氦離子輻照對(duì)鎳基合金硬度的影響

劉哲 包良滿(mǎn) 劉可 劉仁多 葉伯年 雷前濤 李燕,4

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氦離子輻照對(duì)鎳基合金硬度的影響

劉哲1,2,3包良滿(mǎn)1,3劉可1,2,3劉仁多1,3葉伯年1,3雷前濤1,3李燕1,3,4

1（中國(guó)科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所嘉定園區(qū) 上海 201800）;2（中國(guó)科學(xué)院大學(xué) 北京100049）;3（中國(guó)科學(xué)院核輻射與核能技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 上海 201800）;4（上海科技大學(xué) 上海 200031）

在室溫下對(duì)鎳基合金進(jìn)行了氦離子輻照，利用納米壓痕儀測(cè)試了微觀硬度，利用慢正電子多普勒展寬譜(Doppler Broadening Spectrum, DBS)和透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope, TEM)分析了微觀缺陷，利用離子束分析彈性反沖探測(cè)(Elastic Recoil Detection, ERD)技術(shù)測(cè)量了氦的濃度深度分布。結(jié)果顯示合金樣品的硬度隨劑量而增大，退火后合金樣品硬度增量有所減小，并觀測(cè)到氦泡生成。合金硬化的主要原因是由于氦離子輻照產(chǎn)生了1?7 nm的缺陷團(tuán)簇，而退火后不穩(wěn)定缺陷的回復(fù)及氦-空位復(fù)合體數(shù)量的減少造成了硬化強(qiáng)度減弱。關(guān)鍵詞 鎳基合金，氦離子，輻照，硬度

作為釷基熔鹽堆結(jié)構(gòu)材料的鎳基Hastelloy-N合金展現(xiàn)了良好的耐高溫耐熔鹽腐蝕性能[1?3]，然而鎳基合金受反應(yīng)堆中子輻照后，其微觀結(jié)構(gòu)會(huì)發(fā)生變化，導(dǎo)致機(jī)械性能、抗熔鹽腐蝕性能變差[1?6]。合金中鎳通過(guò)(n,α)反應(yīng)產(chǎn)生氦，氦在合金中難溶解，在高溫下容易和空位結(jié)合在晶界、位錯(cuò)等處形成氦泡，加劇了材料膨脹及脆性斷裂趨勢(shì)[7?10]。

目前，關(guān)于Hastelloy-N合金的中子輻照后力學(xué)機(jī)械性能、抗腐蝕性能等研究很少。由于中子輻照裝置少、實(shí)驗(yàn)費(fèi)用貴，且材料輻照后放射性強(qiáng)，導(dǎo)致應(yīng)用較少。而離子輻照由于能在短時(shí)間達(dá)到所需劑量，且不易產(chǎn)生感生放射性等優(yōu)點(diǎn)被用于模擬中子輻照[11?12]。輻照硬化通常被認(rèn)為是由輻照產(chǎn)生的缺陷團(tuán)簇造成，如位錯(cuò)環(huán)、溶質(zhì)原子團(tuán)簇等[13?14]。氦離子輻照產(chǎn)生的氦泡會(huì)阻礙位錯(cuò)線的滑移，從而使材料的硬度增加[15?16]。劉敏等[17]研究了氦離子輻照Hastelloy-N合金對(duì)其微觀結(jié)構(gòu)的影響，林建波[4,18]研究了Hastelloy-N合金經(jīng)氦離子輻照后的耐熔鹽腐蝕性能。關(guān)于氦離子輻照對(duì)Hastelloy-N合金微觀硬度的影響以及氦在Hastelloy-N合金中的微觀行為的核分析技術(shù)研究少見(jiàn)報(bào)道。

本文利用不同能量(30 keV、70 keV、300 keV、3 MeV)的氦離子輻照了鎳基合金，對(duì)合金硬度進(jìn)行測(cè)量，對(duì)微觀缺陷進(jìn)行表征，研究了微觀缺陷對(duì)合金硬度的影響，并直接觀測(cè)到氦泡和氦的深度分布。

