徐建民 唐山國(guó)芯晶源電子有限公司
在信息技術(shù)時(shí)代,電子設(shè)備的作用不言而喻。人們?nèi)粘9ぷ髋c生活已經(jīng)離不開電子設(shè)備的輔助。隨著技術(shù)的進(jìn)步,電子產(chǎn)品質(zhì)量大大提升,功能也越來越豐富強(qiáng)大,給人們帶來了極大的便利。在此背景下,提高電子產(chǎn)品質(zhì)量變得更為重要,電子元器件失效分析作為提高元器件質(zhì)量的重要方法,明確失效性質(zhì)與原因,提高對(duì)電子元器件失效預(yù)防,對(duì)提升電子元器件使用性能和可靠性非常關(guān)鍵。
電子元器件的失效分析不會(huì)對(duì)元器件本身造成損壞,而是通過非破壞性檢查,對(duì)元器件進(jìn)行逐層分析。如果在電子元器件失效原因無法利用非破壞方法進(jìn)行驗(yàn)證,就需要通過深層分析檢驗(yàn)來確認(rèn)失效的具體原因。失效分析是電子元器件失效數(shù)據(jù)獲取的主要渠道,因此必須確保分析過程的科學(xué)合理,避免遺漏失效原因,影響電子元器件失效預(yù)防[1]。在進(jìn)行失效分析前需要編制方案,外檢完成后進(jìn)行通電檢查,分析應(yīng)從外部開始,逐漸進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部,由靜態(tài)逐漸進(jìn)入動(dòng)態(tài),先宏觀后微觀,從不同角度分析失效原因,必要時(shí)可以采取破壞性檢測(cè)。
在進(jìn)行失效分析前,首先需要對(duì)失效對(duì)象確認(rèn),完成樣品制備與保存,然后進(jìn)行相關(guān)檢查和電性分析。在分析完成后對(duì)電子元器件內(nèi)部結(jié)構(gòu)分析并進(jìn)行可靠性測(cè)試,然后開封并剝層。最后,對(duì)電子元器件失效點(diǎn)進(jìn)行確認(rèn),通過分析確認(rèn)其失效原因與機(jī)理,然后針對(duì)電子元器件失效機(jī)理制定有效的預(yù)防措施,避免電子元器件發(fā)生重復(fù)性失效。
電子元器件失效分析前,首先需要確認(rèn)其是否失效。電子元器件失效表現(xiàn)為:連接性失效、功能失效和電參數(shù)失效。這是那種宏觀上的失效現(xiàn)象存在一定的聯(lián)系。在無損測(cè)試中,需要按照一定的測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)給電子元器件施加電應(yīng)力,在不破壞電子元器件的前提下判定元器件本身是否存在缺陷問題。在失效分析中,可以通過增加電應(yīng)力,改變電子元器件失效模式,從而使失效問題更為嚴(yán)重,用以更好的分析其失效機(jī)理[2]。在電子技術(shù)高速發(fā)展的前提下,電子元器件功能越來越復(fù)雜,其失效分析難度也大大增加,需要通過信息技術(shù)編程軟件輔助完成,提高失效分析的精確性。
為了滿足電子元器件失效分析要求,需要在失效樣品制備完成后進(jìn)行妥善的保存,便于更好的完成失效分析。樣品的保存需要結(jié)合元器件封裝材料的特點(diǎn),最大程度提高保存效果。例如,可以通過鈍化層技術(shù)進(jìn)行樣品的保存。但是不同的保存方法都會(huì)一定程度上影響電子元器件,鈍化層技術(shù)就會(huì)造成元器件的腐蝕,而且具有不可靠性。因此在樣品保存時(shí)需要考慮到保存方法對(duì)樣品的影響,避免影響失效分析的可靠性。
電性分析的主要作用是輔助完成失效點(diǎn)定位。其中以 OBIRCH技術(shù)最為常見。該技術(shù)應(yīng)用于電子元器件失效分析,能夠通過激光主動(dòng)感知到電子元器件電阻變化,從而對(duì)電子元器件失效點(diǎn)進(jìn)行可靠定位[3]。除此之外,電性分析還包括液晶熱點(diǎn)檢測(cè)技術(shù)等。這些技術(shù)的應(yīng)用能夠?yàn)殡娮釉骷c(diǎn)定位提供可靠的技術(shù)參考,提高失效原因分析的全面性,為失效機(jī)理分析提供幫助。
集成電路發(fā)展給失效分析帶來了更大的挑戰(zhàn),在集成電路中,失效點(diǎn)定位與電測(cè)更為困難。失效分析的目的是通過分析過程來確定電子元器件的失效部位。但是集成電路本身具有一定的復(fù)雜性和系統(tǒng)性,所以在失效分析過程中影響因素更多,失效定位更加困難。大量的電子元件集成在一起,在失效分析中可能出現(xiàn)其他的失效模式,從而造成失效分析的不準(zhǔn)確,這也是未來失效分析所必須迎接的挑戰(zhàn)[4]。
在失效分析匯總,逐層剝除電路是無力分析非常重要的過程,但是隨著新材料的出現(xiàn),在剝離過程中的難度更大,傳統(tǒng)的半導(dǎo)體材料具有非常成熟的剝除方法,但是新材料應(yīng)用時(shí)間短,剝離技術(shù)不成熟,或者新材料與集成電路其他介質(zhì)聯(lián)系緊密,如果強(qiáng)行剝除可能會(huì)帶入新的失效模式,導(dǎo)致失效分析不嚴(yán)謹(jǐn)。總之,新材料的出現(xiàn)與應(yīng)用會(huì)提高集成電路失效分析的難度。
綜上所述,電子元器件失效分析是對(duì)集成電路可靠性測(cè)試的重要方法。常規(guī)失效分析以非破壞試驗(yàn)為主,通過測(cè)試確定電子元器件失效點(diǎn),分析其失效機(jī)理。如果無法分析確定,可以采取破壞性測(cè)試方法。在失效分析中,需要確保分析的準(zhǔn)確性,避免電子元器件過程處理不當(dāng)出現(xiàn)新的失效模式,影響分析結(jié)果。通過失效分析能夠有效預(yù)防失效問題發(fā)生,為集成電路工作的穩(wěn)定性與可靠性提供保障。