潘艷麗,施偉杰,吳 平,李富龍,葉青云
(1.廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 深圳分公司,廣東 深圳518057;2.深圳晶源信息技術(shù)有限公司,廣東 深圳518000)
晶體管泛指一切以半導(dǎo)體材料為基礎(chǔ)的單一元件,包括各種半導(dǎo)體材料制成的二極管、三極管、場效應(yīng)管、可控硅等[1].1956年,3 位美國物理學(xué)家因為共同發(fā)明晶體管而一起獲諾貝爾物理學(xué)獎,在隨后的半個多世紀,晶體管取得了舉世矚目的發(fā)展,被廣泛應(yīng)用于航天航空、軍事、電視、手機、電腦等領(lǐng)域,成為現(xiàn)代電子學(xué)、微電子學(xué)的主要基石之一[2].以晶體管為代表的高端新型電子元器件產(chǎn)業(yè)是廣東省戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展最有優(yōu)勢、創(chuàng)新最為活躍的領(lǐng)域之一.據(jù)廣東省電子行業(yè)協(xié)會的數(shù)據(jù)統(tǒng)計,2015年度廣東省電子元件制造業(yè)全年實現(xiàn)增加值1199 億元,同比增長4.8%,電子器件制造業(yè)實現(xiàn)增加值983億元,同比增長9.2%①http://www.gdeia.com/index.php?a=detail&c=news&id=2775..此外,廣東省聚集著一批從事電子通訊領(lǐng)域的行業(yè)龍頭企業(yè),因此,高端新型電子元器件產(chǎn)業(yè)在技術(shù)上的突破和發(fā)展對于促進廣東省經(jīng)濟發(fā)展有著巨大的社會效益和經(jīng)濟價值,培育和發(fā)展該產(chǎn)業(yè)是廣東省加快轉(zhuǎn)型升級的重要抓手.
專利信息預(yù)警分析是指通過多種專利分析手段對專利信息進行深入分析,以此揭示行業(yè)內(nèi)的技術(shù)分布、龍頭企業(yè)或競爭對手技術(shù)分布等[3].本文采用定量和定性相結(jié)合的方法對晶體管產(chǎn)業(yè)開展專利預(yù)警分析[4],包括晶體管產(chǎn)業(yè)的專利申請態(tài)勢、主要技術(shù)領(lǐng)域、技術(shù)空白點和重點專利申請人等,針對可能遇到的專利風險,提出廣東省晶體管產(chǎn)業(yè)的發(fā)展建議.
本文選擇智慧芽專利檢索數(shù)據(jù)庫作為本次分析的數(shù)據(jù)來源,按照國家知識產(chǎn)權(quán)局《專利分析實務(wù)手冊》制定檢索策略并對檢索數(shù)據(jù)進行除燥和標引[5],檢索專利時間截止是2018年5月31日,對于中國申請和中國公開產(chǎn)生多個文本的,僅保留最終的一個文本,由于從專利申請到專利公開一般需要1~3年時間,因此2016年之后的數(shù)據(jù)為不完整的.
在過去的半個多世紀,以晶體管為代表的電子元器件催生了集成電路的產(chǎn)生,進而在全球范圍內(nèi)推動了半導(dǎo)體電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展.如圖1所示,從專利申請的階段來看,1940年代至1960年代為晶體管專利申請的初始階段,也即晶體管產(chǎn)業(yè)的緩慢發(fā)展期,1970年代至1990年代初期,晶體管產(chǎn)業(yè)處于第一快速發(fā)展階段,1990年代后期至2013年,為第二快速發(fā)展階段,2013年之后晶體管專利申請呈現(xiàn)下降態(tài)勢.
圖1 全球晶體管專利申請趨勢圖
1949年全球晶體管產(chǎn)業(yè)專利申請量為22 件,世界上第一只“PN 結(jié)型晶體管”于1950年問世,由此可以看出,晶體管產(chǎn)業(yè)發(fā)展之初就非常注重專利保護;1958年,第一塊集成電路板問世,此階段的專利申請量也出現(xiàn)了一個小幅度的增長,1957年專利申請量比1953年增長一倍,在1960年代期間,晶體管專利申請量處于平緩增長的趨勢;伴隨著1971年Intel 推出1kb 動態(tài)隨機存儲器(DRAM)、1988年16MDRAM 問世、1993年66MHz 奔騰處理器的出現(xiàn),集成電路發(fā)展進入超大規(guī)模階段,從1970年代到1990年代的30年間,晶體管專利的申請量開始加速增長,1970年專利申請量突破千件,2000年超過5000件;進入21 世紀,芯片生產(chǎn)工藝快速進步,晶體管專利申請量也呈現(xiàn)迅速增長態(tài)勢,2005年突破1 萬件,2013年接近1.5 萬件.2013年之后,晶體管技術(shù)進入成熟期,專利申請量下降,但是作為半導(dǎo)體行業(yè)乃至電子行業(yè)的基礎(chǔ),晶體管的年均申請總量仍然數(shù)量龐大,仍然屬于創(chuàng)新活躍的產(chǎn)業(yè).
