陸雨茜,陳華康,高 博,龔 敏
(四川大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,成都 610065)
隨著無線通信的發(fā)展,相對較低波段的利用率已經(jīng)趨于飽和,低頻段頻率的擁擠促使電路設(shè)計(jì)逐漸向高頻段發(fā)展。在K波段(18~27 GHz),隨著本地多點(diǎn)通信系統(tǒng)(LMDS)和防撞雷達(dá)等應(yīng)用的發(fā)展和微電子工藝技術(shù)的成熟,毫米波單片電路的需求越來越大[1]。除此之外,K波段在工業(yè)界、科學(xué)界以及醫(yī)療界都有應(yīng)用,該波段適用于高數(shù)據(jù)傳輸速率、近距離雷達(dá)系統(tǒng)以及自動車載雷達(dá)等[2]。
隨著微電子工藝技術(shù)的發(fā)展,GaAs功率器件的發(fā)展十分迅速,它們具有高頻特性好、可靠性高、功率密度高、線性度高、體積小[3]等特征。GaAs pHEMT采用多種不同的材料層合成,采用InGaAs層作為溝道材料,AlGaAs和InGaAs在界面處通過勢阱形成二維電子氣(2DEG),如圖1所示。與傳統(tǒng)的HEMT相比,二維電子氣的遷移率高,平均飽和速度高,使得pHEMT的頻率特性與功率特性都得到了提高[4]。
圖1 pHEMT結(jié)構(gòu)示意圖
本文所設(shè)計(jì)的GaAs MMIC功率放大器采用截止頻率為60 GHz的0.25 μm GaAs pHEMT工藝,通過有耗匹配和三級級聯(lián)放大等技術(shù)實(shí)現(xiàn)了電路設(shè)計(jì)。工藝采用TaN金屬膜電阻、重疊式MIM(M1/Si3N4/M2)電容器、空氣橋連接和背面通孔等技術(shù)。
微波功率放大器在設(shè)計(jì)過程中需要將多種設(shè)計(jì)因素考慮在內(nèi),相較于小信號放大器,功率放大器在要求較高輸出功率的同時,對電路的增益及附加工作效率也有一定要求,設(shè)計(jì)更加復(fù)雜。末級器件的總柵寬根據(jù)電路所要求的輸出功率加以確定,保證足夠功率輸出的同時兼顧效率[5]。通過對器件的分析可以得知,僅采用單個晶體管難以達(dá)到較高的輸出功率,所以放大器采用功率合成的方式以滿足高輸出功率的要求。
在功率放大器的設(shè)計(jì)過程中,為了得到較為平坦的增益,一般采用有耗匹配電路結(jié)構(gòu),最常見的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)是在電路的輸入端或輸出端采用串有電阻的短路線,如圖2所示。其工作原理是:當(dāng)電路工作在低頻時,短路線呈低電抗,電阻消耗增益;當(dāng)工作在高頻時,短路線呈高電抗,電阻對增益的影響較小。因此,匹配網(wǎng)絡(luò)可以引入一個正增益斜率,從而抵消器件的增益隨頻率滾降的部分[6]。與此同時,電阻器可以起到在低頻時緩解電路不穩(wěn)定的作用。
圖2 有耗匹配電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)
結(jié)合實(shí)際工藝與設(shè)計(jì)指標(biāo),綜合選擇三級有源器件尺寸,電路輸入與輸出結(jié)構(gòu)之間采用有耗匹配。經(jīng)過查閱模型手冊得知,實(shí)際工藝的晶體管飽和輸出功率密度為550 mW/mm,在達(dá)到最終設(shè)計(jì)目標(biāo)的同時,需要為輸出功率結(jié)合器預(yù)留3 dB的裕量。經(jīng)過計(jì)算,總晶體管柵寬應(yīng)達(dá)到7.24mm。考慮到兩個指叉之間的間距為100 μm,為了盡可能減小版圖面積,第三級有源器件選擇120μm×8(單指柵寬120μm,柵指數(shù)為8)。
