高、低吸水率拋釉磚變形控制的區(qū)別

潘雄

問：從目前國內(nèi)拋釉磚產(chǎn)區(qū)分布來看，北方的拋釉磚以高吸水率為主導(dǎo)，南方產(chǎn)區(qū)則以低吸水率為主，請問這兩種不同吸水率拋釉磚的變形值的控制，在燒成過程中有何異同點(diǎn)？

答：目前拋釉磚從產(chǎn)品的吸水率高低來劃分的話，一般可分為低吸水率（小于0.1%）和高吸水率（大于0.5%以上）兩種。

1拋釉磚變形控制的相同點(diǎn)

（1） 不管是低吸水率還是高吸水率產(chǎn)品，其變形標(biāo)準(zhǔn)值必須以產(chǎn)品拋光后達(dá)到國標(biāo)或企業(yè)內(nèi)控標(biāo)準(zhǔn)為依據(jù)。

（2） 都是以出窯后冷坯的變形值為燒成控制依據(jù)。

（3） 每班都需要不定時(shí)對出窯坯體進(jìn)行吸水率測試和煮水看坯體返變值的監(jiān)控。

（4） 窯內(nèi)截面溫差不能相差過大，否則會(huì)造成同一片磚出現(xiàn)陰陽色或?qū)?yīng)邊變形值差異大現(xiàn)象。

（5） 拋釉磚因其在拋光過程中是采用軟拋工藝，所以坯體的波浪形必須小于0.3 mm，否則容易出現(xiàn)局部拋白缺陷或局部變形超標(biāo)。

（6） 坯料與釉料在燒成過程中的膨脹系數(shù)需匹配，否則會(huì)造成坯體出現(xiàn)馬鞍變形的降級。

（7） 控制好設(shè)備運(yùn)行率，不能出現(xiàn)頻繁空疏窯現(xiàn)象，否則溫度場不穩(wěn)定，都會(huì)給產(chǎn)品帶來色差與磚形不穩(wěn)定現(xiàn)象。

（8） 坯體底漿濃度的控制，如果坯體底漿濃度未控制好也會(huì)造成出窯磚形不穩(wěn)定或局部變形大現(xiàn)象。

（9） 窯爐前溫的穩(wěn)定性對窯內(nèi)走磚及磚形的影響。

（10） 坯體刮邊對磚形的影響，如果坯體刮邊未處理好，相對低溫的釉料粘在輥棒上形成輥棒釘對磚形影響很大。

（11） 釉料始熔點(diǎn)的溫度高低，也對磚形的變化有較大影響，故在釉料方面需加強(qiáng)監(jiān)控。

2拋釉磚變形控制的異同點(diǎn)

（1） 低吸水率的拋釉磚，煮水或泡水及拋光后測量的磚形返變值不能過大，煮水前后的變形值應(yīng)控制小于0.5 mm以下，拋光后放場地8 ～ 12 h復(fù)測變形值應(yīng)控制小于0.1 mm以內(nèi)。

（2） 高吸水率的拋釉磚，則以煮水變化后的變形值作為燒成控制參考值，根據(jù)這個(gè)數(shù)值來調(diào)整出窯冷磚的變形值，很多企業(yè)在轉(zhuǎn)產(chǎn)高吸水率拋釉磚時(shí)，由于前期工藝師或窯爐熱工對這方面的經(jīng)驗(yàn)數(shù)據(jù)未收集好，造成后期生產(chǎn)過程中，磚形不穩(wěn)定的降級相當(dāng)嚴(yán)重，反復(fù)出現(xiàn)，也就是沒有掌握好高吸水率磚形控制要點(diǎn)所引起。

（3） 低吸水率拋釉磚的變形值，則以出窯冷磚的變形數(shù)據(jù)為參考值，該數(shù)值與拋光后內(nèi)控標(biāo)準(zhǔn)值不能相差過大，應(yīng)控制在0.3 mm范圍內(nèi)為宜。

（4） 高吸水率拋釉磚出窯磚形與冷磚的變化較大在1.5 ～ 2.0 mm之間或有些變化更大。

（5） 高吸水率拋釉磚出窯后，待溫度降到150℃以下時(shí)，需要經(jīng)過泡水處理，這樣有利于磚形的穩(wěn)定。

（6） 高吸水率拋釉磚需要嚴(yán)格控制吸水率的波動(dòng)，每班要多測幾次吸水率。