熊小莉,薛 康,尤 超,紀(jì)煜垚,肖 丹
(1.四川師范大學(xué)化學(xué)學(xué)院,四川成都 610068; 2.四川大學(xué)化學(xué)學(xué)院,四川成都 610065)
化學(xué)腐蝕法制備熒光多孔硅及對(duì)Ag+的檢測(cè)
熊小莉1,薛康1,尤超1,紀(jì)煜垚1,肖丹2*
(1.四川師范大學(xué)化學(xué)學(xué)院,四川成都 610068; 2.四川大學(xué)化學(xué)學(xué)院,四川成都 610065)
采用簡(jiǎn)便的化學(xué)腐蝕法在45℃下制備了橘紅色熒光多孔硅(PS),通過(guò)掃描電鏡(SEM)、紅外光譜(FT-IR)和比表面積(BET)對(duì)PS的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征。研究發(fā)現(xiàn),Ag+能在PS上發(fā)生氧化沉積而猝滅熒光?;诖?,建立了一種快速、靈敏檢測(cè)Ag+的新方法。在優(yōu)化實(shí)驗(yàn)條件下,Ag+濃度與PS的熒光強(qiáng)度在4.5× 10-8~6.6×10-7mol/L范圍內(nèi)呈良好的線性關(guān)系,檢測(cè)限為2.2×10-8mol/L,線性相關(guān)系數(shù)為0.991 4。該方法用于水樣中Ag+的檢測(cè),結(jié)果滿意。
化學(xué)腐蝕法;多孔硅;熒光;Ag+
多孔硅(Porous silicon,PS)是對(duì)硅表面進(jìn)行特殊腐燭后形成的以硅納米晶粒為骨架而構(gòu)成含大量納米孔道結(jié)構(gòu)的一種新型功能材料,因其室溫下獨(dú)特的光致電致發(fā)光特性、大的比表面積以及生物組織細(xì)胞相容性等優(yōu)點(diǎn)[1],引起了眾多研究人員廣泛的興趣[2-5],PS的制備、相關(guān)功能的開(kāi)發(fā)或改進(jìn)及相關(guān)機(jī)理的研究已成為國(guó)內(nèi)外研究的一個(gè)熱點(diǎn)領(lǐng)域,特別是在化學(xué)傳感器的應(yīng)用中顯示出了其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì),已有一些文獻(xiàn)報(bào)道采用發(fā)光PS制備了金屬離子傳感器[6-8]、揮發(fā)性有機(jī)化合物傳感器[9-13]及生物傳感器[14-17]等。
銀是人體內(nèi)的微量元素之一,但不能過(guò)量存在。WHO規(guī)定,銀含量在5×10-8以下對(duì)人體才是安全的。我國(guó)生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)也明確規(guī)定,飲用水中Ag+濃度不能超過(guò)0.05 mg/L(0.46 μmol/L)。人們通常采用原子發(fā)射、原子吸收等常規(guī)儀器分析手段來(lái)檢測(cè)Ag+,但靈敏度都不是很高,因此,如何快速、準(zhǔn)確地檢測(cè)水中低含量的Ag+,無(wú)論是對(duì)生命科學(xué)還是環(huán)境科學(xué)都具有重要的現(xiàn)實(shí)意義,而熒光傳感器具有方便、快捷、靈敏度高和選擇性好等優(yōu)點(diǎn)。
本文采用H2SO4/HF/NaNO2化學(xué)腐蝕法,在室溫下簡(jiǎn)便制備了熒光多孔硅(PS)。所制備的PS發(fā)出明亮的橘紅色熒光,穩(wěn)定性優(yōu)異,不產(chǎn)生光漂白現(xiàn)象。基于Ag+對(duì)PS的熒光產(chǎn)生猝滅效應(yīng),本文建立了一種簡(jiǎn)便、靈敏檢測(cè)Ag+的新方法。
2.1儀器及試劑
主要實(shí)驗(yàn)儀器:F-7000型熒光分光光度計(jì)(日本日立公司),Nicolet360(美國(guó)熱電公司),JSM-5900LV掃描電鏡(日本電子株式會(huì)社),ASAP 2020 HD88比表面積測(cè)試儀(美國(guó)麥克公司),78-1磁力加熱攪拌器(常州國(guó)華電器有限公司),PHSJ-4A型pH計(jì)(上海雷磁儀器廠)。
