ASML企業(yè)運營模式案例研究

牛媛媛 王天明

(1.華東師范大學(xué)；2.上海立信會計金融學(xué)院，上海 201620；3.上海微電子集團(tuán)裝備股份有限公司，上海 201203)

0 引言

目前世界高端光刻機(jī)制造商有ASML、Nikon和Canon，呈三足鼎立之勢，其中，ASML一家獨大。

1980年當(dāng)Nikon公司于開始介入光刻機(jī)業(yè)務(wù)時，美國GCA公司的步進(jìn)式光刻機(jī)產(chǎn)品占有世界90%的市場份額。然而，自20世紀(jì)80年代以來，Nikon公司的步進(jìn)式光刻機(jī)快速占有市場，并一舉取代了GCA公司的市場壟斷地位。Nikon公司光刻機(jī)業(yè)務(wù)起步主要得益于日本半導(dǎo)體芯片制造商的強(qiáng)有力支持，其中包括日立公司、NEC公司、SONY公司和東芝公司，1990年Nikon成為世界最大的光刻設(shè)備制造商。盡管Canon公司介入光刻機(jī)業(yè)務(wù)比較晚，但其以出眾的光學(xué)和精密機(jī)械技術(shù)很快超越了GCA公司。Nikon和Canon以占有70%～75%的市場份額主導(dǎo)世界光刻機(jī)技術(shù)發(fā)展，并一直持續(xù)到1995年。

在20世紀(jì)90年代后期，世界光刻機(jī)市場經(jīng)歷了一次巨變，該變化是由突飛猛進(jìn)的荷蘭ASML公司觸發(fā)的。ASML公司在1990年的市場份額還不到10%，到了1995年該數(shù)值提升到14%，1998年為23%，2000年升至30%。同一時期，Nikon和Canon的市場份額分別是45%和29%、44%和23%、36%和21%。在并購美國SVG光刻機(jī)公司后，ASML的市場份額于2001年上升至37%，2002年成為全球最大的光刻機(jī)設(shè)備供應(yīng)商(市場份額為47%)，尤其是基于雙臺(TWINSCAN)技術(shù)和TWINSCAN平臺開發(fā)出的浸液式光刻技術(shù)更進(jìn)一步鞏固了ASML的霸主地位。

ASML脫胎于荷蘭的Philips公司，自1984年成立以來歷經(jīng)35年春秋，已經(jīng)成長為半導(dǎo)體領(lǐng)域的世界知名跨國企業(yè)，在16個國家、60多個城市設(shè)有辦事處。ASML已成為代表荷蘭國家創(chuàng)新能力的一張高科技名片，2010年上海世博會的荷蘭館里就展示了ASML的最新機(jī)臺模型。2018年， ASML分布于123個不同國家或地區(qū)的23247名員工的市場銷售額創(chuàng)紀(jì)錄達(dá)到109億歐元，在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域排名世界第二(美國的應(yīng)用材料排名第一)，產(chǎn)品毛利率達(dá)46%。

伴隨半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，前道光刻機(jī)的市場規(guī)模也日趨擴(kuò)大，從1984年的4.63億歐元增長到2017年的近120億歐元，但ASML的競爭對手卻從1984年的8家下降到當(dāng)前的3家(ASML、Nikon、Canon)，ASML在前道光刻機(jī)領(lǐng)域處于絕對的技術(shù)領(lǐng)先和市場壟斷地位，所占市場份額從2005年的57%增加到2017年的85.4%。伴隨ASML的成長壯大，ASML的主要競爭對手Nikon和Canon的市場份額分別從1995年的45%、29%下降到2017年的10.3%與4.3%。

