白 冰,賴 濤,趙擁軍,秦記東
(解放軍信息工程大學(xué)導(dǎo)航與空天目標(biāo)工程學(xué)院,鄭州450001)
目標(biāo)隱身與反隱身研究以及目標(biāo)的自動識別在目標(biāo)偵察、地形勘探等各個領(lǐng)域都有著廣闊的應(yīng)用前景,而其共同的基礎(chǔ)是目標(biāo)雷達散射截面積(radar cross section,RCS)的精確計算。目標(biāo)RCS的計算方法主要可以分為2類:低頻數(shù)值算法和高頻近似算法。低頻算法計算目標(biāo)RCS時,其解已經(jīng)包含了目標(biāo)多次散射的貢獻,而高頻算法是基于局部性原理的假設(shè),目標(biāo)多次散射需要單獨計算。文獻[1]中使用雙向解析射線追蹤法計算了海面與艦船的多次散射。文獻[2]在研究目標(biāo)多次散射問題時提出了區(qū)域投影/物理光學(xué)方法,該方法效果較為理想,但該方法需要對目標(biāo)每一個面元進行投影和求交計算,運算量過于龐大;Knott將幾何光學(xué)(geometry optics,GO)和物理光學(xué)(physics optics,PO)結(jié)合起來處理角反射器的多次散射問題[3],該方法的缺點是不能很好地處理組合目標(biāo)和復(fù)雜目標(biāo)的射線追蹤問題。
本文介紹的是一種基于圖形電磁計算[4-5](graphical electromagnetic computing,GRECO)的可視化多次散射計算方法。GRECO是處理電大尺寸目標(biāo)最為有效的方法之一,它將對模型表面剖分和消隱交給計算機顯卡硬件來處理,通過設(shè)置一定的光照參數(shù),讀取像素點的法矢及深度值信息,結(jié)合高頻計算方法,完成目標(biāo)RCS計算。GRECO中,只考慮了目標(biāo)的一次散射,導(dǎo)致當(dāng)模型中存在角散射器結(jié)構(gòu)時,傳統(tǒng)GRECO計算結(jié)果的不準(zhǔn)確性[6-7]。文獻[6]將彈跳射線法[8]引入GRECO,計入了目標(biāo)多次散射的影響;文獻[7]把GO/PO方法與圖形電磁計算方法結(jié)合起來,完成了目標(biāo)多次散射的計算。這2種方法的核心都是GO/PO混合方法,但文獻[6]描述過于簡單,沒有給出理論公式的推導(dǎo),文獻[7]中的雙站物理光學(xué)法不具有通用性。針對以上問題,本文修正了GO/PO混合算法中的雙站物理光學(xué)法,使其有更廣泛的適用性,并提出一種基于最小夾角法的自適應(yīng)步長搜索算法,對符合多次散射條件像素對的搜索進行了優(yōu)化,提高了搜索效率。實驗結(jié)果表明,本文方法具有良好的準(zhǔn)確性以及較高的效率。
圖形電磁計算方法是以像素為基本計算單元,其基本計算流程為①通過AUTO CAD等圖形軟件模擬繪制目標(biāo)幾何模型;②使用OpenGL,設(shè)置目標(biāo)幾何模型的光照、顯示模式等渲染參數(shù),完成遮擋面消隱并讀取目標(biāo)像素點相關(guān)信息;③運用高頻計算方法完成各像素點的后向散射計算;④相干疊加得到目標(biāo)的總散射場。
為了計算目標(biāo)多次散射的貢獻,在得到目標(biāo)各像素點信息后,需要搜索符合多次散射條件的像素對,本文提出一種基于最小夾角的自適應(yīng)步長搜索方法。
最小夾角法示意圖如圖1所示,對基準(zhǔn)像素Pi而言,P1,P2滿足最小夾角的條件,P3,P4,P5,P6點不滿足,mi=2,而被P1遮擋。則判定與基準(zhǔn)像素Pi發(fā)生多次散射的像素為P1。
多次散射像素對是計算目標(biāo)多次散射的基本單元,使用最小夾角法可以完成符合多次散射條件的像素對的搜索,算法流程如下。
1)以某一像素Pi為基準(zhǔn)像素,遍歷圖中除該點外的其他像素Pj,由兩像素點屏幕坐標(biāo)、深度值以及每個像素對應(yīng)的實際尺寸確定2點之間的位置矢量Vij;
2)根據(jù)公式Vr=Vi-2(Vi·ni)ni,由入射方向Vi和平板法矢ni確定反射矢量Vr;
圖1 最小夾角法示意圖Fig.1 Schematic diagram of minimum angle law
3)計算反射矢量Vr和像素間位置矢量Vij之間的夾角θij,若θij小于預(yù)先設(shè)定的閾值θ0則判定與像素Pi發(fā)生多次散射的像素為Pj;