主要實(shí)驗(yàn)試劑:硅粉(99.9999%,1 000目),購(gòu)于河北清河縣創(chuàng)盈金屬材料有限公司;氫氟酸(HF)、濃硫酸(H2SO4)、亞硝酸鈉(NaNO2)、硝酸銀(AgNO3)、醋酸(HAc)、醋酸鈉(NaAc)及其他鹽類均為分析純,購(gòu)于成都科龍化學(xué)試劑廠。實(shí)驗(yàn)用水為二次超純水。
2.2PS樣品的制備
稱取一定量的硅粉,依次用無(wú)水乙醇、丙酮、氫氟酸溶液(10%)清洗。采用NaNO2和濃H2SO4作氧化劑,HF作腐蝕劑,室溫?cái)嚢柚苽涠嗫坠?。?yōu)化后的具體實(shí)驗(yàn)方法如下:取40%的HF 15 mL、濃H2SO420 mL、NaNO21 g,混合配制成腐蝕液。稱取0.5 g硅粉置于聚四氟乙烯的燒杯中,將腐蝕液在攪拌中緩慢倒入硅粉中,45℃下加熱攪拌反應(yīng)2 h。反應(yīng)完成之后,用二次水稀釋混合液并抽濾,用無(wú)水乙醇和超純水各清洗3~5次,空氣中晾干,備用。
2.3銀離子的檢測(cè)
所有的熒光強(qiáng)度值測(cè)量均在室溫下進(jìn)行,測(cè)量電壓為750 V,激發(fā)、發(fā)射的狹縫寬度均為10 nm,λex=380 nm,λem=585 nm。
稱取15 mg PS樣品于5 mL離心管中,分別加入1 mL不同濃度的Ag+溶液,稀釋定容到5 mL,混合均勻,室溫下浸泡反應(yīng)10 min,測(cè)量熒光強(qiáng)度F,同時(shí)做空白F0。
2.4實(shí)際水樣中銀離子的檢測(cè)
本研究中所采用的水樣為成都府南河水,使用前先用0.45 μm濾膜過(guò)濾,以除去一些顆?;蛭⑸?。稱取15 mg PS樣品于5 mL離心管中,加入1 mL水樣,分別加入1 mL不同濃度的Ag+溶液,稀釋定容至5 mL,混合均勻,室溫下浸泡反應(yīng)10 min,測(cè)其熒光強(qiáng)度F,同時(shí)做空白F0。
3.1多孔硅的制備和表征
PS具有非常大的比表面積,且新鮮制備的PS表面具有大量的SixHy(x+y=4)基團(tuán),它們具有很高的反應(yīng)活性,在其運(yùn)用過(guò)程中表面化學(xué)性狀容易發(fā)生變化,從而導(dǎo)致穩(wěn)定性較差的問(wèn)題存在[1]。所以,我們先采用NaNO2和濃H2SO4作氧化劑,把硅粉表面氧化成SiO2,使其表面鈍化;再用HF作腐蝕劑,室溫?cái)嚢柚苽銹S。PS的形成是由于HF溶液中離子在空穴的作用下進(jìn)攻硅粉表面的Si—H鍵和Si—Si鍵,使表面的硅原子分解形成游離的SiF4及H2,SiF4不斷溶解到腐燭液中從而使單晶硅表面形成孔洞。
我們采用熒光光譜對(duì)制備的PS的光學(xué)性質(zhì)進(jìn)行了驗(yàn)證。如圖1所示,可以看出最佳激發(fā)波長(zhǎng)為380 nm,最大發(fā)射波長(zhǎng)為585 nm。同時(shí),從圖1的插圖也可以看出,制備的PS在自然光下呈黑色,而在365 nm的紫外燈下顯示出很強(qiáng)的橘紅色熒光。
圖2為PS樣品的紅外光譜圖。結(jié)合文獻(xiàn)[18]可以看出,硅粉在腐蝕前后均有O—H鍵(3 420.9 cm-1)存在,這是由于樣品表面吸附水所產(chǎn)生的伸縮振動(dòng)峰;3 171.6 cm-1和2 924 cm-1處出現(xiàn)的峰估計(jì)是雜質(zhì)—CH3和—CH2的伸縮振動(dòng)吸收峰。腐蝕后,2 361 cm-1處出現(xiàn)的強(qiáng)吸收峰是由于Si—Hx的伸縮振動(dòng)所引起,1 400 cm-1處出現(xiàn)的峰是C—H的面外彎曲振動(dòng),1 641.39 cm-1處出現(xiàn)的峰是—OH的彎曲振動(dòng),1 069.11 cm-1處出現(xiàn)的峰是Si—O—Si的吸收帶。Si—O鍵的形成是由于PS表面在空氣中放置時(shí)與氧形成了不同價(jià)態(tài)的氧化物,而PS表面的Si—H對(duì)多孔硅PL發(fā)光的強(qiáng)弱有重要的貢獻(xiàn),SiHx越多,熒光越強(qiáng)[18]。腐蝕后的PS樣品中產(chǎn)生了大量的SiHx,說(shuō)明多孔硅已成功制備。