從表1中可以看出,日本、美國和中國是晶體管產(chǎn)業(yè)專利受理的主要國家,反映出這3 個國家是晶體管產(chǎn)業(yè)的主要市場消費國,這與全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實際的市場分布情況相契合:自從晶體管在美國誕生以來,美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一直具有其他地區(qū)無法復(fù)制的技術(shù)和變革優(yōu)勢;日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)緊隨美國,采用專利技術(shù)轉(zhuǎn)讓以及合資等方式緊密追趕,并且在遭遇美國的技術(shù)封鎖之后,“舉國之力”來進行自主研發(fā),通過政府主導(dǎo)的產(chǎn)學(xué)研項目實現(xiàn)了技術(shù)上的突破,帶來了專利申請量的快速增長,于上個世紀七八十年代開啟了日本半導(dǎo)體業(yè)的“黃金時代”;中國作為電子制造大國,一直是國外各大廠商進行專利布局的重點市場,為了實現(xiàn)技術(shù)自主創(chuàng)新,國內(nèi)科研院校和本土企業(yè)在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一直持續(xù)研發(fā),雖然在專利總體數(shù)量與日本、美國仍有差距,但是差距在逐漸的減?。?/p>
表1 全球各受理局晶體管及其主要技術(shù)分支專利申請量排名
IPC 技術(shù)領(lǐng)域反映了專利申請的主要方向,通過IPC 分類可以判斷某項技術(shù)的技術(shù)研發(fā)重點.從表2可以看出,全球晶體管專利IPC 排名前十位的主要技術(shù)領(lǐng)域分布在晶體管與集成電路、半導(dǎo)體相關(guān)的領(lǐng)域,其中,晶體管(H01L21/331)的專利數(shù)量超過4 萬件,是目前晶體管產(chǎn)業(yè)的主要研發(fā)領(lǐng)域;半導(dǎo)體器件(H01L33/00)和場效應(yīng)管(H01L29/78)的專利申請占比基本相同,是晶體管產(chǎn)業(yè)應(yīng)用于集成電路的專利高產(chǎn)出區(qū)域;薄膜晶體管領(lǐng)域(H01L29/786)和雙極結(jié)型晶體管領(lǐng)域(H01L29/73)占比均超過10%,屬于潛在應(yīng)用價值較大的領(lǐng)域.
如表3所示,晶體管技術(shù)產(chǎn)出集中在場效應(yīng)晶體管、雙極性晶體管和發(fā)光二級管等技術(shù)分支,美國和日本在前兩個技術(shù)領(lǐng)域具有顯著優(yōu)勢,而中國在發(fā)光二極管領(lǐng)域的專利申請量遙遙領(lǐng)先.在其他技術(shù)分支,我國在隧道二級管、穩(wěn)壓二極管、PIN二極管和肖特基二極管較為薄弱,美、日在這4 個技術(shù)領(lǐng)域具有領(lǐng)先優(yōu)勢,積累了較多專利,中國在雪崩二級管、整流二極管和開關(guān)二級管具有明顯的專利申請優(yōu)勢.
表2 全球晶體管領(lǐng)域?qū)@鸌PC 分布
表3 全球晶體管各技術(shù)分支申請人國家排名
表4為中國各省/市在晶體管各技術(shù)分支的專利分布情況,從表中可以看出,廣東省在晶體管領(lǐng)域?qū)@麛?shù)量積累領(lǐng)先于其他省市,但仍有短板,專利申請主要集中在發(fā)光二極管和場效應(yīng)晶體管,其他領(lǐng)域?qū)@暾垟?shù)量較少.在場效應(yīng)晶體管、雙極性晶體管、整流二極管和肖特基二極管細分技術(shù)領(lǐng)域,廣東省的專利量與排名靠前的江蘇省、浙江省和上海市等省市之間存在較大的差距.在開關(guān)二極管和隧道二極管細分技術(shù)領(lǐng)域,存在明顯的技術(shù)空白.
