張麗穎,顧菊觀
(湖州師范學(xué)院理學(xué)院,浙江 湖州 313000)
當(dāng)光從光疏介質(zhì)近似垂直或掠入射到光密介質(zhì)時,反射光有位相突變(或稱半波損失)。薄膜干涉中,當(dāng)薄膜處于介質(zhì)中,其上下表面反射時,兩束反射光之間因位相突變必然會產(chǎn)生額外的位相差或光程差。對于牛頓環(huán)干涉,上下表面及干涉膜折射率大小關(guān)系不同時,其對應(yīng)的額外光程差不同。目前的光學(xué)教科書,對于額外光程差給出的表達式大致分為三類,姚啟均《光學(xué)教程》中額外光程差取/2-λ[1];章志鳴《光學(xué)》教材中額外光程差取 2/λ[2];鐘錫華《現(xiàn)代光學(xué)基礎(chǔ)》中額外光程差表述則取0 即不考慮半波損失因素[3],可見上述教材對于額外光程差都沒有給出一個明確的定義。郭有能[4]等人也曾在研究牛頓環(huán)干涉的過程中討論了不同折射關(guān)系下的額外光程差,但其分析結(jié)果依舊不夠準確。顯然這對初學(xué)者理解半波損失和額外光程差造成了一定的困難。
另外,通過計算機軟件可以模擬出各種情況下的干涉仿真圖像,其結(jié)果對于分析能夠起到一個很好的參考作用。唐平英[5]等人在研究光的衍射時就利用Mathematica 中交互功能更加生動形象地向讀者展示了模擬圖像。關(guān)于牛頓環(huán)干涉實驗,目前已有許多利用Matlab 模擬得出的研究成果。例如,郭天宇、韋仙、申惠娟[6-8]等學(xué)者研究的入射光波長、曲率半徑、折射率等因素對于牛頓環(huán)干涉圖案變化的影響,但仿真圖樣基本為靜態(tài)圖且不夠生動形象。
基于上述兩個問題,將在已有的基礎(chǔ)上進一步探究當(dāng)牛頓環(huán)上下表面及干涉膜的折射率大小關(guān)系不同時,其對應(yīng)的光程差的表達式。并借助Mathematica 軟件模擬出的光強分布和條紋干涉圖樣對其進行具體分析。根據(jù)曹佳妍[9]等人的研究可知牛頓環(huán)干涉圖樣的改變會影響牛頓環(huán)半徑的測量,因此該研究結(jié)果不僅能夠更加形象直觀地加深學(xué)生對光干涉現(xiàn)象的理解,了解和掌握Mathematica 在物理學(xué)及光學(xué)中的應(yīng)用,而且對于教學(xué)工作也具有很好的指導(dǎo)意義。
如圖1 牛頓環(huán)結(jié)構(gòu)圖所示,上面部分為平凸透鏡,下面部分為平面玻璃,中間部分則是平凸透鏡的凸球面和玻璃平板之間形成的簿膜。當(dāng)平行單色光垂直入射于平凸透鏡的平表面時,薄膜的上下兩表面(平凸透鏡的下表面和平板玻璃的上表面)所引起的反射光線產(chǎn)生干涉,因相同光程差即相同厚度處對應(yīng)的軌跡是圓,因此使干涉圖樣呈圓環(huán)狀,即牛頓環(huán)。
圖1 牛頓環(huán)結(jié)構(gòu)圖
設(shè)介質(zhì)薄膜上下兩表面反射光的光程差為δ,當(dāng)δ=jλ時,干涉加強,形成亮條紋;當(dāng)
時,干涉減弱,形成暗條紋;根據(jù)幾何關(guān)系,
由于R>>d,d2可以略去,則
由于兩列相干光的光強很接近,因此可以近似認為I1=I2=I0,則兩列光波在干涉場中相遇時的光強為
由于n1、n2、n3三者關(guān)系的不同,需要考慮半波損失。半波損失是指當(dāng)入射光在光疏介質(zhì)中前進,遇到光密介質(zhì)的界面時,在掠射或正入射兩種情況下,反射光的振動方向?qū)τ谌肷涔獾恼駝臃较蚨紟缀跸喾?,即產(chǎn)生半波損失[1]。
對于多束光線(如圖2所示)的干涉問題,魯一清[10]等人已進行了具體的討論,結(jié)果表明只有1、2兩光束會發(fā)生干涉。接下來,對于1、2兩束光的光程差本文將根據(jù)折射率n1、n2、n3的大小關(guān)系分為三類情況具體討論。
圖2 光束干涉示意圖
根據(jù)半波損失產(chǎn)生條件,可知薄膜上表面反射光1產(chǎn)生半波損失(L1=L10+λ/2),薄膜下表面產(chǎn)生的反射光2無半波損失(L2=L20),結(jié)果兩束反射光有額外位相差π,即額外光程差為λ/ 2,則光程差:
