成都嘉納海威科技有限責(zé)任公司 滑育楠 廖學(xué)介 鄔海峰
隨著電子裝備的不斷變革,雷達(dá)與電子戰(zhàn)技術(shù)的發(fā)展對(duì)射頻前端中的低噪聲放大器的性能提出了寬帶、低噪聲、低功耗等要求。這是由于低噪放位于接收系統(tǒng)的前端,其噪聲系數(shù)對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的噪聲影響最大,其增益將決定對(duì)后級(jí)電路的噪聲抑制程度,其線性度對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)范圍產(chǎn)生重要的影響?,F(xiàn)有國(guó)外寬帶低噪聲放大器芯片可以在較寬頻帶內(nèi)實(shí)現(xiàn)較低的噪聲和高線性度[1]-[3],但是國(guó)內(nèi)卻鮮有相關(guān)產(chǎn)品的報(bào)道,并且這些電路主要是共源-共源結(jié)構(gòu)或者共源-共柵結(jié)構(gòu)。傳統(tǒng)的共源-共源放大器通過(guò)兩級(jí)電路電源分別饋電,前級(jí)晶體管通過(guò)電阻降壓獲得合適的漏壓,造成功耗增加;而共源-共柵低噪聲寬帶放大器雖然利用共柵結(jié)構(gòu)大幅改善了輸出阻抗匹配,拓寬了帶寬,但是對(duì)增益貢獻(xiàn)很小。
為了解決上述難題,本文設(shè)計(jì)了一種基于自偏置技術(shù)和電流復(fù)用方法的共源-共源結(jié)構(gòu)的低噪放芯片結(jié)構(gòu),從而提高低噪聲放大器的性能指標(biāo)間的良好權(quán)衡,實(shí)測(cè)結(jié)果表明該芯片在兼顧低功耗的同時(shí)具有極佳的寬帶低噪聲性能和高線性度特性。
圖1 電流復(fù)用的兩級(jí)共源-共源放大器電路原理圖
如圖1所示,本論文的低噪聲寬帶放大器電路采用電流復(fù)用的兩級(jí)共源-共源放大器電路結(jié)構(gòu),同時(shí)采用單電源供電使得應(yīng)用更加方便。第一級(jí)采用自偏置結(jié)構(gòu),同時(shí)和第二級(jí)形成電流復(fù)用偏置,第二級(jí)電路的晶體管的源極通過(guò)一個(gè)高電抗電路連接第一級(jí)電路的漏極,為第一級(jí)晶體管提供偏置電流,達(dá)到電流復(fù)用的作用。高電抗結(jié)構(gòu)利用一個(gè)大電感,實(shí)現(xiàn)隔離前后級(jí)射頻信號(hào)的效果。為改善電路的輸入、輸出匹配,第二級(jí)電路采用并聯(lián)反饋結(jié)構(gòu),同時(shí)可獲得良好的增益平坦度并有效拓展寬帶寬。
第一級(jí)晶體管M1和第二級(jí)晶體管M2的柵寬分別為4×50 um和4×75 um。電容C1和電感L1組成的串聯(lián)諧振通路,將第一級(jí)晶體管M1和輸出信號(hào)耦合到第二級(jí)晶體管M2的輸出端。電容Cs2和電感L2連接第一級(jí)晶體管M1和第二級(jí)晶體管M2,用于將第二級(jí)晶體管M2的直流電流提供給第一級(jí)晶體管M1且將射頻信號(hào)在此支路阻斷。在兩級(jí)級(jí)聯(lián)電路中,第一級(jí)晶體管主要實(shí)現(xiàn)低噪聲和輸入駐波匹配,同時(shí)兼顧提高增益,減小后級(jí)噪聲的影響。采用自偏置技術(shù)實(shí)現(xiàn)了單電源供電。第一級(jí)晶體管的柵極通過(guò)一個(gè)大電感Lg1接地,讓第一級(jí)晶體管的柵極偏置在零電位,同時(shí)阻斷射頻信號(hào)進(jìn)入交流地。在第一級(jí)晶體管的源端插入一個(gè)小電阻Rs1,其值等于所需Vgs1除以希望的漏極電流,將源端電位提高到一個(gè)正的直流電位,幅度等于所需的柵-源極間的電壓,為了防止損失射頻增益,源端通過(guò)一個(gè)大的去耦電容Cs1接地。第二級(jí)晶體管M2從漏極到柵極之間加載了RLC負(fù)反饋電路。負(fù)反饋可以拓展帶寬并穩(wěn)定放大器。因此,本論文所述的寬帶低噪聲放大器節(jié)省了功耗的同時(shí)保持較高增益。
圖2 寬帶低噪聲放大器的芯片照片
該電路結(jié)構(gòu)采用0.15um的GaAs pHEMT工藝流片加工后,獲得的芯片厚度為100 um,最終完成的芯片尺寸為1.97×1.35 mm2,芯片照片如圖2所示。將芯片裝入測(cè)試夾具進(jìn)行微波電性能測(cè)試,工作電壓5V,電流43mA。
圖3 增益和駐波仿真與測(cè)試結(jié)果
圖4 噪聲系數(shù)仿真與測(cè)試結(jié)果對(duì)比
圖5 輸出P-1仿真與測(cè)試結(jié)果對(duì)比
圖3為仿真與測(cè)試的增益、駐波曲線。從測(cè)試結(jié)果中可以看出,測(cè)試與仿真結(jié)果吻合較好,增益測(cè)試結(jié)果高端漲了1dB左右,具有一定正斜率。駐波在6-18G頻帶內(nèi)均小于2,但帶內(nèi)較仿真結(jié)果波動(dòng)較大,造成增益也有一定波動(dòng),這和測(cè)試夾具性能較差有關(guān)。圖4與圖5分別為噪聲系數(shù)和輸出功率P-1的仿真與測(cè)試結(jié)果對(duì)比曲線圖。從對(duì)比圖中可以看出,輸出P-1仿真與測(cè)試基本保持一致,均大于13dBm,測(cè)試結(jié)果的噪聲系數(shù)在帶內(nèi)惡化0.3 dB左右,但均小于2dB。噪聲系數(shù)惡化主要是由于流片工藝噪聲系數(shù)模型在該頻段準(zhǔn)確度不夠,此外,夾具測(cè)試也會(huì)帶入一定的誤差。
本論文采用0.15um GaAs pHEMT工藝研制了一款6-18 GHz低噪聲寬帶放大器芯片,芯片尺寸為1.97 ×1.35 mm2。在6-18 GHz頻帶內(nèi)測(cè)試結(jié)果顯示:放大器帶內(nèi)增益高達(dá)21dB,噪聲系數(shù)典型值為2 dB,輸入、輸出駐波比均小于2,P-1大于13dBm。芯片在5V工作電壓下,電流為43mA,采用電流復(fù)用技術(shù)比傳統(tǒng)設(shè)計(jì)的功耗降低將近40%。
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