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      試論高新技術企業(yè)的發(fā)展戰(zhàn)略

      2020-02-28 13:19:15文|
      經(jīng)濟視野 2020年21期
      關鍵詞:內(nèi)外部形勢高新技術

      □ 文| 馬 俊

      引言

      高新技術企業(yè)是在技術要素作為新的生產(chǎn)發(fā)展核心動力的情況下逐步發(fā)展起來的,其不僅僅需要嚴格的初始認定,也需要在后續(xù)的經(jīng)營過程中持續(xù)的保持相應的高新技術特征,如研發(fā)人員占比,研發(fā)強度等等方面。對于企業(yè)來說,一旦被認定為高新技術企業(yè),最為直接的好處就是能夠獲得相應的扶持或者補助政策,這對于處于初創(chuàng)期的高新技術企業(yè)來說是至關重要的。隨著當下的國內(nèi)外經(jīng)濟政治局勢錯綜復雜,對于高新技術企業(yè)的發(fā)展具有首當其沖的影響,例如市場分隔、市場萎縮、技術封鎖等等問題可能會接踵而至。因此,做好高新技術企業(yè)的發(fā)展戰(zhàn)略至關重要。我們也將從當下高新技術企業(yè)的發(fā)展戰(zhàn)略現(xiàn)狀及問題著手,有針對性的提出對策建議。

      高新技術企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略設計和執(zhí)行的現(xiàn)狀及問題

      發(fā)展戰(zhàn)略的普及度高,但整體的針對性不足

      在現(xiàn)代管理理念的積極滲透下,我國高新技術企業(yè)對于發(fā)展戰(zhàn)略的制定具有普遍的共識,能夠意識到發(fā)展戰(zhàn)略對于企業(yè)自身發(fā)展來說具有極其重要的作用。因此,在我國的高新技術企業(yè)中,普遍都規(guī)劃和設計了相應的發(fā)展戰(zhàn)略,以期能夠為自身的未來發(fā)展指明方向。但是就具體的發(fā)展戰(zhàn)略內(nèi)容來看,其整體上存在著針對性不高的問題。

      不同的高新技術企業(yè)由于所處行業(yè)和發(fā)展階段的不同,往往具有不同的發(fā)展特點,也面臨著不同的市場環(huán)境、競爭環(huán)境等等,因而對于未來的發(fā)展目標和戰(zhàn)略設計也會有不同的特點。但是,在實際調(diào)研中我們發(fā)展,眾多高新技術企業(yè)的發(fā)展戰(zhàn)略均出現(xiàn)或多或少的雷同,這種雷同現(xiàn)象對于發(fā)展戰(zhàn)略功能的發(fā)揮具有較大的制約作用。

      發(fā)展戰(zhàn)略的地位較高,但總體的執(zhí)行力不強

      整體來看,發(fā)展戰(zhàn)略在我國眾多的高新技術企業(yè)中處于較高的地位,往往是企業(yè)總體戰(zhàn)略的重要組成部分,具有較高甚至是最高的執(zhí)行優(yōu)先級。但是在實際的執(zhí)行過程中,卻總體呈現(xiàn)出執(zhí)行力度不強的問題。究其原因,雖然發(fā)展戰(zhàn)略具有較高的地位,但是具體的執(zhí)行機制并沒有很好的建立起來,這是原因之一,同時由于發(fā)展戰(zhàn)略具體內(nèi)容的可操作性不強也是導致執(zhí)行力度不到位的重要原因。值得一提的是,具體執(zhí)行人員的水平不足也是造成發(fā)展戰(zhàn)略執(zhí)行不足的原因之一,特別是既有豐富的理論知識,又有相關行業(yè)的實踐經(jīng)驗的高水平的復合型實干人才,長期處于不足狀態(tài)。

      發(fā)展戰(zhàn)略的目標明確,但結合新形勢的調(diào)整不足

      在高新技術企業(yè)制定發(fā)展戰(zhàn)略的過程中,其往往會根據(jù)當下的內(nèi)外部環(huán)境以及自身的歷史發(fā)展情況來設定相應的發(fā)展戰(zhàn)略目標,以此中長期目標來作為短期目標的分解基礎。但是目標本質(zhì)上是當時內(nèi)外部環(huán)境要素的綜合反應,一旦環(huán)境要素發(fā)生了變化,此種目標的準確性就要大打折扣,進而起不到指引的效果。從當下的高新技術企業(yè)的實際情況看,其多數(shù)都面臨著相關發(fā)展戰(zhàn)略目標的調(diào)整不足的問題,或太過頻繁,或太過僵化,都極易造成企業(yè)的發(fā)展戰(zhàn)略淪為一紙空文,在實踐中起不到任何作用。

      高新技術企業(yè)優(yōu)化提升發(fā)展戰(zhàn)略設計和執(zhí)行的對策建議

      提升發(fā)展戰(zhàn)略的針對性,避免盲目雷同照搬

      上文已經(jīng)提及,不同行業(yè)或同一行業(yè)的不同發(fā)展階段的企業(yè)都具有不同的特點,其所制定的發(fā)展戰(zhàn)略理論上也應該存在較大的差異。因此,高新技術企業(yè)在設計自身的發(fā)展戰(zhàn)略時,應該重點關注這些不同點,從差異著手,以期能夠提升自身發(fā)展戰(zhàn)略的針對性。具體來說,高新技術企業(yè)可以從以下兩個方面著手:一是要全面完整準確的梳理企業(yè)所處的行業(yè)細分領域以及企業(yè)自身的發(fā)展階段,梳理對象不僅僅包括自身內(nèi)部的具體情況,同時也要包括外部的市場和競爭等環(huán)境。通過內(nèi)外諸多關鍵要素的梳理,企業(yè)能夠很快的構建出環(huán)境分析框架和主干內(nèi)容,從而為下一步的具體目標制定奠定堅實基礎。二是要對企業(yè)自身的重點環(huán)節(jié)或重點目標做出針對性的戰(zhàn)略部署,特別是那些具有個性化的目標,需要通過更具針對性的戰(zhàn)略措施來實現(xiàn)。在此過程中,企業(yè)不能夠一味的進行照搬或者借鑒,從而導致發(fā)展戰(zhàn)略的雷同,而是要根據(jù)具體情況進行針對性的設計和執(zhí)行。