1 ASML公司運作模式

從Philips公司離開的45名技術(shù)人員繼續(xù)從事光刻機(jī)研發(fā)工作并成立了ASML公司，1985年公司搬至Veldhoven，現(xiàn)在成為ASML公司總部。成立之初，ASML公司為Philips和ASMI共同擁有，由于ASML公司從成立之初就一直虧損，ASMI不得不將其股份的50%轉(zhuǎn)讓給Philips公司，其余股份則在1988年轉(zhuǎn)讓給荷蘭的兩家銀行。即使這樣，ASML的商業(yè)化運營仍不理想，經(jīng)過多種努力，Philips公司成功剝離了ASML的股份，為減少商業(yè)風(fēng)險，1995年ASML股票在阿姆斯特丹證券市場和美國NASDAQ上市。1995年，美國克林頓政府推出“信息高速公路”計劃，整個半導(dǎo)體市場開始復(fù)蘇并蓬勃發(fā)展。2000年3月在ASML股票價格最高時，Philips賣掉了NASDAQ上的大部分ASML公司股票。目前，Philips公司仍擁有ASML公司5.8%的股份，是ASML的第二大股東，僅次于美國量子基金(10.8%)。

2018年，ASML公司實現(xiàn)年銷售額109億歐元，凈獲利25億歐元(占銷售額的23%)。截至2018年12月31日，ASML擁有員工23247名，研發(fā)員工8500多名，研發(fā)投入16億歐元，主要用于EUV極紫外光刻技術(shù)、浸液光刻技術(shù)及一體式光刻工藝研發(fā)。2018年，ASML實現(xiàn)人均銷售額46.9萬歐元，人均凈利潤10.75萬歐元，研發(fā)人員人均研發(fā)費用18.8萬歐元，無論是銷售額、凈利潤，還是研發(fā)投入，ASML都遠(yuǎn)高于競爭對手Nikon和Canon。

2018年ASML銷售光刻機(jī)設(shè)備224臺份，每臺均價4866萬歐元，其中包括17臺最新的TwinscanNXT:2000i浸液式系統(tǒng)和17臺TwinscanNXE:3400B EUV新系統(tǒng)，用于芯片制造商最先進(jìn)的10nm以下工藝節(jié)點。TwinscanNXT:2000i浸液式系統(tǒng)產(chǎn)率達(dá)275片/小時，NXE:3400B EUV系統(tǒng)產(chǎn)率可達(dá)每小時145片以上。

在前道光刻機(jī)設(shè)備領(lǐng)域，ASML公司在短短的18年(1984-2002年)里就從一個名不見經(jīng)傳的小公司成長為銷售額居世界第一位的光刻機(jī)設(shè)備制造商；又用了16年(2003-2019年)成為半導(dǎo)體領(lǐng)域頂級的高科技公司。上述巨大的成功并不是偶然的，它與ASML的企業(yè)運作特點、產(chǎn)品開發(fā)模式、市場準(zhǔn)確把脈和勇于技術(shù)革新緊密相關(guān)。

1.1 ASML公司運作特點——優(yōu)勢互補(bǔ)、強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合

ASML公司本質(zhì)上是一組擁有核心技術(shù)的獨立企業(yè)聯(lián)盟，聯(lián)盟由核心企業(yè)和固定供應(yīng)商組成。ASML與全球700多家專業(yè)供應(yīng)商合作，其中，ASML-Philips-Zeiss構(gòu)成ASML企業(yè)聯(lián)盟的核心。ASML負(fù)責(zé)光刻機(jī)整機(jī)技術(shù)，Philips負(fù)責(zé)高速高精度的運動臺技術(shù)，Zeiss負(fù)責(zé)光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)的開發(fā)。固定供應(yīng)商提供光刻機(jī)相關(guān)的功能模塊和單元組件，主要包括VDL、NTS GROUP、NEWAYS、IDE、Agilent等關(guān)鍵供應(yīng)商。2016年，分布在全球的700多家供應(yīng)商提供的功能模塊和單元組件貢獻(xiàn)了ASML光刻設(shè)備約85%的外購成本，其中，40家關(guān)鍵供應(yīng)商占據(jù)所有外購成本的80%。荷蘭本國供應(yīng)商數(shù)量最多，占43%，成本貢獻(xiàn)30%；歐洲其它地區(qū)供應(yīng)商占17%，成本貢獻(xiàn)54%，其中，一半以上來自Zeiss公司。2018年ASML光刻設(shè)備總成本的28.3%購自Carl Zeiss(2017年為26.6%；2016年為27.6%)；亞洲北美供應(yīng)商數(shù)量占40%，成本貢獻(xiàn)16%。這種由供應(yīng)商網(wǎng)絡(luò)組成的企業(yè)聯(lián)盟具有優(yōu)勢互補(bǔ)、強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合的優(yōu)勢，使得ASML能專注于自身獨特的能力優(yōu)勢——整機(jī)系統(tǒng)設(shè)計、整機(jī)系統(tǒng)集成(軟件和硬件)、產(chǎn)品服務(wù)與支持以及產(chǎn)品銷售與營銷。