圖1 多孔硅(PS)的光學(xué)性質(zhì)表征。曲線a、b分別為PS的激發(fā)光譜和發(fā)射光譜,c、d分別為多孔硅在自然光和紫外光下的照片。Fig.1 Optical properities of porous silicon(PS).Curve a,b are excitation spectrum and emission spectrum of PS,respectively.Image c,d are pictures of PS under the natural light and ultraviolet light,respectively.
圖2 多孔硅和原硅粉的紅外光譜Fig.2 FT-IR spectra of silicon powder and porous silicon
圖3 腐蝕不同時(shí)間的PS樣品的SEM圖。(a)腐蝕前原硅粉;(b)2 h;(c)4 h;(d)6 h。Fig.3 SEM images of PS samples with different etching time.(a)Silicon powder without etching.(b)2 h.(c)4 h.(d)6 h.
圖3為不同腐蝕時(shí)間下制備的PS樣品表面的SEM圖。圖3(a)為原硅粉的表面結(jié)構(gòu),非常光滑,沒(méi)有孔隙,也沒(méi)有熒光。圖3(b)為腐蝕2 h后的PS形貌,表面展現(xiàn)出裂隙狀孔洞,腐蝕較為均勻。圖3(c)為反應(yīng)4 h的PS樣品,表面腐蝕孔洞較深,腐蝕不均勻。圖3(d)為反應(yīng)6 h的PS樣品,該樣品表面光滑,無(wú)孔隙,樣品為白色粉末,在紫外下呈淡黃色熒光,表明腐蝕過(guò)度。最后腐蝕時(shí)間定為2 h。腐蝕前后的BET比表面積分別為0.012 26 m2/g和24.860 4 m2/g,腐蝕后比表面積增大了2 000多倍。
3.2光致發(fā)光PS對(duì)Ag+的響應(yīng)
向PS(3 mg/mL)中加入1 mL濃度為1.0× 10-7mol/L的Ag+溶液,用HAC-NaAc緩沖溶液稀釋定容到5 mL,混合均勻,室溫下浸泡反應(yīng)10 min,測(cè)量熒光強(qiáng)度F,如圖4所示。PS在585 nm處顯示出很強(qiáng)的熒光(曲線a),當(dāng)加入Ag+后,熒光顯著猝滅(曲線b)。這表明PS對(duì)Ag+具有特異性響應(yīng)。熒光猝滅是因?yàn)锳g+可以在多孔硅的表面發(fā)生氧化沉積,從而氧化—Si—Hx基團(tuán)。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),在pH=5.0~6.0的HAC-NaAc緩沖溶液中,單獨(dú)的PS與加入Ag+溶液的樣品熒光值都很穩(wěn)定。另外,PS還具有優(yōu)良的光穩(wěn)定性,即使在紫外燈下連續(xù)照射40 min,PS也沒(méi)有發(fā)生光漂白現(xiàn)象。
圖4 Ag+加入前(a)、后(b)的PS熒光發(fā)射光譜。多孔硅的用量為3 mg/mL,反應(yīng)時(shí)間為室溫下10 min。Fig.4 Fluorescence spectra of PS befor(a)and after(b)the adding of Ag+.The concentration of PS is 3 mg/mL,and reaction time is 10 min at room temperature.
