錐形束CT顯像分析支抗種植體患者顴牙槽嵴區(qū)軟硬結(jié)構(gòu)的價值觀察

1.河南省商丘市中心醫(yī)院口腔科(河南 商丘 476000)

2.商丘醫(yī)學(xué)高等專科學(xué)校口腔醫(yī)學(xué)院(河南 商丘 476000)

3.河南省口腔醫(yī)院口腔種植科(河南 鄭州 450000)

經(jīng)海永1,* 何 平2 高健文1周 弘3

顴牙槽嵴區(qū)支抗種植是口腔正畸治療常用的治療方式，在各類錯牙合畸形矯治方面具有良好療效[1]。研究發(fā)現(xiàn)，種植體的初期穩(wěn)定性由種植過程決定，上頜竇作為顴牙槽嵴區(qū)的臨近組織，在種植過程中極易受到損傷，影響種植體的穩(wěn)定性[2]。因此，如何避免手術(shù)操作對上頜竇的侵犯，已成為臨床的研究熱點(diǎn)之一[3]。錐形束CT(cone beam CT，CBCT)是口腔專業(yè)領(lǐng)域常用的檢查手段，具有操作簡便、圖像精確度高等優(yōu)點(diǎn)，是評估口腔頜面部復(fù)雜解剖結(jié)構(gòu)的有效工具[4]。針對性了解上頜竇底與支抗種植體植入的位置關(guān)系，能為顴牙槽嵴區(qū)支抗種植體的植入位點(diǎn)提供參考，從而降低手術(shù)損傷[5]。因此，本研究回顧性分析52例接受顴牙槽嵴區(qū)支抗種植體植入治療患者的一般臨床資料和CBCT影像學(xué)資料，旨在通過觀測支抗種植體實(shí)際植入位置周圍的軟硬組織結(jié)構(gòu)，以期為臨床顴牙槽嵴區(qū)支抗種植治療的應(yīng)用提供依據(jù)。

1 資料與方法

1.1 一般資料 回顧性分析2018年12月至2019年12月于本院口腔科就診并接受顴牙槽嵴區(qū)支抗種植體植入治療的52例正畸患者的一般臨床資料和CBCT影像學(xué)資料。其中，男21例，女31例，年齡19～35歲，平均年齡(27.25±7.48)歲。

納入標(biāo)準(zhǔn)：患者均接受顴牙槽嵴區(qū)支抗種植體植入治療；患者性別不限，年齡≥18歲；支抗種植體植入手術(shù)結(jié)束后均接受CBCT檢查；影像學(xué)資料清晰、完整。

排除標(biāo)準(zhǔn)：上頜后牙區(qū)牙齒缺失患者；牙周病患者；既往存在正畸治療史患者。

1.2 方法

1.2.1 CBCT檢查 采用錐形束平板掃描儀(NewTom 5G Version FP型，意大利QR s.r.l.公司)對患者進(jìn)行掃描?；颊呷⊙雠P位，掃描參數(shù)：管電流5mA，管電壓110kV，掃描時間3.6s，掃描層厚0.3mm，掃描范圍18cm×16cm。掃描過程中囑咐患者不要隨意移動頭部，平靜呼吸，避免做張嘴、吞咽等動作。

1.2.2 圖像處理 所有圖像均由一名放射科醫(yī)師應(yīng)用NNT Viewer 2.19軟件處理，以平分患者顱面部的平面為正中矢狀面，與上頜牙橫斷面作連續(xù)切面，層厚0.3mm，獲得CBCT圖像。

1.2.3 手術(shù)方法 所有患者均接受顴牙槽嵴區(qū)支抗種植體植入手術(shù)治療，所有手術(shù)均由同一個手術(shù)小組進(jìn)行。術(shù)前局部麻醉，根據(jù)術(shù)前CBCT檢查情況確定患者的置入位點(diǎn)；于角化牙齦表面作一1mm切口，將支抗種植體垂直置入骨皮質(zhì)，旋轉(zhuǎn)其方向與牙合平面呈60°夾角，并平行于上頜第一磨牙冠狀面。手術(shù)結(jié)束后給予患者常規(guī)止痛護(hù)理。本研究共植入支抗種植體94枚，包括左側(cè)45枚，右側(cè)49枚；男42枚，女性52枚。

