InGaA s/A lGaA s量子阱紅外探測(cè)器中勢(shì)壘生長(zhǎng)溫度的研究?

霍大云 石震武張偉 唐沈立 彭長(zhǎng)四

(蘇州大學(xué)光電信息科學(xué)與工程學(xué)院/蘇州納米科技協(xié)同創(chuàng)新中心,蘇州 215006)

(2016年7月20日收到;2016年12月22日收到修改稿)

InGaA s/A lGaA s量子阱紅外探測(cè)器中勢(shì)壘生長(zhǎng)溫度的研究?

霍大云 石震武?張偉 唐沈立 彭長(zhǎng)四

(蘇州大學(xué)光電信息科學(xué)與工程學(xué)院/蘇州納米科技協(xié)同創(chuàng)新中心,蘇州 215006)

(2016年7月20日收到;2016年12月22日收到修改稿)

InGaAs/A lGaAs量子阱是中波量子阱紅外探測(cè)器件最常用的材料體系,本文以結(jié)構(gòu)為2.4 nm In0.35Ga0.65As/40 nm A l0.34Ga0.66As的多量子阱材料為研究對(duì)象,利用分子束外延生長(zhǎng),固定InGaAs勢(shì)阱的生長(zhǎng)溫度(465?C),然后依次升高分別選取465,500,545,580?C生長(zhǎng)A lGaAs勢(shì)壘層,從而獲得四個(gè)不同的多量子阱樣品.通過(guò)熒光光譜以及X射線衍射測(cè)試系統(tǒng)分析了勢(shì)壘層生長(zhǎng)溫度對(duì)InGaAs量子阱發(fā)光和質(zhì)量的影響,并較準(zhǔn)確地給出了量子阱大致的溫致弛豫軌跡:465—500?C,開(kāi)始出現(xiàn)相分離,但缺陷水平較低,屬?gòu)椥猿谠ルA段;500—545?C,相分離加劇并伴隨缺陷水平的上升,屬?gòu)椥猿谠ハ蛩苄猿谠ミ^(guò)渡階段; 545—580?C,相分離以及缺陷水平急劇上升,迅速進(jìn)入塑性弛豫階段,尤其是580?C時(shí),量子阱的材料質(zhì)量被嚴(yán)重破壞.

中波紅外探測(cè),量子阱紅外探測(cè)器件,InGaAs/A lGaAs多量子阱,溫致弛豫

1 引 言

1987 年,Levine等[1]首次驗(yàn)證了多量子阱(MQWs)在紅外探測(cè)領(lǐng)域的應(yīng)用,標(biāo)志著量子阱紅外探測(cè)器件(QW IP)的正式出現(xiàn)[1?5].由于該類器件具有優(yōu)異的材料均勻性、較窄的光譜響應(yīng)以及靈活的能帶剪裁等優(yōu)勢(shì)[5?8],引起了全球范圍內(nèi)如Jet Propu lsion Laboratory[9],A rmy Research Laboratory[10],Goddard[11],Thales等[12]知名研究單位和軍方機(jī)構(gòu)的開(kāi)發(fā)熱潮,但大部分工作都集中在GaAs/A lGaAs基QW IP的研究.這是由于其壘阱之間天然具備幾乎為“零”的晶格失配以及極其相近的生長(zhǎng)窗口等優(yōu)點(diǎn),可以非常容易地獲得極高質(zhì)量的外延材料.但由于受GaAs/A lGaAs量子阱的能帶結(jié)構(gòu)限制,其工作波長(zhǎng)主要位于長(zhǎng)波、甚長(zhǎng)波波段,無(wú)法有效覆蓋中波(3—5μm)區(qū)域.