3.3實(shí)驗(yàn)條件的優(yōu)化
為了提高該熒光法在實(shí)際應(yīng)用中檢測(cè)的靈敏度,本研究對(duì)檢測(cè)Ag+時(shí)的PS濃度、反應(yīng)時(shí)間等關(guān)鍵因素進(jìn)行了考察。
3.3.1PS的用量
PS的用量是該傳感體系中的一個(gè)關(guān)鍵因素。為了選擇PS合適的用量,我們研究了PS濃度為1~10 mg/mL、Ag+濃度為1.0×10-7mol/L的體系的熒光強(qiáng)度變化。如圖5(a)所示,PS熒光隨PS濃度的增大而增強(qiáng),增強(qiáng)的程度逐漸減小。其次,我們對(duì)PS濃度和熒光猝滅效率之間的關(guān)系進(jìn)行了研究,如圖5(b)所示。當(dāng)PS的濃度較小時(shí),體系的熒光也較弱,加入Ag+后,體系熒光猝滅程度較小,靈敏度不高。增加PS濃度,則會(huì)對(duì)體系的熒光強(qiáng)度產(chǎn)生明顯的猝滅,靈敏度提高。但是,繼續(xù)增加PS濃度時(shí),猝滅效率反而下降。綜合考慮,為了獲得較寬的線性范圍和較低的檢出限,本實(shí)驗(yàn)所選擇的多孔硅體系的濃度為3 mg/mL。
圖5?。╝)PS的熒光強(qiáng)度與其濃度的關(guān)系;(b)不同濃度的PS與Ag+作用時(shí),熒光猝滅效率的變化。Fig.5 (a)Concentration-dependent fluorescence of PS solution.(b)Concentration-dependent fluorescence quenching efficiency of PS to 1.0×10-7mol/L Ag+.
3.3.2反應(yīng)溫度、時(shí)間和pH
在該體系中,反應(yīng)選擇為室溫下進(jìn)行。體系的反應(yīng)時(shí)間對(duì)檢測(cè)的靈敏度有很大影響,時(shí)間的長(zhǎng)短直接影響反應(yīng)能否完全進(jìn)行,進(jìn)而影響體系的熒光強(qiáng)度。為此,實(shí)驗(yàn)研究了30 min內(nèi)反應(yīng)時(shí)間對(duì)檢測(cè)靈敏度的影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖6所示。在反應(yīng)開(kāi)始的1 min內(nèi),熒光猝滅較快;10 min后,熒光強(qiáng)度變化較慢并趨于穩(wěn)定??紤]到PS自身熒光隨時(shí)間的變化,為達(dá)到較好的效果和實(shí)驗(yàn)操作方便,在后續(xù)實(shí)驗(yàn)中,所有反應(yīng)時(shí)間均為10 min。
另外,由于PS的熒光在pH=5~6時(shí)均比較穩(wěn)定,而Ag+的儲(chǔ)備液配制必須用5%的HNO3配制,加水定容后溶液的pH一直保持在弱酸性(pH=5~6),此時(shí)探針響應(yīng)時(shí)間也比較快(10min),故實(shí)驗(yàn)過(guò)程中采用HAc-NaAc緩沖溶液(pH=5.0)來(lái)控制pH。
圖6 反應(yīng)時(shí)間對(duì)Ag+猝滅多孔硅的猝滅效率的影響(CAg=1.0×10-7mol/L,pH=5.0)Fig.6 Time-dependent fluorescence quenching efficiency of PS(CAg=1.0×10-7mol/L,pH=5.0)
3.4Ag+的檢測(cè)
在上述優(yōu)化實(shí)驗(yàn)條件下,我們考察了PS對(duì)不同濃度Ag+的檢測(cè),如圖7所示。PS在585 nm處的熒光隨著Ag+濃度的增大而減弱,表明該多孔硅傳感系統(tǒng)對(duì)Ag+具有靈敏響應(yīng)。此外,在最優(yōu)的實(shí)驗(yàn)條件下,該體系在Ag+濃度為4.5× 10-8~6.6×10-7mol/L范圍內(nèi)具有良好的線性,線性方程為(F0-F)/F0=1.11×10-3CAg+ 0.0814(R2=0.991 4)。Ag+的理論檢測(cè)限是2.2×10-8mol/L(LOD為3滓,滓=S0/S,S0為空白樣品的標(biāo)準(zhǔn)偏差,S為標(biāo)準(zhǔn)曲線的斜率)。該檢測(cè)限與其他檢測(cè)Ag+的方法[19-21]一致或更低。另外,我們還對(duì)該體系的重復(fù)性作了考察,對(duì)濃度為1.0×10-7mol/L的Ag+平行測(cè)定了6次,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)為4.2%,說(shuō)明該方法的精密度也較好。