1 材料和方法

1.1 樣品制備

Hastelloy-N合金的主要化學(xué)成分見(jiàn)表1，主要由Ni、Mo、Cr、Fe組成。大小為8 mm×8 mm×1.5 mm的樣品拋光至鏡面后，使用10%水+40%濃硫酸+50%甘油的混合液進(jìn)行電解拋光。直接用來(lái)輻照的透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope, TEM)樣品由厚約100 μm、直徑3 mm的小圓片經(jīng)電解雙噴的方法制成，所用雙噴儀型號(hào)為丹麥Struers公司的TenuPol-5，雙噴液為5% HClO4+95% CH3OH混合液。

1.2 實(shí)驗(yàn)設(shè)備

在中國(guó)科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所100 kV同位素分離器及離子注入裝置上進(jìn)行70 keV的4He+的室溫下輻照，輻照劑量分別為1×1015ions?cm?2、1×1016ions?cm?2、5×1016ions?cm?2和1×1017ions?cm?2，束流強(qiáng)度約為0.5 μA，真空度6×10?4Pa；在北京師范大學(xué)400 kV離子注入機(jī)上進(jìn)行30 keV和300 keV的4He+的室溫下輻照，300 keV氦離子輻照劑量為1×1015ions?cm?2、1×1016ions?cm?2和3×1016ions?cm?2，流強(qiáng)約15 μA，束斑直徑?10 cm，真空度2.2×10?3Pa；在中國(guó)科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所4 MV加速器上進(jìn)行了3 MeV的4He+的室溫下輻照，輻照劑量1×1016ions?cm?2，束流強(qiáng)度約為0.5 μA，真空度3×10?4Pa。

使用美國(guó)Agilent公司生產(chǎn)的G200納米壓痕儀，采用連續(xù)剛度法測(cè)量了樣品的納米硬度。測(cè)量中，在樣品輻照表面隨機(jī)選取8個(gè)壓入點(diǎn)，取測(cè)量平均值，獲得硬度隨深度的變化曲線。

在中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所核輻射與核能技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行慢正電子束多普勒展寬譜實(shí)驗(yàn)。慢正電子能量為0.18?20 keV。采用和參數(shù)表征湮沒(méi)性質(zhì)。參數(shù)為510.24?511.76 keV能量范圍內(nèi)的計(jì)數(shù)與總峰值(504.2?517.8 keV)計(jì)數(shù)的比值。而參數(shù)為513.6?517.8 keV和504.2?508.4 keV能量范圍內(nèi)的計(jì)數(shù)與總的峰值計(jì)數(shù)的比值。

在復(fù)旦大學(xué)現(xiàn)代物理研究所的2×3 MV串列靜電加速器上進(jìn)行了彈性反沖探測(cè)(Elastic Recoil Detection, ERD)實(shí)驗(yàn)，采用能量8.5 MeV、流強(qiáng)約20 nA的C3+離子作為入射束，反沖角為30°，在Au-Si面壘探測(cè)器前放置10 μm的Mylar膜(C10H8O4)來(lái)阻止散射的入射碳離子和反沖的重離子。

使用美國(guó)FEI公司生產(chǎn)的 Tecnai G2F20 S-TWIN型透射電子顯微鏡進(jìn)行合金的雙噴樣和截面樣TEM測(cè)試，加速電壓為200 kV。截面TEM樣品制樣過(guò)程：從厚1 mm的樣品切割出寬2 mm、長(zhǎng)8 mm長(zhǎng)條（2 mm×8 mm為輻照面），把兩輻照表面對(duì)粘，鑲?cè)氲酵鈴綖? mm的銅管后固定，再經(jīng)線切割成厚約1.5 mm的圓片，用砂紙磨至50 μm，再用凹坑儀把圓片中心區(qū)域凹至20 μm，放入離子減薄儀減至穿孔并有薄區(qū)。利用雙噴樣品表征了輻照表面的微觀結(jié)構(gòu)，利用截面樣品表征了距合金輻照表面深度100 nm區(qū)域內(nèi)的微觀結(jié)構(gòu)。

1.3 退火溫度選取

溫度是影響金屬中氦行為的重要因素。實(shí)驗(yàn)采用國(guó)產(chǎn)鎳基合金(GH3535)，經(jīng)能量為70 keV、劑量為1×1016ions?cm?2的氦離子輻照后，在不同溫度下進(jìn)行了真空（真空度優(yōu)于6×10?4Pa）退火1 h。有文獻(xiàn)研究結(jié)果表明[19]，氦泡在電鏡欠焦?fàn)顟B(tài)下呈現(xiàn)為白點(diǎn)，在過(guò)焦?fàn)顟B(tài)下呈現(xiàn)為黑點(diǎn)。本實(shí)驗(yàn)合金樣品截面的TEM結(jié)果如圖1所示，773 K退火后存在納米級(jí)尺寸的氦泡(圖1(b)和(c))。873 K退火后氦泡的尺寸有所增大(圖1(d)和(e))；973 K退火后，氦泡消失。由于GH3535合金與Hastelloy-N合金成分類(lèi)似，對(duì)于GH3535合金，873 K退火后氦泡最明顯。本實(shí)驗(yàn)中，選取873 K的退火溫度，退火時(shí)間1 h。