4)當(dāng)某像素與Pi滿足最小夾角條件時,令參數(shù)mi=mi+1(mi為與可能與像素Pi發(fā)生多次散像素的個數(shù),其初始值為0)。遍歷全圖后,若mi=0,表示沒有與Pi發(fā)生多次散的像素;若mi=1表示有一個;若mi≥2表示有多個像素滿足這一條件,此時選取離像素Pi最近的像素,即最小的像素,在反射路徑上,其余像素滿足最小夾角條件的都會被這一像素遮擋;
5)多次散射中,電磁波可能存在2次以上的反射。找到與基準(zhǔn)像素Pi滿足最小夾角條件的像素Pj后,要考慮Pj的反射電磁波是否會與其他像素再次發(fā)生多次散射。以Pj為基準(zhǔn)像素使用最小夾角法搜索全圖,重復(fù)該過程,直至電磁波向遠(yuǎn)場輻射。
6)重復(fù)上述1)—5)步,直至將圖中所有像素都作為基準(zhǔn)像素遍歷完畢。
使用最小夾角法搜索滿足多次散射條件的像素對時,要以某一像素為基準(zhǔn),遍歷圖中的其他所有像素,再進行下一個像素的搜索。這樣的方法搜索步長始終為1,非常耗時,大大降低了GRECO中多次散射計算的效率。針對這一問題,本文引入反饋機制,使搜索步長可以進行自適應(yīng)調(diào)整。當(dāng)兩像素之間的位置矢量Vij與反射矢量Vr之間的夾角θij較大時,自適應(yīng)地增加步長,以減少搜索時間。
實際模型中,相鄰像素之間是平滑的(除棱邊像素外像素坐標(biāo)值的變化不會特別劇烈),也就是說夾角θij和θij+1變化是平滑的。當(dāng)θij較大(大于某一閾值θn)時,設(shè)定搜索步長為n;當(dāng)θn-1< θij< θn時,設(shè)定搜索步長為n-1。以此類推,當(dāng)θ1<θij<θ2時,搜索步長為1。搜索步長是根據(jù)θij與一系列閾值 θn,θn-1,…,θ1的大小關(guān)系而自適應(yīng)調(diào)整的。
文獻[7]將最小夾角判定閾值設(shè)定為1°,即當(dāng)θij<1°判定與像素Pi發(fā)生多次散射的為像素Pj。但實際應(yīng)用中,由于模型的尺寸不盡相同以及相同模型存在著不同的像素劃分,可能存在多個像素與基準(zhǔn)像素滿足最小夾角條件且不會相互遮擋的問題。此時,因為閾值設(shè)定的不恰當(dāng),不能簡單地通過一次判斷便找出與基準(zhǔn)像素發(fā)生多次散射的目標(biāo)像素。
GRECO中,每個像素點對應(yīng)電磁波的一個射線管,在傳播過程中射線管大小是不會發(fā)生變化的。當(dāng)射線管足夠密集時,經(jīng)某一像素反射的電磁波射線管不可能同時照射在2個像素上。根據(jù)這一原理,為排除閾值設(shè)定帶來的干擾,本文首先判斷符合最小夾角條件的像素是否為相鄰像素。若是,則說明此時角度閾值選取不恰當(dāng),可以選取與基準(zhǔn)像素夾角最小的像素為目標(biāo)像素。反之,則直接根據(jù)最小距離準(zhǔn)則來找到最終目標(biāo)像素。自適應(yīng)步長最小夾角法流程如圖2所示。
圖2 自適應(yīng)步長最小夾角法流程圖Fig.2 Flow chart of the minimum angle law by adaptive step
確定符合多次散射條件的像素對后,使用GO/PO混合算法完成目標(biāo)多次散射的計算。GO法用經(jīng)典的射線管理論來刻畫散射機理和能量傳播,而PO法就是通過對表面電磁流進行積分得來的。相比于GO法,PO法更加精確。
在考慮計算目標(biāo)的多次散射時,較為精確的方法是每次反射都使用PO法來計算。但這種方法計算量過于龐大,理論表達式是一個若干層積分的嵌套(計算N次散射就是一個N重積分),即便使用離散方法計算,其計算量依然是不可承受的。為了解決計算量的問題,使用GO法和PO法的混合方法來計算[12-13]。具體方法是前N-1次散射使用GO法來計算反射場,最后一次散射使用PO法對表面電磁流積分得到目標(biāo)多次散射效應(yīng)。計算前N-1次散射使用GO法是由于GO計算反射場的表達式比PO法簡單得多,而且在GRECO中,以像素作為基本的計算單元,一個像素代表著平板幾何機構(gòu),利用GO法計算反射場時,旁瓣的干擾非常小,反射能量絕大部分集中在鏡面反射方向。最后一次散射不能再使用GO的原因是目標(biāo)向遠(yuǎn)場輻射的電磁波只對雷達接收方向的RCS有意義,而GO最終向遠(yuǎn)場的反射方向與雷達接收方向不一定是一致的(GRECO中默認(rèn)的雷達接收方向是(0,0,1)),故為了獲得多次散射對目標(biāo)RCS的貢獻,需要使用雙站PO計算方法[9,14]。