另外，ASML與比利時的IMEC光刻研究中心保持著長期合作關(guān)系，IMEC為ASML新機(jī)型提供光刻工藝測試平臺。通過該平臺，ASML可以與光刻工藝專家和芯片制造商進(jìn)行有效溝通，從而快速改進(jìn)光刻工藝并將其固化到整機(jī)軟件系統(tǒng)中。同時，ASML與大學(xué)(TU/e、Delft、Twente等)、研究機(jī)構(gòu)(TNO、IMEC、PSI等)建立了長期廣泛的技術(shù)合作關(guān)系。 ASML的核心聯(lián)盟、固定供應(yīng)商、合作大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)大多位于荷蘭(Eindhoven)、德國(Aachen)和比利時(Leuven)三國交界的Eindhoven-Aachen-Leuven三角地帶，地理位置近，交通便捷，合作便利。

Philips公司總部位于荷蘭的Eindhoven，ASML公司總部位于Veldhoven，兩公司距離僅20分鐘車程，Philips CFT距離ASML公司也僅有幾公里之遙。ASML將晶圓臺和掩模臺技術(shù)委托給Philips CFT、Philips研究機(jī)構(gòu)和Philips的下屬制造機(jī)構(gòu)。晶圓臺和掩模臺技術(shù)具體包括運動平臺技術(shù)開發(fā)、視覺系統(tǒng)、直線電機(jī)技術(shù)、材料工業(yè)、摩擦學(xué)、熱控制、運動控制以及系統(tǒng)集成與測試。在新產(chǎn)品運動精密平臺研發(fā)早期階段，ASML公司也與Philips CFT和Philips研究機(jī)構(gòu)聯(lián)合開展了相關(guān)研究，ASML每年支付給Philips公司的研發(fā)費用占其從Philips公司總購買值的比例一直維持在30%～40%。

Carl Zeiss半導(dǎo)體分部，具體提供光刻機(jī)的投影物鏡和照明單元，距離ASML約有4小時車程，ASML所有的投影物鏡和照明系統(tǒng)均由Carl Zeiss公司提供。Carl Zeiss在20世紀(jì)80年代也曾為GCA公司和日立公司提供物鏡單元，后來兩家公司的市場占有率持續(xù)萎縮，Carl Zeiss就逐漸成為唯一給ASML提供物鏡照明系統(tǒng)的供應(yīng)商，這種供應(yīng)關(guān)系具有排他性。Carl Zeiss公司承擔(dān)了ASML光刻設(shè)備所有曝光系統(tǒng)的研發(fā)和制造工作，范圍覆蓋物鏡和照明系統(tǒng)的研究與開發(fā)、單一透鏡和反射鏡鏡片的工藝制造、物鏡光學(xué)系統(tǒng)的集成，以及物鏡系統(tǒng)的測試與調(diào)整等。此外，通過合理的機(jī)制設(shè)計，ASML與Carl Zeiss有效避免了排他性合作關(guān)系下潛在的利益沖突，該機(jī)制包括ASML與Carl Zeiss之間建立定期相互交換研發(fā)工程師和科學(xué)家的制度，以及共同開發(fā)、利益共享機(jī)制等。2017年，ASML間接收購了德國Carl Zeiss半導(dǎo)體分部SMT股份有限公司的24.9%股份，以促進(jìn)EUV光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)一步發(fā)展。