1.3 測量指標(biāo) 1)支抗種植體植入角度：測量支抗種植體長軸與矢狀面所成的夾角。2)頰側(cè)及腭側(cè)骨厚度：于支抗種植體的冠狀層面上測量顴牙槽嵴區(qū)頰側(cè)及腭側(cè)的骨厚度，計算骨皮質(zhì)厚度。以種植體頰側(cè)及腭側(cè)穿入骨皮質(zhì)的點(diǎn)為起點(diǎn)，以穿出上頜竇底骨皮質(zhì)的點(diǎn)為終點(diǎn)，兩平行線間的距離為骨厚度；骨松質(zhì)厚度為進(jìn)入骨松質(zhì)點(diǎn)至進(jìn)入上頜竇底骨皮質(zhì)點(diǎn)間的距離；骨皮質(zhì)厚度=骨厚度-骨松質(zhì)厚度。3)上頜竇底角度：以雙側(cè)上頜第一磨牙近中最凸點(diǎn)和遠(yuǎn)中最凸點(diǎn)連線的中點(diǎn)確定正中冠狀面，以正中冠狀面為參考平面，分別選取3個冠狀測量面，包括：(1)平分第一磨牙牙根與第二前磨牙間距、與牙根長軸平行的層面；(2)平分第一磨牙根分叉間距的層面；(3)平分第一、第二磨牙牙根間距、與牙根長軸平行的層面。分別記為層面1、層面2和層面3，上頜竇底角度為各平面上平行于上頜竇底內(nèi)壁直線與外側(cè)壁直線的夾角(圖1)。

圖1 不同冠狀層面示意圖。1A：3個冠狀層面圖示；1B：上頜竇底角度測量圖示。

1.4 統(tǒng)計學(xué)方法 采用SPSS 20.0統(tǒng)計軟件對數(shù)據(jù)進(jìn)行分析。數(shù)據(jù)符合正態(tài)分布以表示，兩組間比較行獨(dú)立樣本t檢驗(yàn)，多組間比較行單因素方差分析；P＜0.05為差異有統(tǒng)計學(xué)意義。

2 結(jié) 果

2.1 支抗種植體植入角度分析 由表1可知，94枚支抗種植體的平均植入角度為(28.41±8.67)°，其中，左右兩側(cè)的抗種植體植入角度、不同性別患者的支抗種植體植入角度比較，差異無統(tǒng)計學(xué)意義(P＞0.05)。

2.2 支抗種植體頰側(cè)及腭側(cè)骨厚度、骨皮質(zhì)厚度分析 由表2可知，支抗種植體的頰側(cè)骨厚度為(2.53±0.86)mm，骨皮質(zhì)厚度為(2.33±0.71)mm；支抗種植體的腭側(cè)骨厚度為(5.41±1.48)mm，骨皮質(zhì)厚度為(1.51±0.43)mm。頰側(cè)與腭側(cè)的骨厚度、骨皮質(zhì)厚度比較，差異有統(tǒng)計學(xué)意義(骨厚度：t=16.313，P＜0.001；骨皮質(zhì)厚度：t=9.578，P＜0.001)。其中，左右兩側(cè)、不同性別患者的支抗種植體頰側(cè)及腭側(cè)骨厚度、骨皮質(zhì)厚度比較，差異無統(tǒng)計學(xué)意義(P＞0.05)。

表1 不同性別、植入位置的支抗種植體植入角度比較

表1 不同性別、植入位置的支抗種植體植入角度比較

分類 支抗種植體植入角度(°) t P左右側(cè) 左側(cè)(n=45) 27.94±6.24 0.769 0.444右側(cè)(n=49) 28.87±5.48性別 男(n=42) 27.44±7.82 0.624 0.534女(n=52) 28.36±6.48

表2 不同性別、植入位置的支抗種植體頰側(cè)及腭側(cè)骨厚度、骨皮質(zhì)厚度比較

表2 不同性別、植入位置的支抗種植體頰側(cè)及腭側(cè)骨厚度、骨皮質(zhì)厚度比較

項目 左右側(cè) t P 性別 t P左側(cè)(n=45) 右側(cè)(n=49) 男(n=42) 女(n=52)頰側(cè) 骨厚度 2.48±0.77 2.61±0.31 1.090 0.279 2.56±0.62 2.51±0.81 0.339 0.735骨皮質(zhì)厚度 2.26±0.58 2.34±0.67 0.616 0.539 2.42±0.63 2.21±0.52 1.734 0.086腭側(cè) 骨厚度 5.53±0.87 5.31±0.92 1.181 0.241 5.57±0.96 5.27±0.78 1.672 0.098骨皮質(zhì)厚度 1.56±0.32 1.44±0.48 1.413 0.616 1.53±0.47 1.48±0.36 0.584 0.561

表3 不同性別、植入位置的支抗種植體上頜竇底角度比較

表3 不同性別、植入位置的支抗種植體上頜竇底角度比較

冠狀測量面 左右側(cè) t P 性別 t P左側(cè)(n=45) 右側(cè)(n=49) 男(n=42) 女(n=52)層面1 45.78±16.33 46.17±17.31 0.112 0.911 44.87±16.22 46.17±17.36 0.372 0.711層面2 63.25±14.67 70.81±15.74 2.403 0.018 54.68±17.83 55.44±18.26 0.203 0.840層面3 61.53±17.24 61.78±16.38 0.072 0.943 56.37±18.17 57.03±19.62 0.168 0.867