使用GO法計算反射場時,i表示入射方向,n表示像素點的法矢量,則反射方向可以表示為r=i-2(i·n)n。令電磁波在ri處的強度為E(ri),電磁波與目標(biāo)的下一個交點ri+1處的強度可以表示為
(1)式中:(R)i為反射系數(shù)矩陣,當(dāng)目標(biāo)為金屬導(dǎo)體時,(R)i由TE波和TM波分別為-1和1表示;(DF)i為散度因子,GRECO中基本面元為平板,(DF)i=1。故ri+1和ri電磁波強度只有相位的變化,而這個相位變化量由2點之間的距離決定。
GRECO中的基本計算單元是像素,其對應(yīng)的實際目標(biāo)是一個平行四邊形[9]。而文獻[7]給出的雙站物理光學(xué)法公式只能計算矩形平板的RCS[10],不具有通用性。本文使用更加通用的Gorgon圍線積分對其進行修正。
E.F.Knott在保留散射單元相對相位關(guān)系的情況下重新定義高頻區(qū)目標(biāo)RCS平方根的表達式
其物理光學(xué)表達式為
(2)-(3)式中:S表示雷達照明區(qū)域;er為遠(yuǎn)場接收機電極化方向的單位矢量;hi是入射磁場極化方向的單位矢量;R是雷達與目標(biāo)之間的距離;Es是反射場;E0是入射場。對于平板結(jié)構(gòu),(3)式可以嚴(yán)格計算,利用Gorgon圍線積分近似成多項式之和的表示方法,任意多邊形的雙站RCS物理光學(xué)表達式為
(4)式中:σ為多邊形平板的雙站RCS;n為被照射平板的表面的單位法向法矢;r0為平板表面位置矢量;w=i-s為入射波方向的單位矢量,i和s分別為入射方向和散射方向的單位矢量;am為描述第m個邊緣的長度和方向的矢量;rm為第m個邊緣中點的位置矢量;T為w在平面上的投影長度;p=n×,即平板平面上垂直于w的單位矢量;M為平板邊緣數(shù)目。
注意到(4)式中,當(dāng)T=0時出現(xiàn)奇異值點,此時平板上沒有i-s的分量,因此,這個表面與從源點到遠(yuǎn)場觀察點逐漸延遲的等相位面重合,即表面上沒有相位的變化,(4)式可以簡化為
運用GO法在計算目標(biāo)前N-1次散射時,電磁波在目標(biāo)各部分之間進行彈射會發(fā)生相位偏移,故(4)式和(5)式中的相位項需要進行修正。令di為第i次散射和第i+1次散射間,電磁波傳播的路程,則將(4)式和(5)式中的相位項exp(jkr0·w)修正為。這樣,GO引入的相位偏移就會體現(xiàn)在最終的結(jié)果中。
圖形電磁計算方法中像素各邊分別平行于x軸和y軸,其對應(yīng)的空間矢量為
則像素對應(yīng)的平行四邊形4條邊的空間矢量為
這樣,由像素點的屏幕坐標(biāo)及像素面元法矢,可計算得到該像素4條邊在目標(biāo)上的投影矢量[9]。
由上面各式計算得到各像素點的多次散射RCS值后,與一次散射計算得到的值合成,并相干疊加得到目標(biāo)的RCS。
GO/PO混合方法計算目標(biāo)多次散射的流程圖如圖3所示。
圖3 多次散射計算流程圖Fig.3 Flow chart multiple scattering calculation
為了驗證本文二次散射計算方法的準(zhǔn)確性,實驗選取了能夠較為方便地驗證計算結(jié)果準(zhǔn)確與否的二面角散射器和組合物體的RCS的計算問題。入射電磁波頻率為9.4 GHz,垂直極化,二面角散射器是由2塊長寬均為5.608 7λ的正方形平板構(gòu)成的,方位角定義為電磁波與其中一個平板的夾角,如圖4所示。圖5是2個垂直放置的金屬導(dǎo)體板,入射電磁波頻率為10 GHz,水平極化,導(dǎo)體板長為10λ,寬為12.5λ,兩平板間距為4λ,方位角定義為電磁波與其中一個平板的夾角。
圖4 二面角散射器幾何結(jié)構(gòu)Fig.4 Geometry of dihedral angle scatterer
直角二面角散射器RCS隨方位角變化曲線如圖6所示,實線為本文方法計算的角散射器RCS結(jié)果,虛線為使用文獻[3]所述方法計算得到的結(jié)果,點線是只考慮二面角散射器一次散射時的計算結(jié)果。文獻[3]是Knott提出的一種二面角RCS計算方法,使用該方法可以計算得到規(guī)則二面角RCS的理論值。由圖6中結(jié)果可以看出,實線與點線擬合較好,證明了本文方法在計算二面角散射器的遠(yuǎn)場散射時可以得到較為理想的結(jié)果。而由實線與虛線的巨大差異我們也可看出,對于二面角散射而言,在方位角為-10°<φ<80°時,目標(biāo)的多次散射對其遠(yuǎn)場RCS起主要貢獻,計算時不可忽略。
