(jīng)細(xì)胞信號(hào)的記錄更具真實(shí)性。
高密度微電極陣列(MEA)芯片結(jié)構(gòu)框圖如圖1所示,其主要是由16 384 個(gè)像素單元、Scan Module、Analog Buffer、偏置Bias Module 等部分組成。像素單元可以刺激測(cè)試細(xì)胞,使其產(chǎn)生電位變化,讀出其電位,并通過(guò)片內(nèi)集成的Scan Module、Analog Buffer 讀出電位信息。每個(gè)像素模擬輸出后接行開(kāi)關(guān),一列像素最下端接列開(kāi)關(guān),通過(guò)Rolling-Shutter 的讀出結(jié)構(gòu),依次打開(kāi)一行像素,在該行開(kāi)關(guān)打開(kāi)時(shí),依次打開(kāi)每一列的列開(kāi)關(guān),依次將每個(gè)像素記錄電位信息發(fā)送至模擬驅(qū)動(dòng)電路,將像素中的模擬電壓值讀出至芯片外。
圖1 高密度微電極陣列芯片結(jié)構(gòu)框圖
高密度微電極陣列(MEA)芯片中單個(gè)像素的原理框圖如圖2 所示,其中包含電極(Topmetal)[12]、電荷靈敏放大器(CSA)[13]、傳輸門(mén)、兩級(jí)源跟隨電路、5bit SRAM 電路以及或門(mén)。電極用于收集電信號(hào),收集的電荷量通過(guò)電荷靈敏放大器放大后輸出,經(jīng)兩級(jí)源跟隨后通過(guò)行列開(kāi)關(guān)控制輸出。SRAM 電路可控制傳輸門(mén)的通斷,以實(shí)現(xiàn)刺激與記錄電位兩種不同的工作模式:當(dāng)傳輸門(mén)全閉合時(shí),運(yùn)放構(gòu)成源跟隨器,使得電極具有CSA_VREF 提供的電壓值,給測(cè)試細(xì)胞以電壓刺激;當(dāng)傳輸門(mén)打開(kāi)時(shí),電路恢復(fù)成電荷靈敏放大器的模式,記錄測(cè)試細(xì)胞的電位,以此記錄測(cè)試細(xì)胞在電壓刺激下產(chǎn)生的電位變化。
圖2 單個(gè)像素的原理框圖
2.1.1 電 極
電極主要是通過(guò)將像素陣列中單個(gè)像素點(diǎn)上的中心金屬暴露出來(lái)形成的;電極與內(nèi)部電路相連,當(dāng)外部電荷發(fā)生變化時(shí),電路會(huì)將該物理信號(hào)轉(zhuǎn)換成為電信號(hào)。裸露電極感應(yīng)到電信號(hào)后,通過(guò)電荷靈敏放大器將當(dāng)前的微弱信號(hào)進(jìn)行放大,得到脈沖信號(hào),可通過(guò)緩沖器以模擬形式輸出至外部示波器進(jìn)行觀察,或可通過(guò)數(shù)字處理后輸入至FPGA 再進(jìn)行處理與分析。
2.1.2 電荷靈敏放大器(CSA)電路
電荷靈敏放大器(CSA)主要是運(yùn)用在高能物理離子探測(cè)器的過(guò)程中,粒子通過(guò)探測(cè)器產(chǎn)生電信號(hào)。其設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)如圖3 所示,主要組成部分是密勒積分器[14],它擁有輸出電壓幅度穩(wěn)定、較高的信噪比等優(yōu)點(diǎn)。反饋電容Cf連接在放大器的輸入與輸出之間,從而構(gòu)成一個(gè)負(fù)反饋電路。Rf為反饋電阻,它不僅可以泄放Cf上積累的電荷(泄放時(shí)間常數(shù)τf=Cf×Rf),還可提供一個(gè)直流通路,從而使得CSA電路中運(yùn)放的靜態(tài)工作點(diǎn)保持穩(wěn)定。
圖3 電荷靈敏放大器的基本模型
其反饋電容Cf折合到輸入端,可由密勒效應(yīng)得到,總的輸入電容為:
輸入電壓幅度為:
輸出電壓幅度為:
當(dāng)A0足夠大時(shí),使得:
則輸出幅度可以近似為:
從式(5)可知,當(dāng)A0Cf?Cin+Cf時(shí),只要Cf是恒定的,不管Cin、A0是否穩(wěn)定,輸出電壓CSA_OUT與輸入電荷Q都成正比關(guān)系。而反饋電容Cf的改變同時(shí)對(duì)整體電路的靈敏性也發(fā)生變化,同時(shí)其容值的選取也與噪聲相關(guān),容值小,噪聲小,若容值過(guò)小,則會(huì)影響輸出的穩(wěn)定性,所以綜合考慮,進(jìn)行折中選擇。