根據(jù)半波損失產(chǎn)生條件,可知薄膜上表面反射光1無半波損失(L1=L10),薄膜下表面產(chǎn)生的反射光2產(chǎn)生半波損失(L2=L20+λ/2),結(jié)果兩束反射光有額外位相差π,即額外光程差λ/ 2,則光程差:
根據(jù)半波損失產(chǎn)生條件,n1>n2>n3情況下1、2兩束反射光均無半波損失(L1=L10,L2=L20);而n1<n2<n3情況下1、2兩束反射光均產(chǎn)生半波損失(L1=L10+λ/2,L2=L20+λ/2)。兩種情況下的1、2兩束反射光額外位相差都為0,即額外光程差為0,則光程差:
在Mathematica 仿真過程中,利用‘Manipulate’命令將交互式動態(tài)光強分布與條紋干涉圖樣呈現(xiàn)出來.通過改變薄膜的折射率n2得到以下動態(tài)仿真圖像:
已知Δφ=,結(jié)合(3)、(4)式得到合成光強
令n1=n3=1.5、R=1.5m、λ= 550nm,改變折射率n2,可得:
從圖3 可分析知,在n1<n2>n3的情況下,牛頓環(huán)中心光強為極小值且干涉條紋中心為暗紋。當(dāng)折射率n2增大時,條紋整體向中心縮小但不消失,相鄰的最大或最小的光強對應(yīng)的間距逐漸變小;而對于干涉圖樣來說,條紋數(shù)量逐漸增多即明暗條紋間距越來越密。
圖3 n1 < n2>n3時折射率 n2改變的光強分布與干涉圖樣
已知Δφ=,結(jié)合(3)、(6)式得到合成光強
令n1=n3=1.6、R=1.5m、λ= 550nm,改變折射率n2,可得:
從圖4 可分析知,在n1>n2<n3的情況下,牛頓環(huán)中心光強為極小值且條紋中心為暗紋。當(dāng)折射率n2增大時,條紋整體向中心縮小但不消失,相鄰的最大或最小的光強對應(yīng)的間距逐漸變小;而對于干涉圖樣來說,條紋數(shù)量逐漸增多即明暗條紋間距越來越密。
圖4 n1 > n2<n3時折射率 n2改變的光強分布與干涉圖樣
已知Δφ=,結(jié)合(3)、(8)式得到合成光強
當(dāng)折射率關(guān)系為n1>n2>n3時,令n1=2.8、n3=1.35、R=1.5m、λ= 550nm;當(dāng)折射率關(guān)系為n1<n2<n3時,令n1=1.35、n3=2.8、R=1.5m、λ= 550nm,兩種情況下改變折射率n2得到的圖像一致。
從圖5 可分析知,當(dāng)折射率n2增大時,條紋整體向中心縮小但不消失,相鄰的最大或最小的光強對應(yīng)的間距逐漸變小且明暗條紋間距越來越密。對比圖3、4,可發(fā)現(xiàn)在折射率大小關(guān)系為n1>n2>n3和n1<n2<n3時,牛頓環(huán)中心光強為極大值,即干涉圖樣中央條紋為亮紋。
圖5 n1> n2>n3和 n1 < n2<n3時折射率 n2改變的光強分布與干涉圖樣
在折射率n1、n2、n3大小關(guān)系不同的情況下,其干涉條紋圖樣的變化趨勢一致:隨著薄膜折射率n2的增大同一干涉級條紋由外向中心移動,所能看到的條紋數(shù)量逐漸增加,由此得出條紋半徑rj和相鄰條紋間距Δr會隨著薄膜折射率n2的增加而減小。不同的是,對于n1<n2>n3和n1>n2<n3兩種情況,在折射率n2相同時其條紋數(shù)量、明暗條紋分布完全相同且圓環(huán)中心為暗紋。而對比圖5,可發(fā)現(xiàn)在折射率大小關(guān)系為n1>n2>n3和n1<n2<n3時,在折射率n2相同的情況下,干涉圖樣條紋數(shù)量增多,同一級的干涉條紋半徑變小且圓環(huán)中心為明紋。
根據(jù)半波損失原理討論了在牛頓環(huán)上下表面及干涉膜的折射率大小關(guān)系不同時對應(yīng)的額外光程差,并利用Mathematica 軟件對牛頓環(huán)的光強分布和干涉現(xiàn)象進行了動態(tài)的仿真模擬。仿真過程中通過調(diào)整輸入?yún)?shù),模擬出不同折射率情況下牛頓環(huán)干涉實驗的光強分布情況,生成的動態(tài)條紋干涉圖樣也更直觀地顯示出了隨著參數(shù)的改變牛頓環(huán)疏密、明暗程度的變化。有利于加深學(xué)生對于牛頓環(huán)干涉知識點、半波損失和額外光程差的理解。因此,計算機模擬生成的仿真圖樣可以廣泛用于實驗及理論教學(xué)過程中,不僅能夠有效地彌補實驗教學(xué)中的局限,而且為學(xué)生進一步的探索與深入學(xué)習(xí)理論知識提供了不可缺少的途徑。