表4 中國各省/市晶體管各技術(shù)分支專利申請量 (申請量/件)
表5為晶體管領(lǐng)域龍頭企業(yè)的中國有效專利量及涉及領(lǐng)域,從表中可以看出,在晶體管的每個技術(shù)領(lǐng)域,都有國內(nèi)高等院校和企業(yè)出現(xiàn),有的國內(nèi)專利權(quán)人排名較為靠前,有的在超過2 個的技術(shù)領(lǐng)域都有布局專利.中國科學(xué)院在發(fā)光二極管、場效應(yīng)晶體管和雙極性晶體管三個領(lǐng)域共布局接近400 件專利,上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司在肖特基二極管、雙極性晶體管和場效應(yīng)晶體管3 個領(lǐng)域布局專利超過300 件,由此可見,國內(nèi)專利權(quán)人的總體創(chuàng)新能力在逐步提高.在場效應(yīng)晶體管領(lǐng)域,中芯國際集成電路制造有限公司以373 件專利排在第一位,作為我國技術(shù)最全面、規(guī)模最大的集成電路制造企業(yè),以及世界領(lǐng)先的集成電路晶圓代工企業(yè)之一,中芯國際從建立資深研發(fā)團隊、國際產(chǎn)學(xué)研合作、重大科研項目等各個方面入手,在關(guān)鍵技術(shù)節(jié)點布局專利.
從表5中也可以看出,美國IBM、韓國三星公司和LG 公司、日本三菱公司和松下公司等巨頭企業(yè)均非常注重在中國的專利布局,IBM 在雙極性晶體管和場效應(yīng)晶體管兩個領(lǐng)域布局專利超過200 件,三星公司和LG 公司在發(fā)光二極管領(lǐng)域布局專利442 件.由于顯示屏等發(fā)光器件以及大規(guī)模集成電路對發(fā)光二極管和場效應(yīng)晶體管的需求,國外巨頭們非常重視在這兩個領(lǐng)域的專利布局,因此國內(nèi)創(chuàng)新主體進入時需提前進行專利侵權(quán)風險分析,避免侵犯IBM、三星、LG 等公司的在先專利權(quán);在肖特基二極管、雙極性晶體管領(lǐng)域,國外專利權(quán)人布局的專利數(shù)量并不多,專利風險相對較低,是國內(nèi)企業(yè)未來可以提前進行專利布局的技術(shù)領(lǐng)域.
表5 全球龍頭企業(yè)中國專利技術(shù)布局列表(申請量/件)
選擇智慧芽專利檢索數(shù)據(jù)庫對晶體管產(chǎn)業(yè)的全球申請態(tài)勢、IPC 技術(shù)領(lǐng)域分布、全球及中國各省市晶體管技術(shù)空白點以及重點專利申請人進行專利分析,主要結(jié)論與建議包括以下3個方面:
1)加強專利布局方面.以晶體管為代表的國內(nèi)新型電子元器件產(chǎn)業(yè)起步晚,發(fā)展慢,企業(yè)的研發(fā)投入整體落后于國外,核心技術(shù)較為缺乏.在國外產(chǎn)業(yè)巨頭大力在我國進行專利布局的情況下,我國晶體管產(chǎn)業(yè)研發(fā)主體不僅要注重專利申請數(shù)量的提升,更要加大高質(zhì)量專利的產(chǎn)出,從數(shù)量和質(zhì)量2 個方面加強專利布局.廣東省的晶體管專利申請總量雖然在國內(nèi)領(lǐng)先,但是在開關(guān)二極管、隧道二極管等細分技術(shù)領(lǐng)域上存在明顯的技術(shù)空白點較多,因此也需要加大空白點技術(shù)的專利布局.
2)促進區(qū)域協(xié)同創(chuàng)新.不同省市在晶體管產(chǎn)業(yè)的優(yōu)勢可以實現(xiàn)互補,如場效應(yīng)晶體管、雙極性晶體管、整流二極管和肖特基二極管等領(lǐng)域,可以通過區(qū)域合作實現(xiàn)資源互補.因此,建議廣東省晶體管產(chǎn)業(yè)加大協(xié)同創(chuàng)新力度,與國內(nèi)其他省市領(lǐng)先的企業(yè)和科研院校合作,對廣東省晶體管產(chǎn)業(yè)薄弱環(huán)節(jié)和技術(shù)研發(fā)重點、難點進行協(xié)同創(chuàng)新和專利協(xié)同布局等.
3)建立專利預(yù)警機制.以晶體管為代表的高端新型電子元器件產(chǎn)業(yè)關(guān)系到廣東省乃至全國的創(chuàng)新發(fā)展戰(zhàn)略,鑒于國外巨頭在該產(chǎn)業(yè)的專利布局數(shù)量和對核心技術(shù)的控制,晶體管產(chǎn)業(yè)的研發(fā)主體企業(yè)應(yīng)建立專利預(yù)警機制,在技術(shù)研發(fā)前或產(chǎn)品出口前,針對具體技術(shù)進行專利檢索,排查專利風險,對可能遇到的專利侵權(quán)風險采取規(guī)避處理,在加大技術(shù)研發(fā)強度的同時降低專利侵權(quán)風險.