考慮到現(xiàn)代軍事環(huán)境中有很多目標(biāo),例如戰(zhàn)斗機(jī)、導(dǎo)彈等大型戰(zhàn)略武器在高速飛行時(shí),發(fā)動(dòng)機(jī)尾部噴焰羽狀廢氣柱的紅外輻射主要落在中波區(qū)域以及目前第三代紅外探測(cè)器對(duì)雙(多)色(同時(shí)覆蓋中/長(zhǎng)波)大面陣焦平面成像技術(shù)的要求[13],具有中波響應(yīng)的InGaAs/A lGaAs基QW IP成為全球研究的新熱點(diǎn).然而該類器件的制備比GaAs/A lGaAs QW IP要困難得多,其原因在于: InGaAs量子阱材料的熱穩(wěn)定性差需在低溫沉積(參考區(qū)間為450—500?C),而A lGaAs勢(shì)壘層需升溫生長(zhǎng)以保證“A l”原子的遷移能力(一般不低于580?C),但升溫生長(zhǎng)勢(shì)壘將導(dǎo)致InGaAs量子阱(高應(yīng)變)發(fā)生應(yīng)力釋放(即應(yīng)變弛豫)[14],這將嚴(yán)重影響其材料質(zhì)量.然而,目前InGaAs/(A l) GaAs量子阱材料在應(yīng)力釋放方面的研究主要是探討InGaAs的生長(zhǎng)厚度和生長(zhǎng)溫度對(duì)其應(yīng)力的影響,而壘層(A l)GaAs的生長(zhǎng)溫度對(duì)其應(yīng)力的影響研究相對(duì)較少[15?18],因此對(duì)于該材料的實(shí)際生長(zhǎng),A lGaAs勢(shì)壘層的生長(zhǎng)溫度選擇是高質(zhì)量制備InGaAs/A lGaAs基QW IP的技術(shù)關(guān)鍵.基于此,本文利用分子束外延(MBE)在GaAs(001)襯底上生長(zhǎng)了四個(gè)變勢(shì)壘層溫度的中波InGaAs/A lGaAs應(yīng)變MQWs樣品.然后通過(guò)室溫、低溫光致發(fā)光(PL)以及對(duì)稱(004)面、非對(duì)稱(115)面X射線衍射(XRD)測(cè)試手段對(duì)樣品進(jìn)行了全面的表征測(cè)量,系統(tǒng)分析了勢(shì)壘層生長(zhǎng)溫度對(duì)InGaAs量子阱發(fā)光和材料質(zhì)量的影響并較準(zhǔn)確地給出了量子阱大致的溫致弛豫軌跡,特別是確定了彈性弛豫向塑性弛豫過(guò)渡的溫度區(qū)間,為實(shí)際生長(zhǎng)InGaAs/A lGaAs基QW IP器件提供了關(guān)鍵的技術(shù)參考.

另外值得一提的是,目前有關(guān)(001)襯底上外延的應(yīng)變MQWs(或超晶格)結(jié)構(gòu)的XRD測(cè)試研究幾乎只集中于對(duì)稱面的掃描,而鮮有論及非對(duì)稱面的測(cè)試結(jié)果(不同于體材料的研究).本文通過(guò)采用ω-2θ的面(m apping)掃描方式成功獲得了應(yīng)變InGaAs/A lGaAs MQWs樣品非對(duì)稱(115)面的多級(jí)衛(wèi)星峰數(shù)據(jù),結(jié)合常用的對(duì)稱(004)面的數(shù)據(jù),最終使得我們對(duì)量子阱整個(gè)弛豫過(guò)程有更清晰的理解和全面的認(rèn)識(shí).

2 樣品生長(zhǎng)與測(cè)試

首先,本文利用VG 80H-MBE在半絕緣(001) GaAs襯底上分別制備了四個(gè)InGaAs/A lGaAs MQWs樣品.如圖1所示:四個(gè)樣品的量子阱層都固定在465?C生長(zhǎng),只是各自之間勢(shì)壘層的生長(zhǎng)溫度分別為465,500,545以及580?C.除此之外,它們的材料結(jié)構(gòu)以及其他生長(zhǎng)工藝完全一致.其中“壘阱”之間生長(zhǎng)切換方式為:從“壘”切換到“阱”采用中斷降溫至465?C后生長(zhǎng),而從“阱”切換到“壘”則采用邊升溫邊生長(zhǎng),升降溫速率為3?C/s.

