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    大氣壓氬氣直流放電一維仿真電子崩分析

    2021-04-12 01:44:10沈陽理工大學(xué)李洪超
    電子世界 2021年5期
    關(guān)鍵詞:電子密度恒定氬氣

    沈陽理工大學(xué) 王 薇 李洪超

    針對大氣壓氬氣直流放電,建立一維仿真模型,設(shè)置了初始電子的密度和確切位置,通過求解,得到如下結(jié)果:初始電子崩由陰極的初始電子碰撞電離產(chǎn)生,電子碰撞電離產(chǎn)生17代電子之前,電子每發(fā)生一次碰撞電離走過的路程和時間都幾乎未發(fā)生變化,電子漂移的速度是恒定的,電子崩的發(fā)展速度是恒定的,在17代電子到20代電子時,電子每發(fā)生一次碰撞電離走過的路程和時間變長,電子漂移速度減慢,且電子在從初始位置走到0.9mm時,電子數(shù)隨位置變化曲線呈指數(shù)型,在0.9mm后電子數(shù)分布在指數(shù)趨勢線下,仿真分析結(jié)果與reather相關(guān)理論描述的相一致。

    等離子體常被看作是除固、液、氣之外,物質(zhì)存在的第四態(tài)。氣體放電是產(chǎn)生等離子體的主要方式。本文主要對大氣壓下氬氣直流放電電子崩進(jìn)行仿真分析。

    1 模型定義

    1.1 幾何模型

    假設(shè)電極的尺寸遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于氣隙間距,選用一維模型,如圖1所示,模型由兩個電極組成,一個電極連接恒定電壓,另一個電極接地,極間距為d,背景氣體為純氬氣。

    圖1 氬氣直流放電模型

    1.2 數(shù)學(xué)模型

    通過求解電子密度的漂移擴(kuò)散方程來計算電子密度:

    表1 氬氣碰撞電離反應(yīng)

    表2 電子崩計算數(shù)據(jù)

    1.3 仿真參數(shù)設(shè)置

    仿真在一個大氣壓下進(jìn)行,電極間距為1.15mm,陰極于左側(cè)(接地),陽極(右側(cè))施加800V直流電壓,設(shè)置距離陰極0.02mm處有一個電子?;瘜W(xué)反應(yīng)設(shè)置如表1所示。

    1.4 求解設(shè)置

    采用有限元方法求解偏微分方程,將連續(xù)的求解域離散成為一組單元的組合體,最終形成一個離散的線性方程,解向量的求解用直接求逆得到。

    2 仿真結(jié)果及分析

    在所有時刻的電子離子密度圖中針對性地選取電子數(shù)為21,22,...219,220時刻的電子密度數(shù)據(jù)進(jìn)行計算(如表2)。

    表2中i為碰撞電子次數(shù),n為電子數(shù),t為發(fā)生第i次碰撞電離的時間,ti為相鄰兩次碰撞電離的時間差,xi為電子發(fā)生第i次碰撞電離電子數(shù)峰值位置,λi為電子發(fā)生相鄰兩次碰撞電離走過的距離,vi為相鄰兩次碰撞電離走過距離間的電子漂移速度。其中,n由電子密度空間分布結(jié)果積分計算,xi在仿真電子密度空間分布結(jié)果的導(dǎo)出數(shù)據(jù)中獲取,擬取相鄰兩次碰撞電離的電子數(shù)峰值位置的差值,vi由

    以下公式計算:

    圖2 電子數(shù)隨位置變化圖像(黑色曲線為指數(shù)趨勢線)

    從表中ti的計算數(shù)據(jù)可以看出:

    (1)電子碰撞電離次數(shù)i小于17,電子發(fā)生一次碰撞電離的時間大約0.41ns,走過的距離數(shù)值大概在0.052325mm,電子的漂移速度vi約1.28E+07cm/s,基本未發(fā)生變化,在此期間電子崩的發(fā)展在時間和速度上都可以看做是恒定的。

    (2)在電子碰撞電離次數(shù)i大于17時,電子發(fā)生一次碰撞電離的時間越來越長,在9.235ns時,電子數(shù)為176320,此時上次碰撞電離產(chǎn)生的所有電子還未全部發(fā)生下一次碰撞電離,卻歷時0.92ns,時間是i小于17時電子碰撞電離時間的兩倍之余,電子漂移速度也逐漸減慢,證明電子在發(fā)展到第17代電子后,碰撞電離發(fā)生的越來越少,電子崩發(fā)展速度變緩慢。

    為了更直觀地看出電子崩發(fā)展的情況,將表2中的電子數(shù)數(shù)據(jù),及電子數(shù)對應(yīng)位置數(shù)據(jù)繪制成數(shù)據(jù)點,如圖2所示,可以看出在x小于0.9mm時,所繪制數(shù)據(jù)點與指數(shù)趨勢線大致是吻合的,即在電子在0到0.9mm之間發(fā)生碰撞電離產(chǎn)生的電子數(shù)隨位置呈現(xiàn)指數(shù)上升的趨勢,在0.9mm后,電子數(shù)普遍分布在指數(shù)趨勢線下,說明電子的碰撞電離程度有所減弱,這種情況是由于空間中離子濃度的升高,加強(qiáng)了正極性空間電荷,使得外加電場對電子加速的作用,降低了電子的電離能力,這與raether判據(jù)中描述是相一致的。

    結(jié)論:氣隙中初始電子崩由設(shè)置在陰極附近初始電子發(fā)展而來,初始電子崩在陽極發(fā)展到陰極的過程中,電子碰撞電離產(chǎn)生17代電子之前,電子每發(fā)生一次碰撞電離走過的路程和時間都幾乎未發(fā)生變化,電子漂移的速度是恒定的,電子崩的發(fā)展速度是恒定的,在17代電子到20代電子時,電子電子每發(fā)生一次碰撞電離走過的路程和時間變長,電子漂移速度減慢,且電子在從初始位置走到0.9mm時,電子數(shù)隨位置變化曲線與指數(shù)趨勢線相吻合,在此期間電子數(shù)呈現(xiàn)指數(shù)變化的,在0.9mm后電子數(shù)分布在指數(shù)趨勢線下,說明電子碰撞電離減少,與數(shù)據(jù)分析結(jié)果一致,仿真分析結(jié)果與reather相關(guān)理論描述的相一致。

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