3.5選擇性考察
為了檢測(cè)實(shí)際樣品,考察了該體系對(duì)不同重金屬離子的選擇性。實(shí)驗(yàn)考察了實(shí)際環(huán)境中一些常見(jiàn)的金屬離子(Fe3+,K+,Mg2+,Hg2+,Zn2+,Mn2+,Ni2+,Cd2+,Al3+,1.0×10-5mol/L)對(duì)PS熒光強(qiáng)度的影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖8所示。從圖中可以看出,僅Ag+對(duì)PS的熒光有明顯的猝滅作用(Cd2+的干擾可以在測(cè)試前通過(guò)氫化物發(fā)生法消除)。由此可見(jiàn),該方法對(duì)Ag+的檢測(cè)有著較高的選擇性,說(shuō)明發(fā)光PS適合用于對(duì)Ag+的檢測(cè)分析。
圖7 不同濃度的Ag+對(duì)PS響應(yīng)的熒光光譜圖和標(biāo)準(zhǔn)曲線Fig.7 Fluorescence response of PS upon various concentrations of Ag+
圖8 Ag+傳感器的選擇性考察Fig.8 Selectivity of fluorescence sensor for Ag+over other ions
圖9 Ag+浸泡處理前后的PS紅外光譜Fig.9 FT-IR spectra of porous silicon
3.6Ag+猝滅多孔硅機(jī)理探究
圖9是Ag+浸泡處理PS前后的PS的紅外光譜圖。從圖中可以看出,PS被Ag+浸泡處理后,—Si—Hx(2 361 cm-1)的吸收峰明顯消失,這是由于Ag+可以在多孔硅的表面發(fā)生氧化沉積,從而氧化—Si—Hx基團(tuán)。然而,其他的金屬離子(Fe3+,K+,Mg2+,Hg+,Zn2+,Mn2+,Ni2+,Cd2+,Al3+)的氧化還原電位比Ag+要低,所以它們很難在PS表面發(fā)生氧化沉積使—Si—Hx被氧化[22]。經(jīng)過(guò)Ag+處理之后,多孔硅表面的—Si—Hx明顯減少且熒光猝滅。這就表明,—Si—Hx在多孔硅光致發(fā)光方面有重要影響,該結(jié)論和文獻(xiàn)[22]一致。
3.7實(shí)際樣品的分析
為了考察本研究所建立的方法是否可以用于實(shí)際水樣的檢測(cè),本實(shí)驗(yàn)還對(duì)自然水體進(jìn)行了加標(biāo)實(shí)驗(yàn)。采用標(biāo)準(zhǔn)加入法,評(píng)價(jià)了方法的精密度和可靠度,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表1所示。從表中可以看出,河水中Ag+的加標(biāo)回收率在96.23%~105.40%之間。對(duì)每個(gè)水樣同時(shí)測(cè)試分析3次,相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(RSD)為1.6%~5.5%,說(shuō)明該方法可以用于實(shí)際環(huán)境中Ag+的檢測(cè)。
表1 實(shí)際水樣中Ag+的檢測(cè)Tab.1 Detection of Ag+in actual water samples
使用H2SO4/HF/NaNO2化學(xué)腐蝕法,在45℃下簡(jiǎn)便制備了熒光多孔硅(PS),并且基于Ag+對(duì)其熒光猝滅構(gòu)建了Ag+熒光探針,考察了PS濃度、反應(yīng)時(shí)間、反應(yīng)pH等的影響,分析了猝滅機(jī)理。結(jié)果表明,PS的濃度為3 mg/mL、反應(yīng)10 min、pH=5.0為檢測(cè)Ag+的最佳條件,線性范圍為4.5×10-8~6.6×10-7mol/L,檢出限為2.2× 10-8mol/L,且具有良好的選擇性,用于實(shí)際水樣的檢測(cè),結(jié)果滿意。該方法制備簡(jiǎn)單,穩(wěn)定性良好,在環(huán)境監(jiān)測(cè)中有很好的應(yīng)用前景。
[1]SAILOR M J,WU E C.Photoluminescence-based sensing with porous silicon films,microparticles,and nanoparticles[J].Adv.Funct.Mater.,2009,19(20):3195-3208.
[2]ZHU J,WU Y D,LI T H,et al..Silicon nanocrystallites produced via a chemical etching method and photoluminescence properties[J].J.Mater.Sci.,2014,49(12):4349-4353.