圖1 四個(gè)不同A lGaAs勢(shì)壘生長(zhǎng)溫度的MQW s樣品結(jié)構(gòu)示意圖Fig.1.Sam p le structures of four MQWsw ith diff erent A lGaAs barrier grow th tem peratu re.

圖2 (網(wǎng)刊彩色)(a)樣品低溫10 K熒光譜;(b)室溫300 K熒光譜;(c)熒光積分強(qiáng)度數(shù)據(jù)(10 K/300 K);(d)熒光半高全寬數(shù)據(jù)(10 K/300 K)Fig.2.(color on line)(a)PL of sam p les@10 K;(b)PL of sam p les@300 K;(c)integrated intensity of PL; (d)fu ll w id th at halfm axim um(FW HM)of PL(10 K/300 K).

接著,采用JY-T64000型拉曼光譜儀對(duì)這四個(gè)樣品進(jìn)行了室溫300 K、低溫10 K下的PL(光熒光)測(cè)試.測(cè)試條件為:激發(fā)波長(zhǎng)532 nm,功率0.1mW,積分時(shí)間1ms.圖2(a)和圖2(b)分別為量子阱10 K以及300 K的光譜結(jié)果.

然后,采用PANalytical-DY 1220型XRD對(duì)這四個(gè)樣品進(jìn)行了對(duì)稱(004)以及非對(duì)稱(115)面的ω-2θ線掃描.圖3(a)和圖3(b)分別為(004)和(115)掃描的典型結(jié)果.發(fā)現(xiàn)(115)面的掃描結(jié)果無(wú)法獲得任何MQWs特殊的多級(jí)衍射衛(wèi)星峰圖樣.后改用ω-2θ面(mapping)掃描,成功獲得(115)的多級(jí)衛(wèi)星峰數(shù)據(jù),典型的結(jié)果如圖4所示.接著,我們對(duì)四個(gè)樣品的衛(wèi)星峰個(gè)數(shù)進(jìn)行了系統(tǒng)的統(tǒng)計(jì)(見(jiàn)表1)以及對(duì)?1th衛(wèi)星峰進(jìn)行了ω?fù)u擺曲線的測(cè)試,半高全寬的結(jié)果如圖5所示.

表1 樣品XRD(004)及(115)掃描的衛(wèi)星衍射峰個(gè)數(shù)統(tǒng)計(jì)Tab le 1.Satellite peak counts for XRD(004)and(115) scanning of sam p les.

圖3 (a)XRD(004)ω-2θ線掃描結(jié)果;(b)XRD(115)ω-2θ線掃描結(jié)果Fig.3.(a)XRD(004)ω-2θscanning(line-m ode);(b)XRD(115)ω-2θscanning(line-m ode).

圖4 (網(wǎng)刊彩色)XRD(115)ω-2θ面掃描結(jié)果Fig.4.(color online)XRD(115)ω-2θm apping-scanning.

圖5 樣品XRD(004)及(115)?1th衛(wèi)星衍射峰ω?fù)u擺曲線的半高全寬結(jié)果Fig.5.FW HM for theω-rocking cu rve of?1th satellite peak(004)/(115).