      強化發(fā)展戰(zhàn)略的執(zhí)行力,杜絕落實浮于表面

      發(fā)展戰(zhàn)略對于企業(yè)的未來發(fā)展具有重要的指引作用,是企業(yè)實現(xiàn)自身發(fā)展目標和預期經(jīng)濟效益的重要基礎支撐。因此,企業(yè)是否能夠切實的按照發(fā)展戰(zhàn)略的相關內(nèi)容進行執(zhí)行對于企業(yè)的發(fā)展來說至關重要。但是在實際工作中,高新技術企業(yè)在發(fā)展戰(zhàn)略的執(zhí)行方面仍然存在一些問題和不足,鑒于此,高新技術企業(yè)應該從以下兩個方面著手:一是要做好相應的執(zhí)行機制設計,執(zhí)行機制往往涵蓋了執(zhí)行的主體、執(zhí)行目標、執(zhí)行方式、執(zhí)行節(jié)奏等等方面的內(nèi)容,通過執(zhí)行機制的設計,能夠為企業(yè)對于發(fā)展戰(zhàn)略的執(zhí)行提供具體的操作指引,同時在此過程中也是對前期的發(fā)展戰(zhàn)略的反向優(yōu)化工作,在實踐中進一步剔除掉那些不具有操作性的戰(zhàn)略內(nèi)容,對于發(fā)展戰(zhàn)略本身也是一種優(yōu)化。二是要不斷的強化執(zhí)行監(jiān)督工作,切忌執(zhí)行行為流于形式,不能達到切實的效果。在此方面,最為重要的優(yōu)化點就是要做好執(zhí)行監(jiān)督的評價機制優(yōu)化。在傳統(tǒng)的監(jiān)督評價過程中,主觀因素總是會起到較大的作用,很多的監(jiān)督評價內(nèi)容都是定性化的。因此,高新技術企業(yè)應該充分發(fā)揮其對于信息技術的理解和應用優(yōu)勢,通過設計量化監(jiān)督評價指標來降低主觀因素的影響,進而能夠提升監(jiān)督評價工作的客觀性和準確性。

      明確發(fā)展戰(zhàn)略的新形勢,避免目標調(diào)整滯后

      發(fā)展戰(zhàn)略的具體內(nèi)容和目標設定總是基于一定的內(nèi)外部形勢而確定的,有依有據(jù),并不是憑空想象或者隨意斷定而確定的。因此,高新技術企業(yè)的發(fā)展戰(zhàn)略的目標和具體內(nèi)容也應該隨著內(nèi)外部環(huán)境和形勢的變化而做出有針對性的調(diào)整。具體來說,高新技術企業(yè)應該從以下兩個方面來做好相應的調(diào)整工作:

      一是要保持發(fā)展戰(zhàn)略目標和內(nèi)容與內(nèi)外部形勢的聯(lián)動,這種聯(lián)動不需要是一對一的,而是一個整體的概念,基于宏觀的角度。在此過程中,聯(lián)動機制的建立尤為重要,即是如何才能夠?qū)崿F(xiàn)形勢變化便能夠觸發(fā)發(fā)展戰(zhàn)略的調(diào)整,這個機制非常關鍵。一般來說,除了傳統(tǒng)的定期或不定期的發(fā)展戰(zhàn)略形勢研判討論會外,還可以通過實際執(zhí)行反饋來達到對內(nèi)外部環(huán)境更為直接和及時的應對反應。值得一提的是,戰(zhàn)略的執(zhí)行是需要保持一定的穩(wěn)定性的,朝令夕改式的戰(zhàn)略在執(zhí)行層面會帶來極大的問題,從而難以發(fā)揮戰(zhàn)略預期的效果。對于高新技術企業(yè)的發(fā)展戰(zhàn)略來說也是如此,要保持好動態(tài)調(diào)整和相對穩(wěn)定性之間的平衡。

      二是要注重識別新形勢的實質(zhì)和趨勢。高新技術企業(yè)所面臨的內(nèi)外部形勢是復雜綜合多變的,這其中有一些是長期的基礎的形勢,但有一些卻是短期的的形勢波動。企業(yè)要善于分析和識別新形勢的本質(zhì)和長短期波動性質(zhì),避免對于長期形勢變化反應不足,同時也避免對于短期形勢變化反應過度,從而造成發(fā)展戰(zhàn)略的失效。

      結語

      綜上所述,發(fā)展戰(zhàn)略對于高新技術企業(yè)的持續(xù)發(fā)展來說具有十分重要的作用,是指引和規(guī)范企業(yè)發(fā)展的基礎支撐。在實際的設計執(zhí)行過程中,高新技術企業(yè)在發(fā)展戰(zhàn)略方面還存在一些問題和不足,導致發(fā)展戰(zhàn)略的預期效果整體實現(xiàn)不足。對比,高新技術企業(yè)應該著力從提升針對性、強化執(zhí)行力、明確新形勢等三大方面來提升發(fā)展戰(zhàn)略的設計和執(zhí)行,以期能夠切實的發(fā)揮發(fā)展戰(zhàn)略的功能作用。

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