ASML公司集成了全荷蘭、歐洲甚至世界范圍內(nèi)最專業(yè)的制造商來設(shè)計、研發(fā)與制造光刻機(jī)，充分展現(xiàn)了優(yōu)勢互補(bǔ)、強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合的企業(yè)集群優(yōu)勢。為了研發(fā)出光刻機(jī)不同單元技術(shù)，需要相關(guān)公司的長期投入，而這種優(yōu)勢互補(bǔ)的企業(yè)聯(lián)盟結(jié)構(gòu)最能夠發(fā)揮各自專長，最大程度上降低了主要單元的研發(fā)商業(yè)風(fēng)險。強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合的聯(lián)盟企業(yè)均是光刻機(jī)相關(guān)單元系統(tǒng)的專業(yè)制造者，從而確保了這種合作的有效性，有效縮短了功能單元系統(tǒng)的開發(fā)周期，保證了研發(fā)質(zhì)量。另外，良好的利益共享機(jī)制也保障了這種優(yōu)勢互補(bǔ)、強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合合作體系的穩(wěn)定性和長效性。

1.2 ASML產(chǎn)品的開發(fā)模式——模塊化產(chǎn)品與專業(yè)化平臺

ASML光刻機(jī)采用模塊化的設(shè)計、制造、集成和調(diào)試，光刻機(jī)的主體單元按照模塊化架構(gòu)分成8大功能組、50多個功能模塊。8大功能組分別是：物鏡、光源、照明、晶圓臺、掩模臺、傳輸、對準(zhǔn)、框架等。這種采用模塊化設(shè)計的光刻機(jī)架構(gòu)剛好適應(yīng)了ASML公司的組成特點，企業(yè)組織與產(chǎn)品架構(gòu)完美對應(yīng)，剛好詮釋了康威定律(Conway’s Law)。各模塊分系統(tǒng)與單元組件在ASML企業(yè)聯(lián)盟和關(guān)鍵供應(yīng)商內(nèi)部完成設(shè)計、制造、組裝以及調(diào)試后，經(jīng)過測試驗收后交付給ASML，最終在ASML的總成凈化車間內(nèi)完成整機(jī)裝配、集成和調(diào)試。在整機(jī)調(diào)試完成后分解成若干大單元，將其包裝并空運到用戶的Fab廠房，再次進(jìn)行整機(jī)安裝、集成和調(diào)試后交付給客戶試產(chǎn)。通過采用這種模塊化操作，從接收客戶訂單到設(shè)備交付使用的周期大幅縮短，如拆機(jī)包裝和運輸1-5周、客戶現(xiàn)場安裝調(diào)試及交付1-4周。目前整個周期已縮短至3～4個月，優(yōu)于Canon公司，領(lǐng)先Nikon公司。

快捷的光刻機(jī)整機(jī)安裝、集成和調(diào)試已經(jīng)成為ASML的核心競爭力之一，這完全得益于ASML光刻機(jī)產(chǎn)品的模塊化架構(gòu)和模塊化開發(fā)方式。

ASML光刻機(jī)采用專業(yè)化平臺開發(fā)模式，目前已經(jīng)形成2大類、4種產(chǎn)品平臺。兩大類包括PAS類平臺和TWINSCAN類平臺。PAS類平臺主要針對直徑200mm晶圓的光刻以及其它光刻微制造領(lǐng)域的特殊應(yīng)用，目前主要形成PAS 5500平臺產(chǎn)品。TWINSCAN類平臺是ASML成功的根基，主要針對300mm晶圓的光刻，目前形成3種主流平臺產(chǎn)品，分別是：TWINSCAN XT平臺，主要針對干法光刻機(jī)產(chǎn)品；TWINSCAN NXT平臺，主要針對浸液光刻機(jī)產(chǎn)品；TWINSCAN NXE平臺，主要針對EUV光刻機(jī)產(chǎn)品。

目前仍在銷售的4種系列平臺產(chǎn)品及其推出時間分別是PAS 5500(1991)、TWINSCAN XT(2003)、TWINSCAN NXT(2008)和TWINSCAN NXE(2013)，每種專業(yè)化產(chǎn)品平臺都對應(yīng)一系列衍生產(chǎn)品系列。