3 討論與分析

圖2(a)和圖2(b)表明量子阱的發(fā)光強(qiáng)度和峰形受A lGaAs勢(shì)壘生長(zhǎng)溫度的強(qiáng)烈調(diào)制.圖2(c)和圖2(d)分別定量地給出了樣品發(fā)光積分強(qiáng)度以及發(fā)光峰的半高全寬隨勢(shì)壘生長(zhǎng)溫度的變化趨勢(shì).低溫10 K時(shí)(如圖2(a)所示):465?C的樣品量子阱熒光很強(qiáng),其發(fā)光峰經(jīng)高斯擬合(見(jiàn)右上角內(nèi)置擬合曲線)發(fā)現(xiàn)具有很好的對(duì)稱性,同時(shí)如圖2(d)所示,其具有最低的半高全寬(22.0 meV),說(shuō)明該樣品的量子阱具有優(yōu)異的材料均勻性(未出現(xiàn)相分離),故465?C下量子阱未發(fā)生明顯弛豫;500?C的樣品熒光峰形開(kāi)始出現(xiàn)了沿主峰右側(cè)(長(zhǎng)波)擴(kuò)展的不對(duì)稱性,伴隨半高全寬增至35.3 m eV(如圖2(d)所示),說(shuō)明量子阱已經(jīng)發(fā)生相分離[19,20],引入了高In局域態(tài)的發(fā)光,但如圖2(c)所示,此時(shí)量子阱的熒光強(qiáng)度并沒(méi)有發(fā)生衰減(相比未弛豫的465?C樣品更強(qiáng)),故500?C下量子阱的弛豫屬?gòu)椥猿谠19];隨著勢(shì)壘生長(zhǎng)溫度的繼續(xù)升高,545和580?C兩個(gè)樣品的熒光強(qiáng)度出現(xiàn)了極速下降,同時(shí)如圖2(d)所示,其半高全寬隨溫度逐漸展寬,故在545?C時(shí)就發(fā)生了塑性弛豫[19],使得阱內(nèi)產(chǎn)生了大量的缺陷,尤其到了580?C,樣品發(fā)光強(qiáng)度相比465?C樣品衰減了一個(gè)多量級(jí)(如圖2(c)所示),表明升溫將進(jìn)一步加劇塑性弛豫,從而迅速使得阱內(nèi)的缺陷水平不斷升高,嚴(yán)重惡化材料的發(fā)光性能.以上論述在300 K熒光的強(qiáng)度數(shù)據(jù)中得到了更有力的支持:由于低溫10 K時(shí)被凍結(jié)的一部分缺陷,將在室溫時(shí)被熱激活,對(duì)應(yīng)的這部分非輻射復(fù)合中心將消耗更多的光生載流子,大大降低載流子的輻射復(fù)合效率.因此300 K下,580?C和545?C兩個(gè)樣品相比465?C樣品發(fā)光強(qiáng)度下降達(dá)到了兩個(gè)數(shù)量級(jí)(見(jiàn)圖2(c)).同理,500?C的樣品室溫發(fā)光依然和465?C樣品維持在同一個(gè)水平,也再次有力地證明了該溫度下量子阱雖然發(fā)生相分離,但缺陷水平非常低,屬?gòu)椥猿谠?雖然300 K和10 K的樣品熒光數(shù)據(jù)在發(fā)光強(qiáng)度上具有一致的變化趨勢(shì),但在其他方面存在著顯著的矛盾:首先,對(duì)比圖2(b)和圖2(a)中的熒光峰形,發(fā)現(xiàn)室溫的熒光峰形的不對(duì)稱性與低溫(10 K)時(shí)完全相反,表現(xiàn)為沿主峰左側(cè)(短波)擴(kuò)展.其原因可解釋為:室溫將導(dǎo)致去局域化[21],抑制了高In局域態(tài)的發(fā)光,從而消除了原來(lái)低溫時(shí)沿主峰右側(cè)擴(kuò)展的不對(duì)稱性.同時(shí)室溫使得熱運(yùn)動(dòng)加劇,促進(jìn)了價(jià)帶中“空穴”從重空穴帶熱激發(fā)到輕空穴帶,故在主峰(“電子-重空穴”輻射復(fù)合)的左側(cè)將出現(xiàn)“電子-輕空穴”復(fù)合的輻射信號(hào),最終導(dǎo)致了由“長(zhǎng)波”擴(kuò)展轉(zhuǎn)變?yōu)椤岸滩ā睌U(kuò)展的不對(duì)稱.