[3]BAI F,LI M C,SONG D D,et al..One-step synthesis of lightly doped porous silicon nanowires in HF/AgNO3/H2O2solution at room temperature[J].J.Solid State Chem.,2012,196:596-600.
[4]TSUBOI T,SAKKA T,OGATA Y H.Chemical etching of porous silicon in diluted hydrofluoric acid[J].Solid State Commun.,1999,109(3):195-199.
[5]BACKES A,SCHMID U.Impact of doping level on the metal assisted chemical etching of p-type silicon[J].Sens.Actuators B:Chem.,2014,193:883-887.
[6]YE J H,DUAN L J,YAN C C,et al..A new ratiometric Ag+fluorescent sensor based on aggregation-induced emission[J].Tetrahedron Lett.,2012,53(5):593-596.
[7]LI S Y,MA W H,ZHOU Y,et al..Cleavable porous silicon based hybrid material for pre-enrichment of trace heavy metal ions[J].Appl.Surf.Sci.,2012,258(15):5538-5542.
[8]LI Y,YU H J,SHAO G,et al..A tetraphenylethylene-based“turn on冶fluorescent sensor for the rapid detection of Ag+ions with high selectivity[J].J.Photochem.Photobio.A:Chem.,2015,301:14-19.
[9]ANDSAGER D,HILLIARD J,HETRICK J M,et al..Quenching of porous silicon photoluminescence by deposition ofmetal adsorbates[J].J.Appl.Phys.,1993,74(7):4783-4785.
[10]LEWIS S E,DEBOER J R,GOLE J L,et al..Sensitive,selective,and analytical improvements to a porous silicon gas sensor[J].Sens.Actuators B:Chem.,2005,110(1):54-65.
[11]王偉,高揚(yáng),陶強(qiáng),等.新型甲醛多孔硅復(fù)合傳感器的制備[J].分析化學(xué),2015,43(6):849-855. WANG W,GAO Y,TAO Q,et al..A novel porous silicon composite sensor for formaldehyde detection[J].Chin.J. Anal.Chem.,2015,43(6):849-855.(in Chinese)
[12]CAMARA M,JAMES F,BREUIL P,et al..MEMS-based porous silicon preconcentrators filled with carbopack-B for explosives detection[J].Procedia Eng.,2014,87:84-87.
[13]WEI J J,GUO L S,RU Q Y.Organic solvent induced quenching of porous silicon photoluminescence[J].Spectrochim. Acta A,1998,54(10):1407-1414.
[14]ECHEVERRIA J C,DE VICENTE P,ESTELLA J,et al..A fiber-optic sensor to detect volatile organic compounds based on a porous silica xerogel film[J].Talanta,2012,99:433-440.