PAS 5500產(chǎn)品平臺對應(yīng)的系列產(chǎn)品有：PAS 5500/100D、PAS 5500/275D、PAS 5500/350C、PAS 5500/450F、PAS 5500/750F、PAS 5500/850C、PAS 5500/8TFH、PAS 5500/1150C及其以前生產(chǎn)的型號機(jī)。上述系列產(chǎn)品采用的光源是：i-line，DUV-KrF 248，DUV-ArF 193，線寬涵蓋280nm,150nm,130nm,110nm,90nm。

對應(yīng)TWINSCAN XT平臺衍生的系列產(chǎn)品有：TWINSCAN XT 400L、TWINSCAN XT 860M、TWINSCAN XT 1060K、TWINSCAN XT 1460K及以前生產(chǎn)的型號機(jī)。該系列產(chǎn)品采用的光源是：i-line，DUV-KrF 248，DUV-ArF 193；線寬有220nm,110nm,90nm, 65nm。

TWINSCAN NXT平臺衍生的系列產(chǎn)品有：TWINSCAN NXT 1965Ci、TWINSCAN NXT 1970Ci、TWINSCAN NXT 1980Di、TWINSCAN NXT 2000i，該系列產(chǎn)品均采用DUV-ArF 193光源以及浸液光刻，并支持雙曝光工藝。TWINSCAN NXT 2000i是目前最先進(jìn)的浸液式光刻系統(tǒng)，可以大規(guī)模制造7nm工藝節(jié)點。

對應(yīng)TWINSCAN NXE平臺衍生的系列產(chǎn)品有：TWINSCAN NXE 3400B、TWINSCAN NXE 3400C。該系列產(chǎn)品采用EUV光源，線寬將終結(jié)摩爾定律的光學(xué)極限。TWINSCAN NXE 3400B是新一代商用的EUV光刻系統(tǒng)，融合了產(chǎn)率、最高分辨率以及最先進(jìn)的套刻和焦深性能。

正是這種以專業(yè)化平臺為依托的新產(chǎn)品開發(fā)模式大大加快了ASML新產(chǎn)品開發(fā)速度，縮短了產(chǎn)品上市周期，且產(chǎn)品質(zhì)量和性能指標(biāo)都符合客戶預(yù)期。

1.3 ASML的市場驅(qū)動機(jī)制——引領(lǐng)市場、開拓創(chuàng)新

半導(dǎo)體市場一直遵循摩爾定律發(fā)展。晶圓直徑依次經(jīng)歷150mm200mm300mm450mm變化，450mm晶圓的光刻設(shè)備目前仍處在研發(fā)階段，300mm硅片是半導(dǎo)體行業(yè)使用的主流晶圓。光刻機(jī)使用的光源歷經(jīng)汞燈i-line、DUV-KrF 248、DUV-ArF 193、EUV，光刻工藝代線寬歷經(jīng)從900nm到7nm的技術(shù)發(fā)展。

ASML瞄準(zhǔn)未來并引領(lǐng)市場發(fā)展。PAS2500系列產(chǎn)品針對直徑150mm硅片的光刻，光源配置采用G-line、i-line、DUV-248，線寬900nm、500nm；PAS5500系列產(chǎn)品針對直徑200mm硅片的光刻，采用i-line、DUV-248、DUV-193的配置光源， PAS5500實現(xiàn)了步進(jìn)機(jī)向掃描機(jī)的跨越，PAS5500/550是ASML開發(fā)的第一臺商用掃描機(jī)，線寬280nm、150nm、130nm、110nm、90nm。針對直徑300mm硅片的光刻，為了提高產(chǎn)率，并有效處理運動臺驅(qū)動反力，ASML在業(yè)界率先提出雙臺概念，并首創(chuàng)出TWINSCAN平臺，在此基礎(chǔ)上，ASML根據(jù)產(chǎn)品特點和關(guān)鍵技術(shù)，形成了TWINSCAN AT、TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT、TWINSCAN NXE系列平臺產(chǎn)品，最早研發(fā)出的TWINSCAN AT平臺已經(jīng)廢止，目前市場上存在TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT、TWINSCAN NXE三種商用平臺且各有分工。其中，TWINSCAN XT主要用于干法光刻機(jī)系列；TWINSCAN NXT主要用于濕法光刻機(jī)系列，并支持DoublePattern光刻工藝；TWINSCAN NXE主要用于EUV光刻機(jī)系列。