圖5 垂直放置的2個導(dǎo)體板Fig.5 Two vertical conductor plates
圖6 90°二面角散射器RCS計算結(jié)果Fig.6 RCS calculations of 90°dihedral angle scatterer
圖7為2β=120°二面角散射器RCS變化曲線。圖7中出現(xiàn)2個高峰,分別為2個平板垂直入射時的一次散射。實線和星線大體上重合是由于對于120°二面角而言,二次散射波束照射范圍較小且電磁波最終向遠(yuǎn)場輻射方向與雷達接收方向之間的夾角較大,二次散射相比于一次散射很弱,對目標(biāo)RCS起主要作用的將會是一次散射。對比圖6和圖7,可以看出,直角散射器對目標(biāo)RCS有著較強的貢獻,在進行飛行器或艦船設(shè)計時,為實現(xiàn)目標(biāo)RCS的縮減,應(yīng)盡量避免出現(xiàn)直角散射器的結(jié)構(gòu)。
圖7 120°二面角散射器RCS計算結(jié)果Fig.7 RCS calculations of 120°dihedral angle scatterer
圖8為圖5中組合物體RCS隨入射方位角變化曲線。文獻[2]中給出了方位角為 -135°~225°時,該組合物體的RCS仿真結(jié)果,而該組合物體只有在方位角為0°~90°時存在二次散射,為突出二次散射的貢獻,實驗選取0°~90°作為方位角的仿真范圍。由于2塊平板之間存在4λ的間距,RCS最大值不是出現(xiàn)在方位角等于45°的時候。當(dāng)方位角大于一定值時(約68.2°),二次散射電磁波經(jīng)平板間縫隙向遠(yuǎn)場輻射,該組合物體RCS只有一次散射貢獻,圖8所示實驗結(jié)果與理論分析能夠較好地吻合。圖9給出了文獻[2]中的對比結(jié)果,2條曲線能夠較好吻合,證明了本文方法對于組合目標(biāo)的多次散射計算具有良好的效果。
圖8 垂直導(dǎo)體板RCS計算結(jié)果Fig.8 RCS calculations of vertical conductor plate
圖9 文獻[2]中的對比結(jié)果Fig.9 Results from ref.[2]
使用最小夾角方法和本文自適應(yīng)步長搜索算法對3.1節(jié)中3個模型在方位角為45°時的投影矩陣進行符合多次散射條件的像素對的搜索,圖像大小以及2種算法的搜索時間如表1所示。本文算法搜索時間分別減少27.56%,28.79%以及26.10%。實驗結(jié)果是在一臺主頻為2.6 GHz的個人計算機上得出的。
表1 2種搜索算法耗時比較Tab.1 Comparison of two search algorithms consuming
使用最小夾角法和本文所提的自適應(yīng)步長搜索方法都能夠準(zhǔn)確地完成符合多次散射條件像素對的搜索。對于表1所示實驗中的3個目標(biāo),搜索得到符合多次散射條件的像素對分別為7 050對、8 650對以及8 875對,準(zhǔn)確率都達到100%。相比于最小夾角法而言,本文算法在保證準(zhǔn)確率的情況下,減少了散射時間,提高了算法效率,使算法能夠更加有效地運用于工程實踐之中。而在實驗過程中的步長、角度閾值的選取會直接影響到計算結(jié)果,為了避免搜索步長過大導(dǎo)致的漏檢,最大步長n不宜過大。
本文使用GO/PO混合算法結(jié)合圖形電磁計算方法實現(xiàn)了目標(biāo)多次散射的計算,針對現(xiàn)有方法通用性不強的問題,用Gordon圍線積分計算目標(biāo)雙站散射,使該方法更加具有普遍性。同時本文提出了一種自適應(yīng)步長的最小夾角搜索算法,完成多次散射像素對的搜索,減少了搜索時間,提高了效率。參照實驗結(jié)果與相關(guān)文獻中給出結(jié)果可知,本文方法具有較好的準(zhǔn)確性以及較高的效率。該方法對目標(biāo)隱身與反隱身研究以及目標(biāo)自動識別具有良好的工程應(yīng)用價值。
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