反饋電阻Rf主要是泄放積累在電容Cf上電荷量。由于需要較大的阻值,為防止像素面積過(guò)大,利用MOS 管的特性,使其工作在線性區(qū)充當(dāng)電阻的作用,其導(dǎo)通電阻為:
2.1.3 兩級(jí)源跟隨
像素的CSA 將電極收集的電荷轉(zhuǎn)換成模擬電壓后,需要通過(guò)外部的讀出電路進(jìn)行輸出的讀出。為了保證所有像素CSA 的輸出穩(wěn)定可靠,源跟隨電路是必不可少的。圖4 是源跟隨電路結(jié)構(gòu)圖。兩級(jí)源跟隨的設(shè)計(jì)方案采用經(jīng)典源跟隨電路結(jié)構(gòu)[15]:第一級(jí)為P管跟隨,其靜態(tài)工作電流利用像素陣列中的偏置電路使其靜態(tài)工作電流保持2 μA,從而可以提高CSA 輸出的穩(wěn)定性;第二級(jí)釆用N管跟隨,主要通過(guò)陣列中SCAN 模塊進(jìn)行控制,以保證讀出過(guò)程中能夠依次獨(dú)立地選擇到每一個(gè)像素,其工作電流通過(guò)陣列共享的N管電流鏡在芯片外部設(shè)置。從版圖中可以得出第二級(jí)的驅(qū)動(dòng)電路較多、金屬走線過(guò)長(zhǎng),從而產(chǎn)生了大容量的負(fù)載工作電流,其相比第一級(jí)要大很多,當(dāng)前電路的典型值為20 μA。
圖4 源跟隨電路結(jié)構(gòu)圖
2.1.4 SRAM模塊
5-bit SRAM 存儲(chǔ)像素陣列的開(kāi)關(guān)數(shù)據(jù)。單個(gè)SRAM 單元采用6 管結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)會(huì)增加電路中的靜態(tài)電流,SRAM 數(shù)據(jù)的寫(xiě)入控制通過(guò)WE 引腳進(jìn)行操作,當(dāng)WE 引腳為高時(shí)功能有效。SDRAM 只有當(dāng)陣列的行列選擇信號(hào)以及WE 使能有效時(shí),SRAM 內(nèi)部數(shù)據(jù)才會(huì)被刷新,其時(shí)刻均保持原來(lái)數(shù)據(jù)不變。
在傳統(tǒng)6 管的結(jié)構(gòu)上,對(duì)存儲(chǔ)單元進(jìn)行了改進(jìn),如圖5 所示,M6 的漏極不是直接連到SRAM_Q 上,而是通過(guò)晶體管M5 連接,晶體管M5 導(dǎo)通時(shí),會(huì)切斷輸出信號(hào)SRAM_Q 和輸入信號(hào)D,避免寫(xiě)入存儲(chǔ)單元時(shí),SRAM_Q 和D 之間的競(jìng)爭(zhēng),這個(gè)存儲(chǔ)單元是在沒(méi)有讀取啟用的情況下設(shè)計(jì)的,是直接驅(qū)動(dòng)負(fù)載,當(dāng)M6 導(dǎo)通時(shí),數(shù)據(jù)寫(xiě)入。
圖5 SRAM電路結(jié)構(gòu)圖
高密度微電極陣列(MEA)芯片的像素是128行×128 列。行列掃描(Scan)模塊產(chǎn)生COL<0:127>,ROW<0:127>的開(kāi)關(guān)信號(hào),掃描到某行某列時(shí),輸出該像素內(nèi)的模擬信號(hào)。
Scan 模塊信號(hào)框圖如圖6 所示,“L”型放置于芯片的左下邊緣成半包圍的結(jié)構(gòu)。輸入端共有一個(gè)時(shí)鐘信號(hào),3 個(gè)控制信號(hào),輸出為1 位標(biāo)志位信號(hào)和行列掃描控制信號(hào)。時(shí)鐘信號(hào)CLK_S 頻率范圍在1~40 MHz 之間才能有效的驅(qū)動(dòng)該模塊,時(shí)鐘高電平為1.2 V,低電平為0 V;RST_S 為異步復(fù)位信號(hào),高電位有效;START_S 為像素掃描起始信號(hào),單脈沖高電位有效;SPEAK_S 為狀態(tài)切換信號(hào),當(dāng)該信號(hào)為高電平時(shí),為掃描狀態(tài);低電平時(shí),掃描停止在當(dāng)前像素。信號(hào)之間的時(shí)序如圖7 所示。
圖6 Scan模塊整體布局
圖7 Scan模塊時(shí)序圖