由此可見，ASML緊密跟蹤光刻設(shè)備市場發(fā)展動態(tài)，適時推出滿足芯片制造商需要、具有高技術(shù)復(fù)雜度的尖端光刻機(jī)產(chǎn)品，從而引領(lǐng)該行業(yè)市場。ASML之所以能夠?qū)崿F(xiàn)市場引領(lǐng)，與其強(qiáng)大的開拓創(chuàng)新能力密不可分。

ASML擁有一支數(shù)量龐大且涉及多學(xué)科多領(lǐng)域的高科技研發(fā)團(tuán)隊，每年用于研發(fā)的費用數(shù)以億計。表1顯示，自2015年以來，ASML的研發(fā)人數(shù)占員工總數(shù)的比例一直維持在35%左右，研發(fā)人員逐年遞增，2018年達(dá)8500多人。表2顯示，自2008年以來，ASML的研發(fā)費用約占銷售額的16%，研發(fā)投入逐年增長，2018年全年研發(fā)費用支出達(dá)16億歐元，主要用于EUV極紫外光刻技術(shù)、浸液光刻技術(shù)及一體式光刻工藝研發(fā)，以維持并擴(kuò)大公司技術(shù)優(yōu)勢。

表1 ASML公司研發(fā)人員數(shù)量變化情況(2015-2018年)

注：表中原始數(shù)據(jù)來源于ASML相關(guān)年報

ASML每年數(shù)量可觀的技術(shù)專利申請量和專業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的學(xué)術(shù)論文發(fā)表量標(biāo)志著其擁有源源不竭的創(chuàng)新能力。ASML的第一項專利為“Device for exchanging masks”，于1984年5月授權(quán)。1984年4月-1991年2月，ASML公司的專利申請量維持在每年4～6項，1990年后有了較大幅度增長，2002年8月，自ASML推出“專利獎勵計劃”(Patent Award Program)以來，專利申請量驟增，平均每兩位工程師就有1位申請了專利，1/3的創(chuàng)新建議轉(zhuǎn)化為專利并申請保護(hù)。截至2018年12月31日，ASML在全球半導(dǎo)體設(shè)備和芯片制造國家擁有約12000項專利或?qū)＠暾?，業(yè)務(wù)涵蓋各個領(lǐng)域，其中，約300項的新專利申請可能在未來幾年擴(kuò)展到其它國家。ASML-Philips-Zeiss企業(yè)聯(lián)盟每年在SPIE發(fā)表的學(xué)術(shù)論文、會議論文涉及多個方面，獨立發(fā)表或與芯片制造商、分系統(tǒng)模塊制造商、材料提供商、大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)合作發(fā)表的文獻(xiàn)量逐年遞增，超過競爭對手Nikon和Canon，這些都標(biāo)志著ASML擁有強(qiáng)大的開拓創(chuàng)新能力。

表2 ASML公司研發(fā)費用變化情況(2008-2018年)

注：表中原始數(shù)據(jù)來源于ASML相關(guān)年報

表3 ASML公司光刻設(shè)備平均售價比較(2015-2018年)

注：表中原始數(shù)據(jù)來源于ASML相關(guān)年報

ASML的創(chuàng)新能力集中體現(xiàn)在光刻機(jī)設(shè)備性能上，這些創(chuàng)新也為ASML帶來了良好的市場口碑和豐厚的經(jīng)濟(jì)回報，每年售出的光刻機(jī)設(shè)備均價從2000年初的約820萬歐元/臺(2000-2003年年均價)驟增到現(xiàn)在的4520萬歐元/臺(2015-2018年年均價)。通過實施技術(shù)創(chuàng)新，光刻設(shè)備性能大幅提升，設(shè)備技術(shù)復(fù)雜度也隨之提升，在15年里ASML的光刻機(jī)平均售價增長了約5.5倍，這也為繼續(xù)創(chuàng)新提供了不竭動力和資金源泉。

