高慧瑩,左 寧,艾 博
( 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所,北京100176)
隨著光學(xué)探測(cè)技術(shù)的發(fā)展,感光元件的面積越來(lái)越大,精度越來(lái)越高,組成感光元件的芯片拼接尺寸越來(lái)越小、數(shù)量越來(lái)越多,尤其當(dāng)成像尺寸到達(dá)15 000 像元的時(shí)候,不僅對(duì)芯片拼接的單行直線度要求越來(lái)越高,且對(duì)行與行之間的平行度要求也提出了嚴(yán)格的要求。傳統(tǒng)的通過(guò)CCD 觀察、手動(dòng)拼接已遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足要求,迫切需要進(jìn)行自動(dòng)拼接、在線測(cè)量,以保證芯片拼接的質(zhì)量及效率。
芯片集成拼接方法如圖1 所示,主要是為了保證芯片拼接后每一行的直線度和行與行之間的平行度。
圖1 芯片集成拼接示意圖
芯片拼接工藝流程如圖2 所示。拼接主要環(huán)節(jié)為五步:
(1)通過(guò)CCD 觀察進(jìn)行第一片的拼接,并測(cè)量拼接后的芯片上兩個(gè)特征點(diǎn)位置坐標(biāo);
(2)根據(jù)第一片拼接的兩個(gè)特征點(diǎn)坐標(biāo),結(jié)合拼接允許誤差,確定第二片的拼接位置并進(jìn)行第二片自動(dòng)拼接,并進(jìn)行第二片芯片的特征點(diǎn)位置測(cè)量;
(3)根據(jù)第一片、第二片四個(gè)特征點(diǎn)拼接位置,結(jié)合拼接誤差確定第三片芯片的拼接位置,并進(jìn)行測(cè)量,以此類(lèi)推,確定同一行第m個(gè)芯片的拼接位置并進(jìn)行拼接和測(cè)量;
圖2 拼接流程示意圖
(4)根據(jù)第一行的芯片拼接特征點(diǎn)坐標(biāo),進(jìn)行線性度擬合,確定第一行芯片拼接的直線度,并根據(jù)直線度允許誤差,確定第二行第一片的芯片拼接位置,并進(jìn)行拼接;
(5)按照第二步、第三步的方法,完成第二行的芯片拼接并測(cè)量直線度。以此類(lèi)推,進(jìn)行第n行芯片的拼接和測(cè)量。
芯片上選2 個(gè)特征點(diǎn),將2 個(gè)特征點(diǎn)坐標(biāo)分別定義為(xnm1,ynm1),(xnm2,ynm2),其中n代表從上到下的行順序,m代表行內(nèi)的從左到右的芯片順序。同一行兩片芯片間的間距為a,每一行之間的間距為c。直線度允許誤差定義為(△x1、△y1),平行度允許誤差定義為(△x2、△y2),所有坐標(biāo)的提取均通過(guò)CCD 掃描,圖像識(shí)別自動(dòng)在線提取。
在基板上的固定位置將首片芯片拼接粘合后,通過(guò)CCD 掃描,圖像識(shí)別,得出其上兩個(gè)標(biāo)記點(diǎn)的位置坐標(biāo):
通過(guò)這兩個(gè)坐標(biāo)擬合出連接這兩點(diǎn)的直線方程式為:
該直線的斜率k為:
該直線的截距b為:
結(jié)合兩片芯片間的間距a和可接受的位置誤差△x1、△y1,可以通過(guò)如下公式確定出第二片芯片拼接兩個(gè)特征點(diǎn)的位置范圍。
(x121,y121)的坐標(biāo)范圍為:
(x122,y122)的坐標(biāo)范圍為:
確定了第二片芯片的拼接位置后控制設(shè)備進(jìn)行拼接操作,拼接后再使用CCD 相機(jī)對(duì)新拼接好后的芯片進(jìn)行圖像掃描,從第三片起識(shí)別出每一個(gè)剛拼接好的芯片上的兩個(gè)標(biāo)識(shí)點(diǎn)的具體位置坐標(biāo):
通過(guò)將前n片芯片上的2n個(gè)特征點(diǎn)坐標(biāo)值代入最小二乘法公式進(jìn)行計(jì)算,即可擬合出一條線性歸回直線方程,其用到的公式見(jiàn)式(8)~式(11):
線性回歸直線方程的表達(dá)式為y=kx+b,其中參數(shù)k為該條直線的回歸系數(shù),可以用其描述該直線的傾斜程度,b為截距。要求出公式中的參數(shù)k和b,可以使用公式(12)、(13)進(jìn)行計(jì)算:
繼續(xù)通過(guò)間距a和位置誤差范圍△x、△y,即可通過(guò)以下公式確定出第n+1 個(gè)芯片拼接的兩個(gè)特征點(diǎn)位置。
(x1(n+1)1,y1(n+1)1)坐標(biāo)范圍為
(x1(n+1)2,y1(n+1)2)坐標(biāo)范圍為:
在拼接完成上一行的芯片后,通過(guò)將兩行芯片之間的垂直位置間距c代入計(jì)算方法,即可求得該行首片芯片第一個(gè)標(biāo)記點(diǎn)的粘接坐標(biāo)(xn11,yn11)。為了保證每行芯片的平行度達(dá)標(biāo),將坐標(biāo)(xn11,yn11) 和上一行的線性回歸直線方程中的斜率k代入的表達(dá)式y(tǒng)=kx+bn中,即可求得參數(shù)bn的值如式(18):