其次,如圖6(a)所示,高溫580?C生長(zhǎng)A l-GaAs相比低溫465?C時(shí),原位反射高能電子衍射(RHEED)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)呈現(xiàn)出更加清晰明亮的主線以及再構(gòu)線,證明升溫生長(zhǎng)勢(shì)壘將大大提高“A l”原子的遷移能力,從而獲得高平整度的外延表面.原子力顯微鏡(AFM)測(cè)試顯示(見(jiàn)圖6(b)),580?C樣品的表面平整度遠(yuǎn)優(yōu)于低溫465?C樣品.另外XRD對(duì)稱(004)掃描數(shù)據(jù)也表明,樣品的?1th衛(wèi)星衍射峰的半高全寬隨勢(shì)壘溫度升高而減少,由465?C時(shí)的90.3 arcs降至580?C時(shí)的36.7 arcs (如圖5所示),且也觀察到衛(wèi)星峰的個(gè)數(shù)隨溫度升高而有所增加,尤其是正衛(wèi)星峰的個(gè)數(shù)從低溫時(shí)的3個(gè)上升到高溫時(shí)的7個(gè)(見(jiàn)表1).因此,雖然升溫生長(zhǎng)A lGaAs勢(shì)壘將使InGaAs量子阱發(fā)生弛豫,引起相分離(導(dǎo)致In組分的不均勻);但另一方面升溫將顯著改善勢(shì)壘本身材料的平整性,從而獲得平滑均勻的壘阱界面以及保證MQWs之間的重復(fù)性.然而不管是量子阱中In組分的均勻性還是量子阱界面的平整度都將影響熒光的半高全寬.分析圖2(d),樣品室溫300 K熒光峰的半高全寬隨勢(shì)壘生長(zhǎng)溫度變化的趨勢(shì)和低溫10 K的數(shù)據(jù)截然相反.分析其原因?yàn)?10 K時(shí),由于低溫載流子的熱運(yùn)動(dòng)受到很大抑制,界面的粗糙(即阱寬起伏)引起的能級(jí)起伏也隨之被大幅削弱,對(duì)于465?C樣品雖然其量子阱的界面較粗糙,但仍表現(xiàn)出最低的半高全寬(22.0meV),而界面較平整的580?C樣品卻具有最大的半高全寬,故正如之前的論述,樣品低溫?zé)晒獍敫呷珜掚S勢(shì)壘溫度升高的展寬主要是由量子阱發(fā)生相分離破壞了均勻性引起的.到了300 K時(shí),首先,熱激發(fā)導(dǎo)致的去局域化過(guò)程將抹去樣品間那部分由In組分不均勻?qū)е碌恼箤?同時(shí)界面粗糙度引起的展寬將被迅速增強(qiáng),此時(shí)樣品間熒光的半高全寬大小將主要由界面的質(zhì)量決定.故465?C樣品表現(xiàn)出最大的半高全寬(70.8 meV),相比之下,高溫580?C樣品的半高全寬卻僅為59.8 meV,整體表現(xiàn)為隨勢(shì)壘溫度升高而減小的趨勢(shì).

圖6 (a)465?C以及580?C下A lGaAs外延生長(zhǎng)時(shí)RHEED的衍射圖樣;(b)465?C以及580?C兩個(gè)樣品的AFM測(cè)試結(jié)果Fig.6.(a)RHEED patterns for the epitaxy of A lGaAs@465?C/580?C;(b)AFM testing for sam p les of 465?C and 580?C.