圖1 GH3535合金經(jīng)1×1016 ions?cm?2氦離子輻照TEM明場(chǎng)像(a) 未輻照，(b) 輻照后773 K退火，欠焦，(c) 輻照后773 K退火，過(guò)焦，(d) 輻照后873 K退火，欠焦，距表面約50 nm，(e) 輻照后873 K退火，過(guò)焦，距表面約50 nm，(f) 輻照后973 K退火

2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果和分析

2.1 氦離子輻照對(duì)合金的硬化影響

合金材料表層損傷引起硬度的變化通常采用納米壓痕技術(shù)進(jìn)行研究，納米壓痕儀的Berkovich壓頭測(cè)量的硬度對(duì)應(yīng)壓入深度向下延伸約6倍區(qū)域內(nèi)的整體貢獻(xiàn)[13,20]，由于表面效應(yīng)以及壓頭幾何形狀的影響，50 nm深度前的數(shù)據(jù)不可信[21]。70 keV的氦離子在Hastelloy-N合金的射程為400 nm，輻照損傷深度適合進(jìn)行納米壓痕實(shí)驗(yàn)，實(shí)驗(yàn)選用不同能量(≥70 keV)的氦離子進(jìn)行鎳基合金材料輻照，研究其硬度變化規(guī)律。

70 keV氦離子輻照劑量為1×1015ions?cm?2、1×1016ions?cm?2、5×1016ions?cm?2、1×1017ions?cm?2，輻照峰值損傷為0.055 dpa、0.550 dpa、2.750 dpa、5.500 dpa。Hastelloy-N合金的平均納米硬度隨壓入深度的變化曲線如圖2(a)所示，合金產(chǎn)生了明顯的輻照硬化現(xiàn)象，且隨劑量硬度不斷增加。采用距樣品表面約1/6輻照深度(66 nm)處硬度值，比較873 K退火前后硬度的變化(圖3(a))，退火前樣品66 nm處硬度值隨劑量增加從7.2 GPa增至13.2 GPa，增幅83%；退火后樣品66 nm處硬度值仍呈現(xiàn)隨著劑量而增大的趨勢(shì)，硬度值從未輻照的7.4 GPa增大至12.4 GPa，增幅67%。但同劑量輻照的樣品的硬度增值均下降1 GPa左右，即退火后樣品的硬度下降。

300 keV氦離子輻照劑量分別為1×1015ions?cm?2、1×1016ions?cm?2、3×1016ions?cm?2，輻照峰值損傷分別為0.042 dpa、0.420 dpa、1.260 dpa。由于300 keV氦離子射程約1 μm，納米壓痕實(shí)驗(yàn)取距樣品輻照表面約1/6輻照深度(160 nm)處的硬度值(圖3(a))，氦離子輻照損傷引起的硬度變化與70 keV輻照結(jié)果相似，輻照后硬度迅速增大，且隨輻照劑量而增大。

劑量為1×1016ions?cm?2的3 MeV氦離子輻照合金，輻照深度約5 μm，峰值損傷為0.33 dpa，距合金表面約1/6輻照深度(820 nm)處納米硬度值比輻照前硬度值增加0.26 GPa (圖3(a))。

比較不同能量氦離子輻照后納米壓痕硬度的增值，隨著能量的增加，硬度增加值減小。70 keV、300 keV氦離子輻照后硬度值增加明顯(圖3(b))；而3 MeV氦離子輻照后合金硬度增值不大，由于其輻照深度較深，輻照損傷峰值在4?5 μm處，從表面到峰值之間區(qū)域的輻照損傷平均值較小。