輸入級不僅要提供增益,還要使輸出級達(dá)到飽和輸出功率。若前級與后級有源器件總柵寬比不夠大,則會導(dǎo)致整體的功率壓縮,影響電路效率;若總柵寬比太大,則會使前級電流過大,極大地降低電路效率。為了提供足夠的輸入功率,輸入級與輸出級之間的晶體管柵寬比例為0.5:1[7]左右,從而確定第二級有源器件選擇 100 μm×6(單指柵寬 100 μm,柵指數(shù)為 6)。同理可以確定第一級有源器件選擇100 μm×4(單指柵寬100μm,柵指數(shù)為4),最終電路結(jié)構(gòu)示意圖如圖3所示。
圖3 K波段功率放大器結(jié)構(gòu)示意圖
由于電路設(shè)計(jì)采用的有源器件不是絕對穩(wěn)定器件,所以需要考慮電路的全頻帶穩(wěn)定性,以保證電路在實(shí)際工作中的穩(wěn)定與可靠性[8]。ADS軟件中,主要通過穩(wěn)定因子(k)來對電路是否穩(wěn)定進(jìn)行判斷,為了保證電路在全頻段的穩(wěn)定性,二端口網(wǎng)絡(luò)必須保證在全頻段k>1。k值越大,則表示電路的穩(wěn)定性越強(qiáng)。
在功率放大器的設(shè)計(jì)過程中,常采用在輸入匹配和級間匹配電路中增加電阻電容并聯(lián)網(wǎng)絡(luò)的方法,如圖4所示[9]。在低頻時,傳輸線電抗較小,匹配網(wǎng)絡(luò)中的電阻可以降低電路增益;在高頻時傳輸線電抗較大,匹配網(wǎng)絡(luò)中的電阻影響很小[10]。這種電路結(jié)構(gòu)降低電路的增益,從而提高電路的穩(wěn)定性和增益平坦度。
圖4 電阻電容并聯(lián)網(wǎng)絡(luò)
由于微波功率放大器工作在較高頻段,實(shí)際元件制作在一定大小的芯片上,各類器件會產(chǎn)生十分顯著的電磁耦合效應(yīng),對電路進(jìn)行三維電磁場仿真至關(guān)重要。選取合適的元件對電路進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整,從而在節(jié)省仿真時間、提高仿真效率的同時,使版圖更加合理化。為了保證版圖與原理圖仿真結(jié)果的一致性,在原理圖仿真時電路結(jié)構(gòu)與分布版圖需要完全相同;為了避免偏置電流之間互相干擾,每一級電路偏置均獨(dú)立設(shè)計(jì),并且通過濾波電容對低頻信號進(jìn)行濾除。為了保證電流容量,本設(shè)計(jì)均采用雙層金屬走線設(shè)計(jì),同時對寄生參數(shù)有一定的削減作用。通過電磁場設(shè)計(jì)、仿真和調(diào)試,盡量縮小芯片面積以提高成品率,確定功率放大器最終的版圖如圖5所示,版圖面積為2.5mm×3.2 mm。
圖5 K波段功率放大器版圖設(shè)計(jì)
通過大量的調(diào)試,電路輸出功率仿真曲線如圖6所示。仿真結(jié)果顯示,當(dāng)功率放大器電路工作在21~24.5 GHz時,飽和輸出功率大于33 dBm,功率附加效率大于25%,功率增益大于19 dB。
圖6 功率放大器電磁場仿真結(jié)果
本次工作與近幾年文獻(xiàn)中功率放大器電路的平行比較如表1所示。從表1中可知,本功率放大器相對于同類放大器電路具有較高的工作頻率,且在輸出功率方面體現(xiàn)出了一定的優(yōu)勢。
表1 不同文獻(xiàn)中設(shè)計(jì)的功率放大器電路性能參數(shù)對比
本文基于0.25 μm GaAs pHEMT工藝,采用了三級級聯(lián)的電路結(jié)構(gòu),用微帶電路實(shí)現(xiàn)電路輸入、輸出和級間匹配,實(shí)現(xiàn)了一款工作在K波段的高功率放大器,各級柵寬比為1:1.5:2.4。經(jīng) ADS仿真結(jié)果顯示,當(dāng)放大器工作在21~24.5 GHz時,飽和輸出功率大于33dBm,功率附加效率大于25%,功率增益大于19 dB,具有良好的微波性能。