ASML于1980年代研發(fā)出PAS 2000/5000平臺及其系列產(chǎn)品，費用支出達(dá)5000萬歐元；1990年代研發(fā)出PAS 5500平臺及其系列產(chǎn)品，費用支出約4億歐元；2000年代研發(fā)出具有里程碑意義的TWINSCAN平臺及其浸液光刻，經(jīng)費支出達(dá)15億歐元之多；2010年后對NXE EUV加大研發(fā)力度，集中歐洲與北美研究機(jī)構(gòu)進(jìn)行聯(lián)合攻關(guān)，研發(fā)投入20余億歐元。

強(qiáng)大的創(chuàng)新能力是ASML產(chǎn)品不斷推陳出新的動力源泉，是ASML公司30多年技術(shù)積累的厚積薄發(fā)。由此不難理解為什么在光刻機(jī)設(shè)備領(lǐng)域具有里程碑意義的雙臺技術(shù)和浸沒式技術(shù)最早在ASML誕生，并通過進(jìn)一步技術(shù)改進(jìn)和質(zhì)量完善，成功實現(xiàn)商業(yè)化應(yīng)用。針對下一代EUV光刻技術(shù)，ASML公司20多年來一直懷抱著攻堅克難的執(zhí)著精神進(jìn)行探索和研發(fā)，終于在2018年實現(xiàn)了EUV光刻設(shè)備具有經(jīng)濟(jì)性的量產(chǎn)產(chǎn)率。ASML所有這些具有開拓性的技術(shù)創(chuàng)新大大推動了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，為芯片制造商提供強(qiáng)大的支撐服務(wù)，持續(xù)推進(jìn)摩爾定律向前發(fā)展，逐步逼近光學(xué)極限。

1.4 ASML公司治理特點——管理委員會負(fù)責(zé)公司治理，兩個總裁分管技術(shù)和運營

ASML董事會管理委員會目前采用兩總裁體制：一位總裁兼任首席執(zhí)行官，對公司財務(wù)運營和經(jīng)營管理總負(fù)責(zé)；另一總裁兼任首席技術(shù)官，對公司產(chǎn)品應(yīng)用和技術(shù)開發(fā)總負(fù)責(zé)。該體制類似中國航天業(yè)的“兩總”制(總指揮和總工程師)。

ASML公司董事會管理委員會負(fù)責(zé)公司治理，現(xiàn)有成員6人。他們擁有豐富的行業(yè)任職背景，都曾在國際大公司中擔(dān)任要職，在相關(guān)的科學(xué)、技術(shù)、財務(wù)和營銷領(lǐng)域擁有豐富的資源，是相關(guān)領(lǐng)域先進(jìn)的技術(shù)專家和管理專家。董事會的部分成員還在與ASML有合作關(guān)系的供應(yīng)公司、大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)中擔(dān)任兼職工作。

現(xiàn)任ASML總裁兼首席執(zhí)行官彼得·溫寧克(Peter Wennink)于2013年7月1日被任命。他于1999年加入ASML公司，擔(dān)任執(zhí)行副總裁、首席財務(wù)官和管理委員會成員。彼得在財務(wù)和會計方面擁有深厚的背景。在加入ASML之前，他曾在Deloitte Accountants擔(dān)任合伙人，專注于高科技和半導(dǎo)體設(shè)備。除了在ASML擔(dān)任職務(wù)外，彼得還是荷蘭皇家特許會計師協(xié)會會員、埃因霍溫理工大學(xué)監(jiān)事會成員、FME-CWM的董事會成員(FME-CWM是荷蘭科技行業(yè)的雇主組織)。