[15]ZHANG H Y,JIA Z H,LV X Y.Surface layer reflective index changes of Au nanoparticle functionalized porous silicon microcavity for DNA detection[J].Curr.Appl.Phys.,2015,15(8):870-876.
[16]DI FRANCIA G,LA FERRARA V,MANZO S,et al..Towards a label-free optical porous silicon DNA sensor[J].Biosens.Bioelectron.,2005,21(4):661-665.
[17]LASAVE L C,URTEAGA R,KOROPECKI R R,et al..Real-time study of protein adsorption kinetics in porous silicon[J].Colloid.Surf.B,2013,111:354-359.
[18]PROKES S M,GLEMBOCKI O J,BERMUDEZ V M,et al..SiHxexcitation:an alternate mechanism for porous Si photoluminescence[J].Phys.Rev.B,1992,45(23):13788-13791.
[19]TSAI C,LI K H,KINOSKY D S,et al..Correlation between silicon hydride species and the photoluminescence intensity of porous silicon[J].Appl.Phys.Lett.,1992,60(14):1700-1702.
[20]ZHANG Y Y,JIANG H,WANG X M.Cytidine-stabilized gold nanocluster as a fluorescence turn-on and turn-off probe for dual functional detection of Ag+and Hg2+[J].Anal.Chim.Acta,2015,870:1-7.
[21]LI F,MENG F D,WANG Y X,et al..Polymer-based fluorescence sensor incorporating thiazole moiety for direct and visual detection of Hg2+and Ag+[J].Tetrahedron,2015,71(11):1700-1704.
[22]COULTHARD I,SHAM T K.Novel preparation of noble metal nanostructures utilizing porous silicon[J].Solid State Commun.,1998,105(12):751-754.
熊小莉(1970-),女,四川大英人,碩士,副教授,2005年于四川大學(xué)獲得碩士學(xué)位,主要從事納米材料、化學(xué)與生物傳感器方面的研究。
E-mail:xiongxiaoli2000@163.com
肖丹(1961-),男,廣西桂林人,教授,博士生導(dǎo)師,1994年于湖南大學(xué)獲得博士學(xué)位,主要從事化學(xué)和生物傳感器、新型功能納米材料的開(kāi)發(fā)以及快速分離分析方法的研究。
E-mail:xiaodan99@sohu.com
Preparation of Fluorescent Porous Silicon by Chemical Etching Method and Its Application in Ag+Detection
XIONG Xiao-li1,XUE Kang1,YOU Chao1,JI Yu-yao1,XIAO Dan2*
(1.College of Chemistry and Materials Science,Sichuan Normal University,Chengdu 610068,China;2.School of Chemistry,Sichuan University,Chengdu 610065,China)
*Corresponding Author,E-mail:xiaodan99@sohu.com
A facile preparation of orange fluorescent porous silicon(PS)was reported using a simple chemical etching method at 45℃.The prepared PS samples were characterized by scanning electron microscope(SEM),F(xiàn)ourier translation infrared spectrum(FT-IR)and specific surface area(BET). The results show that PS samples emit strong orange fluorescence possessing excellent photostability. Moreover,the fluorescence of PS can be effectively quenched by Ag+at room temperature.The fluorescence of PS shows a good linear relationship with the concentration of Ag+in the range of 4.5× 10-8-6.6×10-7mol/L,the detection limit is 2.2×10-8mol/L,and the correlation coefficient is 0.991 4.The mechanism of Ag+-sensing in this method was further explained.Furthermore,the fluorescent Ag+sensor was applied to Ag+detection in environmental water samples,and satisfactory results were obtained.
chemical etching method;porous silicon;fluorescence;Ag+
O482.31
A
10.3788/fgxb20163706.0662
1000-7032(2016)06-0662-07
2016-01-16;
2016-03-16
國(guó)家自然科學(xué)基金(21275104);四川省教育廳重點(diǎn)項(xiàng)目基金(14ZA0027);四川師范大學(xué)大精設(shè)備開(kāi)放基金(2015)資助項(xiàng)目