周 丹,霍 杰,袁曉春,崔 潔
(北京中電科電子裝備有限公司,北京100176)
目前面陣相機的核心成像部件有兩種[1]:一種是廣泛使用的CCD(電荷藕合)元件;另一種是CMOS(互補金屬氧化物半導(dǎo)體)器件。
這兩種面陣相機最小感光單位都是像素單元,兩者都是利用感光二極管進(jìn)行光電轉(zhuǎn)換,將圖像轉(zhuǎn)換為數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù),并通過模數(shù)轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號將數(shù)據(jù)傳輸給計算機,借助計算機處理手段可以進(jìn)行輪廓定位,反饋輪廓中心在像素陣列中像素位置(X,Y),如圖1所示。
圖1 特征點在像素中位置
在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,通常會通過標(biāo)定運動機構(gòu)坐標(biāo)系與相機坐標(biāo)系[2],來實現(xiàn)相機定位后運動機構(gòu)補償。補償方法是:首先標(biāo)定運動機構(gòu)與相機位置關(guān)系,假定運動機構(gòu)位置(CenterPosX,Center PosY)與相機中心點(CenterX,CenterY)位置重合。數(shù)碼相機進(jìn)行定位后得出目標(biāo)中心在相機坐標(biāo)系內(nèi)位置(X,Y)。
在兩個坐標(biāo)系完全平行狀態(tài)下,相機X向與Y向只在對應(yīng)的運動坐標(biāo)系X向和Y向上產(chǎn)生影響。兩坐標(biāo)系關(guān)系如圖2所示。
圖2 運動坐標(biāo)系與相機坐標(biāo)系狀態(tài)
運動機構(gòu)坐標(biāo)系與相機坐標(biāo)系平行時,將相機坐標(biāo)系內(nèi)目標(biāo)中心(X,Y)轉(zhuǎn)換到運動機構(gòu)坐標(biāo)系內(nèi)位置(TargetPosX,TargetPosY),其計算如公式(1)所示。
Wafer Map圖包含整個晶圓中每個芯片的布局,如圖3所示。它是將芯片的好與壞和芯片的其它測試狀態(tài)信息反映到Map圖中,在生產(chǎn)測試過程中,用Map圖對所有芯片進(jìn)行分類,分為合格的芯片和失效的芯片,設(shè)備按照Map圖輸入,就能自動完成操作,做到了生產(chǎn)線自動化,提高了效率。
圖3 Wafer Map圖
面陣相機的視場范圍為10 mm×10 mm,描述一個直徑為200 mm的晶圓,晶圓內(nèi)部有部分MARK點,芯片大小為1 mm×1 mm,建立一個200 mm×200 mm的正方形范圍,用黑色區(qū)域填充,將掃描到有效芯片的識別結(jié)果用空格方框表示,部分無效芯片及MARK點用實心方框表示,如圖4所示。將10 mm×10 mm的相機從左到右依次掃描,每行掃描20次,共20行,全范圍拼接,覆蓋全部正方形范圍。
圖4 200 mm×200 mm Wafer Map圖
將每次掃描相機內(nèi)識別結(jié)果計算為絕對坐標(biāo)系,并通過絕對坐標(biāo)系計算某顆芯片坐標(biāo)點[3],相機掃描定位后得出芯片中心在相機坐標(biāo)系內(nèi)位置(TrsPosX,TrsPosY)。設(shè)運動機構(gòu)位置(CoorPosX,CoorPosY),相 機 中 心 點 位 置 為(CenterX,CenterY),芯片大小為1 mm×1 mm,則步距為1 mm,可通過公式(2)計算出偏差值OffsetX,OffsetY,然后通過公式(3)計算出識別到的點在運動機構(gòu)坐標(biāo)系內(nèi)位置(CurCoorX,CurCoorY)。根據(jù)計算出的識別結(jié)果填充該坐標(biāo)點Map類型。
該方法可以完整掃描到整個Wafer中每一個芯片信息,如圖4所示,空格方框為識別到的芯片,識別到的MARK點用實心方框標(biāo)記。
面陣相機的視場范圍為10 mm×10 mm,芯片大小為1 mm×1 mm,該算法具體描述如下:
(1)建立一個200 mm×200 mm的正方形范圍,用黑色區(qū)域填充,假定邏輯MAP為(100,100)為中心,半徑為100 mm的圓;
(2)運動相機依次掃描每一行的最左端和最右端,每行掃描2次,共20行,每一行返回邊緣兩個點的坐標(biāo)位置,將每次掃描到的邊緣用實心三角框表示,如圖5所示;
圖5 邊緣識別算法Wafer Map圖
(3)將每行掃描結(jié)果中間區(qū)域填充為空格方框,認(rèn)為是有效芯片。
該方法每行掃描2次,并根據(jù)識別結(jié)果填充該晶圓邊緣部分,可以準(zhǔn)確得出與實際邊緣部分相符的晶圓MAP,減少了識別次數(shù),大大提高了算法效率。
假定面陣相機的視場范圍為10 mm×10 mm,晶圓直徑為200 mm,芯片大小為1 mm×1 mm,兩種算法比較如表1所示。
表1 兩種算法比較
從表1可以看出,全范圍識別算法可以如實反映整個晶圓情況,可應(yīng)用于倒裝機,貼片機等設(shè)備;邊緣識別算法用時少,效率高,檢測晶圓的邊緣信息,內(nèi)容采用邏輯填充,適用于晶圓自身良率高、差異只出現(xiàn)在邊緣部分的情況,可應(yīng)用于探針臺等設(shè)備。