最后值得一提的是,本文在XRD測(cè)試時(shí)除進(jìn)行了目前普遍采用的(004)掃描,還對(duì)這四個(gè)樣品進(jìn)行了(115)掃描.掃描結(jié)果顯示(見(jiàn)圖5),MQWs的?1th衛(wèi)星衍射峰的半高全寬并未按照之前提及的(004)掃描結(jié)果那樣隨勢(shì)壘溫度升高而降低,反而有所上升.分析其原因是勢(shì)壘升溫除了能大幅改善界面質(zhì)量和量子阱結(jié)構(gòu)的周期重復(fù)性,但也會(huì)促使量子阱發(fā)生塑性弛豫并引入材料缺陷.對(duì)于(004)掃描,其衍射矢量方向與量子阱生長(zhǎng)方向一致,因而對(duì)沿生長(zhǎng)方向上的界面平整度以及量子阱周期的重復(fù)性將非常敏感,故最終數(shù)據(jù)趨勢(shì)由“界面改善”這一因素主導(dǎo).然而(115)的掃描結(jié)果卻正好能反映出塑性弛豫引起的材料缺陷升高這一事實(shí),很好地支持了之前有關(guān)“熒光強(qiáng)度”數(shù)據(jù)的分析(見(jiàn)圖2(c)).這為本研究提供了很好的補(bǔ)充,有效地增強(qiáng)了我們認(rèn)識(shí)量子阱整個(gè)弛豫過(guò)程時(shí)的完整性和清晰度.

故經(jīng)本文研究證實(shí):在制備InGaAs/A lGaAs多量子阱材料時(shí),當(dāng)生長(zhǎng)A lGaAs層時(shí)溫度高于500?C條件下,即可在量子阱中觀察到輕微的彈性弛豫痕跡;而當(dāng)溫度提高至545?C,量子阱將發(fā)生劇烈的塑性弛豫,其晶體質(zhì)量將被嚴(yán)重破壞.因此,在實(shí)際生長(zhǎng)時(shí),勢(shì)壘的生長(zhǎng)溫度必須鎖定在低溫生長(zhǎng),但低溫生長(zhǎng)A lGaAs將大大犧牲量子阱界面的質(zhì)量和平整度,而界面的不平整將直接影響后續(xù)器件工作時(shí)子帶紅外吸收的特性(峰位、帶寬等)以及引入對(duì)光生載流子橫向輸運(yùn)時(shí)的散射效應(yīng)(大大降低光生電流的抽取效率).為了提高界面平整度,目前常用的做法是在InGaAs和A lGaAs材料間插入一層超薄的GaAs以平滑界面.本文所用的樣品結(jié)構(gòu)中同樣采用了該方法,但從實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析發(fā)現(xiàn)其并不理想,分析原因可能在于低溫生長(zhǎng)A lGaAs時(shí),隨著勢(shì)壘的厚度增加材料表面的起伏將會(huì)被不斷放大,所以當(dāng)勢(shì)壘結(jié)束后緊接著生長(zhǎng)量子阱時(shí),A lGaAs/InGaAs界面的粗糙度(即量子阱的“下界面”)很難通過(guò)簡(jiǎn)單引入GaAs薄層恢復(fù)平整.而且隨著量子阱的堆疊,這種界面惡化會(huì)迅速傳遞給后續(xù)量子阱的“上界面”,最終導(dǎo)致嚴(yán)重的后果.2013年,Shi等[22]提出了一種“低溫A lGaAs蓋層技術(shù)”,他們將勢(shì)壘層分成兩步生長(zhǎng):先低溫生長(zhǎng)一定厚度,然后升溫生長(zhǎng)剩余的部分,實(shí)驗(yàn)中成功獲得了峰值波長(zhǎng)與全低溫生長(zhǎng)高度一致的器件.故基于這一技術(shù),完全有望憑借其后續(xù)升溫去改善每一層勢(shì)壘上表面的平整度,從而極大地提高量子阱的界面質(zhì)量.除此之外,我們還可以從能帶理論出發(fā),設(shè)計(jì)選擇A l組分和In組分更低的量子結(jié)構(gòu)以及在滿足器件基本參數(shù)(如暗電流等)的前提下,盡可能地減小勢(shì)壘厚度,從而降低獲得高質(zhì)量量子阱界面的原始生長(zhǎng)難度.