現(xiàn)任總裁兼首席技術(shù)官馬丁·范登布林克(Martin van den Brink)于2013年7月1日被任命。他于1984年初加入ASML，是ASML第一批創(chuàng)始人雇員之一，并擔(dān)任多個工程職位，負(fù)責(zé)包括產(chǎn)品開發(fā)引入模塊化設(shè)計、實施開放的創(chuàng)新政策以及TwinScan雙臺架構(gòu)、浸沒式光刻技術(shù)和極端紫外(EUV)光刻技術(shù)等幾乎所有的重大技術(shù)決策。1995年，馬丁被任命為技術(shù)副總裁；1999年被提升為市場營銷與技術(shù)執(zhí)行副總裁，并被任命為ASML管理委員會成員。馬丁于1984年獲得荷蘭特溫特大學(xué)物理學(xué)學(xué)位，2012年被阿姆斯特丹大學(xué)授予物理學(xué)榮譽博士學(xué)位，并于2014年獲得荷蘭獅子騎士勛章。他因?qū){米技術(shù)的貢獻(xiàn)而獲得2014年IEEE Cledo Brunetti獎，并因?qū)ξ㈦娮有袠I(yè)的杰出貢獻(xiàn)而榮獲2015年IEEE Robert N Noyce獎?wù)拢?019年馬丁獲得了IMEC創(chuàng)新終身獎，以表彰其為微芯片所作出的個人貢獻(xiàn)。

2 ASML企業(yè)運作模式啟示

由于地理位置、國情文化、產(chǎn)業(yè)配套等方面存在差異，ASML企業(yè)運作模式很難在中國被原封不動地復(fù)制，但其成功的運行機(jī)制值得學(xué)習(xí)和借鑒。

ASML自身擁有的核心技術(shù)及其市場表現(xiàn)是其與其它供應(yīng)商合作的前提和關(guān)鍵，是組建企業(yè)聯(lián)盟的基石。聯(lián)盟內(nèi)的核心企業(yè)和關(guān)鍵供應(yīng)商地理位置接近，交通快捷，溝通便利。ASML與供應(yīng)商合作并不是采用OEM方式，放手任由供應(yīng)商去作，而是委派專家和工程師與關(guān)鍵供應(yīng)商一起組建項目研發(fā)團(tuán)隊，共同制定概念方案和技術(shù)路線，并具體控制與項目進(jìn)度相關(guān)的各個環(huán)節(jié)，實現(xiàn)在總體上和細(xì)節(jié)上全面關(guān)注并指導(dǎo)項目進(jìn)展。

ASML與大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)擁有長期友好合作關(guān)系，許多帶有試探性的創(chuàng)新技術(shù)自提出后，均是先通過大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)進(jìn)行原理驗證并開發(fā)出實驗原型后，再將研究成果拿到ASML聯(lián)盟內(nèi)企業(yè)進(jìn)行產(chǎn)品工程級的改進(jìn)和完善，而后作為技術(shù)儲備，或以最快速度應(yīng)用到光刻機(jī)產(chǎn)品中。ASML通過對大學(xué)和科研機(jī)構(gòu)進(jìn)行項目資助，聯(lián)合培養(yǎng)碩、博士，很多人畢業(yè)后都留在ASML及其聯(lián)盟企業(yè)內(nèi)工作。此外，大學(xué)、科研機(jī)構(gòu)與聯(lián)盟企業(yè)間的人員交流機(jī)制健全，企業(yè)研究人員可以指導(dǎo)學(xué)生，亦可以到大學(xué)從教或是深造，大學(xué)、科研機(jī)構(gòu)的老師和研究人員也可以根據(jù)項目性質(zhì)到企業(yè)任職，人才流動機(jī)制健全，流動渠道比較暢通與自由。

ASML在技術(shù)領(lǐng)域的厚積薄發(fā)完全得益于其強(qiáng)大的技術(shù)研發(fā)隊伍和30多年的經(jīng)驗積累以及技術(shù)積淀。ASML為企業(yè)家精神提供了自由的土壤，使多學(xué)科多領(lǐng)域?qū)＜液涂茖W(xué)家有充分的自由去實現(xiàn)有助于ASML技術(shù)優(yōu)勢的新技術(shù)與新概念，非垂直的層次結(jié)構(gòu)也使得組織中任何地方產(chǎn)生的想法都有可能變成現(xiàn)實。

同時，ASML聯(lián)盟內(nèi)的中高層(技術(shù)層和管理層)定期互換以及技術(shù)工程師的定期互訪機(jī)制、董事會管理委員會的兩總裁制、董事會成員的豐富資歷等，這一切都為ASML的健康肌體注入了新鮮“血液”，使之一直保持著旺盛的創(chuàng)新活力。