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    一種新型SISL 分支線3 dB 定向耦合器

    2021-07-11 13:58:52牟成林劉長(zhǎng)軍
    應(yīng)用科技 2021年4期
    關(guān)鍵詞:通孔基板分支

    牟成林,劉長(zhǎng)軍

    四川大學(xué) 電子信息學(xué)院,四川 成都 610064

    定向耦合器[1]作為微波電路中重要的無(wú)源器件,可以在輸入輸出端口間實(shí)現(xiàn)功率分配,并保持一定的相位差,廣泛應(yīng)用于混頻器、平衡放大器以及陣列天線饋電網(wǎng)絡(luò)等方面。近年來(lái),基于不同傳輸線結(jié)構(gòu)的高性能定向耦合器不斷出現(xiàn),如波導(dǎo)[2]、基片集成波導(dǎo)[3]、微帶線[4]和懸置帶狀線[5-6]等。懸置帶狀線中的電場(chǎng)主要分布在空氣腔中,具有損耗低、色散低、等效介電常數(shù)低以及電磁兼容性好等優(yōu)點(diǎn)。然而傳統(tǒng)的懸置帶狀線由金屬腔體構(gòu)成,加工相對(duì)復(fù)雜、成本較高。新型介質(zhì)集成懸置線(SISL)[7-9]采用印制電路板(printed circuit board,PCB)加工工藝替代金屬腔體加工,保留了懸置帶狀線的優(yōu)點(diǎn),同時(shí)具有成本低、重量輕和自封裝等優(yōu)勢(shì)。方同軸傳輸線[10]具有寬頻帶、低色散以及結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的特點(diǎn),在航天領(lǐng)域得到了應(yīng)用。本文提出了一種新型SISL 分支線定向耦合器,在SISL 的基礎(chǔ)上借鑒同軸結(jié)構(gòu)的優(yōu)勢(shì),將空氣腔中心填充表面敷銅、由金屬通孔包圍的介質(zhì)基板,使耦合器分支線形成類似于同軸的傳輸結(jié)構(gòu),進(jìn)一步減小了色散,提高了結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。采用同軸接頭進(jìn)行直接饋電,省去過(guò)渡結(jié)構(gòu),既縮小了尺寸,又降低了損耗。

    1 介質(zhì)集成懸置線結(jié)構(gòu)及設(shè)計(jì)

    圖1 為SISL 的三維結(jié)構(gòu)圖,由5 層雙面敷銅的介質(zhì)基板構(gòu)成,介質(zhì)基板和金屬層自上而下分別命名如圖1 所示。將第2 層和第4 層介質(zhì)基板局部切除形成空氣腔,在空氣腔周圍由金屬通孔模擬金屬波導(dǎo)的邊界條件,實(shí)現(xiàn)電磁屏蔽,其橫截面如圖2 所示。5 層介質(zhì)基板(substrate,Sub)材料均為FR-4,微波電路設(shè)計(jì)在Sub3 的上層G5 金屬層。

    圖1 SISL 三維結(jié)構(gòu)

    圖2 SISL 橫截面示意

    根據(jù)參考文獻(xiàn)[11],SISL 傳輸線的等效介電常數(shù)為

    式中:h=h2+h3+h4,其中,h2、h3、h4分別為第2、3、4 層介質(zhì)基板的厚度;εr為介質(zhì)基板相對(duì)介電常數(shù)。

    特征阻抗為

    式中

    其中ws為金屬導(dǎo)帶的寬度。

    本設(shè)計(jì)采用同軸直接饋電,在選擇介質(zhì)基板高度和空氣腔寬度時(shí),應(yīng)使SMA 接頭的法蘭盤完全遮蓋空氣腔,形成封閉結(jié)構(gòu),并且使耦合器饋線的金屬導(dǎo)帶寬度大于同軸接頭探針寬度。

    設(shè)計(jì)介質(zhì)基板厚度h1=0.6 mm,h2=1 mm,h3=0.6 mm,h4=1 mm,h5=0.6 mm;空氣腔寬度wa=8 mm。保持其他參數(shù)不變,改變第3 層介質(zhì)基板Sub3上面的金屬導(dǎo)帶寬度ws,SISL 特征阻抗變化趨勢(shì)如圖3 所示。選擇合適的線寬,即可得到需要的SISL 特征阻抗。

    圖3 SISL 特征阻抗與線寬ws 的關(guān)系

    2 分支線定向耦合器原理及設(shè)計(jì)

    如圖4 所示,分支線定向耦合器由2 條主線和2 條分支線組成,其中分支線的長(zhǎng)度和間距均為1/4波長(zhǎng)。所有端口均匹配,從端口1 輸入的功率平均分配給端口2 和端口3,且兩輸出端口之間存在90°相移,端口4 隔離。圖4 中,λg為中心頻率工作波長(zhǎng),Z0為歸一化阻抗。

    圖4 分支線定向耦合器原理

    耦合器散射參數(shù)[12]為

    基于上述原理,設(shè)計(jì)一款中心頻率工作于2.45 GHz 的SISL 分支線定向耦合器,其金屬導(dǎo)帶所在的G5 金屬層結(jié)構(gòu)如圖5(a)所示。在正交混合網(wǎng)絡(luò)的中心敷銅,使每一條支線都保持相同尺寸的SISL 傳輸通路,通路兩側(cè)用金屬通孔模擬金屬邊界條件,實(shí)現(xiàn)電磁屏蔽。介質(zhì)基板堆疊利用金屬通孔進(jìn)行定位,鉚釘穿過(guò)金屬通孔將5 層介質(zhì)基板鉚接在一起,實(shí)現(xiàn)SISL 結(jié)構(gòu)的自封裝。