2.3 不同冠狀測量層面上頜竇底角度比較 由表3可知，層面1、2、3測量的上頜竇底角度分別為(45.98±18.25)°、(67.03±17.31)°和(61.66±16.35)°，不同層面測量值比較，差異有統(tǒng)計學(xué)意義(F=8.114，P＜0.001)。除層面2測量的左上頜竇底角度明顯大于右側(cè)(P＜0.05)外，其余層面上不同同性別、植入位置的上頜竇底角度比較，差異無統(tǒng)計學(xué)意義(P＞0.05)。

3 討 論

顴牙槽嵴位于上頜第一恒磨牙上方，具有雙層骨皮質(zhì)，可為種植體提供更好的穩(wěn)定性。此外，顴牙槽嵴解剖位置較高且遠(yuǎn)離牙根，在該區(qū)域進(jìn)行種植治療不僅能降低種植體與牙根的接觸風(fēng)險，還能為種植體提供較大的垂直分力，提高正畸治療有效性[6-7]。因此，顴牙槽嵴區(qū)已成為支抗種植體植入治療的常用位點(diǎn)。上頜竇底與顴牙槽嵴區(qū)的解剖關(guān)系密切，其位置決定了顴牙槽嵴的寬度，也影響著種植植入位點(diǎn)及角度的選擇[8]。但目前有關(guān)顴牙槽嵴與上頜竇底的關(guān)系研究較少。

本研究分析了52例接受顴牙槽嵴區(qū)支抗種植體植入治療患者的CBCT影像學(xué)資料，結(jié)果顯示，94枚支抗種植體的平均植入角度為(28.41±8.67)°，與以往研究存在差異[9]，這主要與測量方式不同有關(guān)。以往研究多根據(jù)支抗種植體中心軸與上頜平面的夾角反映種植體的植入方向，但顴牙槽嵴不同位置的骨量存在明顯差異，且支抗種植體為柱狀結(jié)構(gòu)，僅根據(jù)其中心軸的位置難以真實(shí)反映種植體的植入方向[10]。本研究以支抗種植體長軸與矢狀面所成的夾角描述種植體的植入角度，可靠性更高。頰側(cè)與上頜竇底骨皮質(zhì)形成的雙層骨皮質(zhì)是支抗種植體獲得初期穩(wěn)定性的基礎(chǔ)，當(dāng)骨皮質(zhì)厚度大于1mm時，即可提高種植體的穩(wěn)定度[11]。本研究結(jié)果顯示，種植體植入后，其頰側(cè)骨厚度明顯小于腭側(cè)，骨皮質(zhì)厚度明顯大于腭側(cè)，且厚度均大于1mm，提示雙層骨皮質(zhì)可為支抗種植體的植入提供良好的支持骨量。進(jìn)一步分析不同植入側(cè)、不同性別患者的頰側(cè)及腭側(cè)骨厚度、骨皮質(zhì)厚度發(fā)現(xiàn)，顴牙槽嵴區(qū)骨厚度、骨皮質(zhì)厚度在植入側(cè)、性別間均無明顯差異。Farnswortn等[12]認(rèn)為，由于男女的飲食類型存在差別，男性咬合力較女性來說更大，因此二者的顴牙槽嵴區(qū)骨厚度也存在不同。本研究中，男性與女性的骨厚度、骨皮質(zhì)厚度無明顯差異，可能與樣本量不同、測量方法差異等有關(guān)。

上頜竇底形態(tài)會影響顴牙槽嵴區(qū)種植體植入治療的效果。一項有關(guān)84枚支抗種植體周圍顴牙槽嵴區(qū)解剖結(jié)構(gòu)的錐形束CT分析研究發(fā)現(xiàn)，患者接受支抗種植體植入治療后，約有45%的患者出現(xiàn)上頜竇底反折，上頜第一磨牙正中及遠(yuǎn)中5mm層面的上頜竇底角度較大[13]。本研究結(jié)果顯示，不同層面測量的上頜竇底角度值有明顯差異，且層面2測量的左上頜竇底角度明顯大于右側(cè)，表明平分第一磨牙根分叉間距的層面上，上頜竇最寬平，更易發(fā)生骨分隔、上頜竇底反折等現(xiàn)象。分析其原因可能與術(shù)前未發(fā)現(xiàn)患者上頜竇已突入牙根，接受植入治療時種植體植入角度及高度選擇有誤而導(dǎo)致其穿透上頜竇底有關(guān)[14]。

綜上所述，支抗種植體周圍的骨皮質(zhì)量是保障術(shù)后初期穩(wěn)定性的關(guān)鍵，不同層面上頜竇底的角度可反映上頜竇底形態(tài)，臨床應(yīng)根據(jù)患者的上頜竇底形態(tài)差異決定支抗種植體的植入角度與深度，以降低上頜竇穿透的發(fā)生率。