4 結(jié) 論

本文從InGaAs,A lGaAs材料間生長(zhǎng)溫度差異巨大這一事實(shí)出發(fā),分析討論了在實(shí)際生長(zhǎng)In-GaAs/A lGaAs基中波QW IP時(shí)壘阱溫度過(guò)渡中存在的相關(guān)問(wèn)題,并提煉出高質(zhì)量獲得該系列QW IP關(guān)鍵在于A lGaAs勢(shì)壘生長(zhǎng)溫度的選擇和控制.基于此,本文系統(tǒng)研究和討論了勢(shì)壘層生長(zhǎng)溫度對(duì)量子阱的結(jié)構(gòu)質(zhì)量和發(fā)光特性的影響規(guī)律,較準(zhǔn)確地給出了InGaAs量子阱隨勢(shì)壘生長(zhǎng)溫度的大致溫致弛豫軌跡,特別是確定了彈性弛豫向塑性弛豫轉(zhuǎn)變的溫度區(qū)間(500—545?C),為實(shí)際生長(zhǎng)中波InGaAs/A lGaAs基QW IP器件提供了關(guān)鍵的技術(shù)參考.

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Barrier grow th tem peratu re of InGaA s/A lGaA s-quantum w ell in frared photodetector?

Huo Da-Yun Shi Zhen-Wu?Zhang Wei Tang Shen-Li Peng Chang-Si

(School ofOptoelectronics Inform ation Science and Engineering,Collaborative Innovation Center of Suzhou Nano Science and Technology,Soochow University,Suzhou 215006,China)
(Received 20 Ju ly 2016;revised m anuscrip t received 22 Decem ber 2016)

The InGaAs/A lGaAs quantum wells have been extensively app lied to quantum well in frared photodetector ofm idwavelength.In this letter,four sam p les of 2.4 nm In0.35Ga0.65As/40 nm A l0.34Ga0.66Asmulti-quantum wells are grown by m olecular beam epitaxy w ith the InGaAswells grow ing all at a tem perature of 465?C but the A lGaAswells grow ing at tem peratures of 465?C,500?C,545?C,and 580?C respectively.The dependence of InGaAs quantum well strain relaxation on the A lGaAs grow th tem perature is systematically studied by photolum inescence spectroscopy and X-ray diff raction and then the therm al-induced relaxations of three key-stages are clearly observed in the follow ing tem perature ranges.1)465–500?C for the stage of elastic relaxation:the phase separation begins to take p lace w ith a low defect density;2)500–545?C for the transition stage from elastic relaxation to p lastic relaxation:the phase separation w ill be further intensified w ith defect density increasing;3)545–580?C for the fast stage dom inated by elastic relaxation and the defect density w ill sharp ly increase.Especially when A lGaAs temperature increases to 580?C,a very serious p lastic relaxation w ill take p lace and the InGaAs quantum wellw ill be d ram atically destroyed.

m id-infrared detection,quantum well infrared photodetector,InGaAs/A lGaAs multiquantum wells,therm al-induced relaxation

10.7498/aps.66.068501

?國(guó)家自然科學(xué)基金(批準(zhǔn)號(hào):11504251)、江蘇高校優(yōu)勢(shì)學(xué)科建設(shè)工程、科技部國(guó)際合作項(xiàng)目(批準(zhǔn)號(hào):2013DFG 12210)、江蘇省高校自然科學(xué)研究重大項(xiàng)目(批準(zhǔn)號(hào):12 KJA 140001)和江蘇省普通高校研究生科研創(chuàng)新計(jì)劃(批準(zhǔn)號(hào):KYLX 15_1252)資助的課題.

?通信作者.E-m ail:zwshi@suda.edu.cn

*Pro ject supported by the National Natu ral Science Foundation of China(G rant No.11504251),the Priority Academ ic Program Developm ent of Jiangsu Higher Education Institutions(PAPD),China,the International Cooperation Pro ject by MOST,China(G rant No.2013DFG 12210),the Natural Science Research Pro ject of Jiangsu H igher Education,China (G rant No.12KJA 140001),and the Post-graduate Innovation Project of Jiangsu Higher Education,China(G rant No. KYLX 15_1252).

?Corresponding author.E-m ail:zw shi@suda.edu.cn