    由上述分析可知,若通過(guò)介質(zhì)堆疊形成空氣腔,需要將Sub2 拆分成5 塊介質(zhì)基板,其形狀尺寸如圖5(b)所示。其中Sub2-3 的存在不僅提高了SISL 結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性,而且具有降低色散、減小損耗的優(yōu)勢(shì)。由圖4 可知,耦合器各分支線設(shè)計(jì)初始線長(zhǎng)為四分之一波長(zhǎng),可由式(1)計(jì)算得SISL 等效介電常數(shù),進(jìn)而求得初始線長(zhǎng)。分支線特征阻抗分別為Z0和Z0/初始線寬可由圖3特征阻抗和線寬ws的關(guān)系得到。實(shí)際尺寸為:W0=2.4 mm,L0=10 mm,W1=4 mm,L1=28 mm,W2=2.4 mm,L2=28.5 mm。

    圖5 SISL 結(jié)構(gòu)平面示意

    為驗(yàn)證SISL 分支線定向耦合器的低損耗特性,利用HFSS 仿真工具進(jìn)行全波仿真。設(shè)計(jì)相同工作頻率的微帶(microstrip)分支線定向耦合器,介質(zhì)基板采用厚度為0.6 mm 的FR-4,對(duì)比2 種結(jié)構(gòu)的損耗曲線如圖6 所示。

    圖6 SISL 耦合器與微帶線耦合器損耗對(duì)比

    由文獻(xiàn)[13]可知功率損耗Ploss計(jì)算公式為

    仿真結(jié)果表明,SISL 定向耦合器的損耗在整個(gè)頻段內(nèi)均遠(yuǎn)低于微帶線結(jié)構(gòu),并且隨著頻率的升高,二者之間的差別越來(lái)越大,印證了SISL 定向耦合器的低損耗特性。

    3 測(cè)試結(jié)果與分析

    耦合器整體尺寸為53.6 mm×58.3 mm×3.8 mm,實(shí)物如圖7 和圖8 所示。在實(shí)際加工時(shí),將SMA接頭的法蘭盤焊接到SISL 結(jié)構(gòu)G1 層和G10 層,實(shí)現(xiàn)共同接地。在Sub1 和Sub5 耦合器端口處增加一排金屬通孔,縮短電流路徑,改善過(guò)渡結(jié)構(gòu)的電性能。

    圖7 SISL 耦合器加工實(shí)物

    圖8 SISL 每層介質(zhì)基板加工實(shí)物

    定向耦合器仿真與實(shí)測(cè)結(jié)果如圖9 和圖10所示,測(cè)試儀器使用Agilent 矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀。在中心頻率2.45 GHz 處,回波損耗和隔離度均優(yōu)于28 dB。頻率在2.3~2.6 GHz 時(shí),回波損耗和隔離度均高于20 dB;傳輸端口|S21|為-3.12 dB,幅度不平衡度為±0.18 dB;耦合端口|S31|為-3.39 dB,幅度不平衡度為±0.15 dB;輸出端口之間的相位差為90°±1°。SISL 結(jié)構(gòu)等效介電常數(shù)低,受介質(zhì)基板參數(shù)影響很小,因此仿真與實(shí)測(cè)結(jié)果吻合良好。

    圖9 SISL 定向耦合器仿真與實(shí)測(cè)S 參數(shù)

    圖10 SISL 定向耦合器仿真與實(shí)測(cè)輸出端口相位差

    表1 為本設(shè)計(jì)與其他文獻(xiàn)中定向耦合器性能對(duì)比,其中相對(duì)帶寬的指標(biāo)為回波損耗和隔離度,均優(yōu)于20 dB。由表1 可知,SISL 不僅以低成本的介質(zhì)基板實(shí)現(xiàn)了耦合器優(yōu)良的電性能,并且具有損耗小、自封裝等優(yōu)勢(shì),工程應(yīng)用價(jià)值較高。

    表1 定向耦合器性能對(duì)比

    4 結(jié)論

    本文設(shè)計(jì)了一種中心頻率工作于2.45 GHz 的新型基于SISL 分支線3 dB 定向耦合器,與傳統(tǒng)耦合器結(jié)構(gòu)相比,主要具有如下特點(diǎn)。

    1)提出一種基于SISL 分支線3 dB 定向耦合器結(jié)構(gòu),將第2 層和第4 層介質(zhì)基板分解,使耦合器的每條支路保持相同的SISL 傳輸結(jié)構(gòu),降低了色散,提高了結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性。

    2)饋電方式采用同軸直接饋電,去掉過(guò)渡結(jié)構(gòu),在介質(zhì)基板的饋電端口處添加金屬通孔提高電性能,既減小了尺寸,又降低了電路損耗。

    3)基于SISL 傳輸線結(jié)構(gòu),利用金屬通孔模擬金屬波導(dǎo)邊界條件,電磁波主要在空氣中傳播,具有損耗小、受介質(zhì)基板參數(shù)影響小、電磁兼容性好和自封裝等優(yōu)勢(shì)。

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