將兩標(biāo)記點(diǎn)之間的距離d引入,即可求出該行首片芯片的第二個(gè)標(biāo)記點(diǎn)坐標(biāo)(xn12,yn12)式為:
通過(guò)計(jì)算得出的該行首片兩標(biāo)記點(diǎn)坐標(biāo),即可得出其拼接具體位置。拼接完成首片后,采用和單行拼接時(shí)首片拼接后的處理同樣方法來(lái)拼接第二片(同前述2.1 節(jié)),配合CCD 圖像掃描,從第三片起,使用反復(fù)迭代擬合直線的方式來(lái)對(duì)該行剩余芯片進(jìn)行拼接(同前述2.2 節(jié))。第n行芯片拼接流程如圖3 所示。
處理坐標(biāo)數(shù)據(jù)擬合曲線的方法有多種,我們遵循設(shè)備工藝特點(diǎn)采用了最小二乘法來(lái)對(duì)每組坐標(biāo)數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合,求出其線性回歸方程,通過(guò)分析該線性方程,即可比對(duì)出拼接后芯片的幾何位置直線度以及平行度。
獲得了每條直線方向拼接后芯片的位置坐標(biāo)數(shù)據(jù)后,將每組坐標(biāo)數(shù)據(jù)通過(guò)最小二乘法進(jìn)行擬合求出其線性回歸方程。
通過(guò)計(jì)算得出拼接后芯片位置的線性回歸方程后,即可用以下方法計(jì)算求出芯片拼接的直線度和平行度:
直線度:對(duì)每一組坐標(biāo)擬合出的直線進(jìn)行擬合計(jì)算,如果第一個(gè)標(biāo)識(shí)和最后一個(gè)的垂直位置相差在直線度允許范圍內(nèi),則該水平方向上的芯片拼接直線度符合要求,反之亦然。
圖3 多行芯片拼接流程
平行度:將兩組坐標(biāo)數(shù)據(jù)擬合出的線性回歸方針的斜率k、k′進(jìn)行對(duì)比,其誤差在平行度允許范圍內(nèi)為拼接平行度合格,反之亦然。
在直線度、平行度的檢測(cè)過(guò)程中,我們?cè)O(shè)定直線度、平行度的范圍為±5 μm。
通過(guò)內(nèi)置模塊的自動(dòng)計(jì)算處理,即可快速檢測(cè)出芯片拼接水平位置的放置誤差,并且實(shí)時(shí)傳遞給拼接設(shè)備對(duì)其進(jìn)行校準(zhǔn),高效可靠。如下圖所示為使用通過(guò)圖像獲取到的坐標(biāo)數(shù)據(jù)來(lái)計(jì)算直線度和平行度的算法流程。
對(duì)涉及的算法進(jìn)行編程,最終求出線性回歸方程y=ax+b。
程序代碼中的變量dSumX、dSumY為識(shí)別點(diǎn)x、y坐標(biāo)的和,dMeanX、dMeanY為識(shí)別點(diǎn)x、y坐標(biāo)的平均值,通過(guò)對(duì)每一個(gè)識(shí)別點(diǎn)的x、y坐標(biāo)分別進(jìn)行累加后處理求得:
圖4 計(jì)算直線度和平行度算法流程
求得所有參數(shù)后,將最小二乘法求線性回歸方程的公式通過(guò)代碼實(shí)現(xiàn),即可求得線性方程的斜率a以及截距b:
為了驗(yàn)證上述方法的可行性,通過(guò)CCD 提取拼接后需要檢測(cè)的2 行,每行各15 個(gè)特征點(diǎn)的位置坐標(biāo),數(shù)據(jù)如表1 所示。
利用特征點(diǎn)散點(diǎn)位置坐標(biāo),通過(guò)最小二乘法擬合出如圖5 所示的擬合直線,并得出線性回歸方程分別為:
分析圖5 中的2 條擬合直線及其方程,可見(jiàn)第一行在垂直方向的誤差為3.2,線性回歸方程斜率為0.058。第二行垂直方向的誤差為2.1,線性回歸方程斜率為0.038。假定設(shè)定的直線度誤差閾值為5,則該次拼接的直線度達(dá)標(biāo)。將方程1 和方程2 的斜率進(jìn)行對(duì)比即可求得其平行度數(shù)值。假定設(shè)定的平行度斜率差不能超過(guò)0.05,則模擬的兩行芯片因其拼接各自的線性回歸方程斜率差為0.02,則可判定其平行度達(dá)標(biāo)。
表1 CCD 提取位置坐標(biāo)數(shù)據(jù)表
圖5 仿真計(jì)算平行度
通過(guò)智能化、自動(dòng)化的拼接方式解決手動(dòng)拼接中的誤差過(guò)大、一致性不好、效率低等工藝問(wèn)題已成為光學(xué)檢測(cè)領(lǐng)域多芯片拼接的主要發(fā)展趨勢(shì)。本文采用位置坐標(biāo)擬合,拼接預(yù)定位等方法實(shí)現(xiàn)多芯片自動(dòng)拼接,提升了芯片拼接的線性度,并通過(guò)仿真分析和實(shí)例驗(yàn)證,證明該方法可有效提升芯片的拼接精度,確保拼接直線度、平行度在可控誤差范圍內(nèi)。