MARKER_A 為標(biāo)志信號(hào),每次掃描到像素陣列的第一個(gè)像素時(shí),輸出一個(gè)脈沖信號(hào),寬度為一個(gè)時(shí)鐘周期,每出現(xiàn)一次該信號(hào),說(shuō)明芯片掃描完成一幀。時(shí)序圖根據(jù)仿真結(jié)果計(jì)算得到,在實(shí)際測(cè)試過(guò)程中,復(fù)位信號(hào)可適當(dāng)增長(zhǎng),START_S 和SPEAK_S信號(hào)也可在復(fù)位信號(hào)結(jié)束后幾個(gè)周期再啟動(dòng),確保系統(tǒng)能夠正常工作。
單個(gè)像素電極的版圖結(jié)構(gòu)如圖8 所示,整體面積是36.5 μm×25.5 μm,其中,標(biāo)注1是保護(hù)環(huán)Guarding,與Topmetal 電極距離為3 μm(工藝允許的最小間距),環(huán)繞Topmetal 一圈,采用頂層金屬M(fèi)TT 層;標(biāo)注2 是Topmetal 電極,面積是21.4 μm×10.3 μm,為頂層金屬M(fèi)TT 層;標(biāo)注3 是電極開(kāi)窗,位于電極中心區(qū)域17.4 μm×6.3 μm 的部分,利用PA 層開(kāi)窗后形成的裸露電極,用來(lái)收集電荷。
圖8 單個(gè)像素電極版圖結(jié)構(gòu)
Guardring 與Topmetal 電極是彼此互不相關(guān)的,二者之間會(huì)產(chǎn)生電勢(shì)差,從而在電極周圍會(huì)形成一個(gè)電場(chǎng),在電場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)下,會(huì)將更多的電荷收集到像素點(diǎn)上,從而提高電荷收集效率以及信號(hào)變化強(qiáng)度。
由式(5)可知,反饋電容的值決定電荷靈敏放大器的靈敏度以及噪聲的大小,折中考慮后其容值選擇為10 fF。反饋電阻是用工作在線性區(qū)的MOS 管替代的,利用版圖中引伸出兩層金屬走線,層數(shù)之間增加一個(gè)10 fF的反饋電容,提高了靈敏度與信噪比。
對(duì)單個(gè)像素的版圖不斷寄生提取與優(yōu)化,從而提升CSA 的電路性能。反饋電容與反饋電阻部分版圖如圖9 所示。
圖9 反饋電容與反饋電阻部分版圖結(jié)構(gòu)
該芯片采用的是華虹宏力CMOS 130 nm 工藝,版圖加上IOPAD 后的面積是5.8 mm × 4.2 mm,包含181 個(gè)引腳分布在芯片的四周,版圖如圖10 所示,并在圖中放大其中4 個(gè)像素。
圖10 高密度微電極陣列芯片整體版圖
利用Cadence、Spectre工具進(jìn)行后仿真驗(yàn)證,版圖的仿真波形如圖11所示。當(dāng)輸入的電荷數(shù)是1 K庫(kù)侖時(shí),理論值的計(jì)算是16 mV,輸出的幅度是11.79 mV。且得到等效電荷噪聲ENC為27e-,上升時(shí)間為1 μs。
圖11 版圖的仿真波形
高密度微電極陣列芯片已完成流片工作,并已經(jīng)完成印制電路板(PCB)設(shè)計(jì),且完成了芯片的性能測(cè)試,通過(guò)顯微鏡可以查看該芯片的外觀圖,如圖12所示。圖13為芯片測(cè)試框圖,信號(hào)源偽隨機(jī)碼序列[16](PBRS)BERT 為芯片提供下降幅度為4 mV 的輸入信號(hào),通過(guò)可編程邏輯器件,為芯片提供所需的參考電壓,示波器內(nèi)部是50 Ω的電阻?;诖?,觀察輸出信號(hào),輸出信號(hào)如圖14 所示。
圖12 芯片在顯微鏡下的實(shí)物圖
圖13 芯片電學(xué)性能測(cè)試框圖
圖14 輸出信號(hào)結(jié)果圖
該設(shè)計(jì)采用商用GSMCR CMOS 130 nm 工藝,設(shè)計(jì)了一款高密度微電極陣列芯片,后仿真結(jié)果表明,各項(xiàng)指標(biāo)均達(dá)到預(yù)期。等效電荷噪聲ENC 為27e-,上升時(shí)間為1 μs;像素面積為36.5 μm×25.5 μm。該芯片實(shí)現(xiàn)了16 384 個(gè)讀出通道的技術(shù)可行性,可用于高空間分辨率的神經(jīng)元網(wǎng)絡(luò)活動(dòng)記錄。文中設(shè)計(jì)的這款高密度微電極陣列芯片可以在不同波形、振幅和持續(xù)時(shí)間刺激的情況下測(cè)試細(xì)胞,并記錄其電位變化。通過(guò)細(xì)胞外記錄,評(píng)估體外細(xì)胞的行為,篩選藥物或檢測(cè)有害物質(zhì)。