氦離子輻照使得合金的硬度發(fā)生改變，為探究合金力學(xué)性能改變的微觀機(jī)制，建立硬化和輻照缺陷之間的聯(lián)系，對(duì)樣品進(jìn)行了慢正電子多普勒展寬實(shí)驗(yàn)。首先用SRIM2008 (The Stopping and Range of Ions in Matter)[22]軟件模擬了70 keV氦離子注入Hastelloy-N合金后的損傷情況及氦的分布，模擬顯示(圖4)每個(gè)入射氦離子通過(guò)級(jí)聯(lián)碰撞產(chǎn)生96個(gè)空位，在不考慮空位與間隙原子復(fù)合的情況下，空位數(shù)在200 nm處達(dá)到最大值。空位數(shù)與氦原子數(shù)的比值從表面往內(nèi)部遞減。

慢正電子探測(cè)的深度與能量的關(guān)系通過(guò)式(1)得到[23]：

式中，為入射深度，nm；為材料密度，g?cm?2；為入射正電子能量，keV。對(duì)于Hastelloy-N合金，為8.86 g?cm?2，20 keV的正電子能探測(cè)的深度為545 nm。

圖5(a)為參數(shù)隨正電子入射能量的變化曲線（曲線），上橫坐標(biāo)為正電子能量所對(duì)應(yīng)的平均入射深度。如圖5(a)所示，參數(shù)在0?40 nm深度范圍內(nèi)急劇減小，這是由制樣過(guò)程引入的表面缺陷和正電子擴(kuò)散到樣品表面造成[24?25]。輻照后樣品的參數(shù)較輻照前顯著增大，表明氦離子輻照產(chǎn)生的空位型缺陷成為了慢正電子的捕獲中心[14]。當(dāng)注入劑量由1×1015ions?cm?2逐漸增加，參數(shù)在深度200 nm以后的區(qū)域反而變小。這可能是由于高劑量輻照引入的氦原子被空位型缺陷捕獲，占據(jù)空位的氦原子的核外電子具有更高動(dòng)量，與正電子湮滅致使參數(shù)變小[15,26]。從SRIM模擬的結(jié)果也可看出，越往深處，每個(gè)氦原子可占據(jù)的空位數(shù)越少，故參數(shù)越來(lái)越小。

圖5(b)為經(jīng)過(guò)873 K真空退火后樣品曲線。結(jié)果顯示，高溫退火后樣品的參數(shù)相對(duì)于退火前樣品有所減小，特別是未輻照的樣品參數(shù)顯著降低，可能是由于退火使制樣過(guò)程引入的缺陷得到回復(fù)[27]。劑量為1016ions?cm?2的輻照樣品退火后，其參數(shù)在深于200 nm區(qū)域不再低于輻照劑量為1×1015ions?cm?2的合金，受劑量1×1015ions?cm?2輻照的合金深處空位型缺陷可能是因?yàn)榈玫搅藷峄貜?fù)或氦的遷移擴(kuò)散造成。

將正電子入射能量為8?13 keV樣品的平均參數(shù)相減，即ir減去unir得到Δ，發(fā)現(xiàn)未退火樣品不同劑量輻照前后最大Δ值約0.02，873 K退火后樣品Δ值為0.025?0.030。高溫退火后合金中小的氦-空位復(fù)合體(HeV)會(huì)聚集形成更大的氦-空位復(fù)合體[15,28]，造成退火后Δ增大。參數(shù)變化表明輻照產(chǎn)生了缺陷，缺陷使合金硬化，但退火后Δ的增大與硬度的降低之間的關(guān)系需要進(jìn)一步探討。

2.2 氦的分布及輻照缺陷演化

為研究硬化現(xiàn)象的微觀成因，正電子多普勒展寬譜對(duì)氦輻照合金產(chǎn)生缺陷給出了實(shí)驗(yàn)證明，硬度的研究是輻照產(chǎn)生的損傷效應(yīng)的宏觀表征，這些缺陷的微觀形貌和分布如何？與氦的分布是什么關(guān)系？利用ERD測(cè)量能量30 keV、劑量5×1016ions?cm?2的氦離子輻照后Hastelloy-N合金樣中氦的深度分布如圖6(a)所示，ERD能譜中大于1.6 MeV能量以后的計(jì)數(shù)對(duì)應(yīng)反沖的氦原子，1.55 MeV和0.8 MeV處的峰主要為樣品表面及內(nèi)部的氫。由于氦與氫的ERD能譜在低能部分重合，使用Allegria軟件，選取1.6 MeV以后的能譜數(shù)據(jù)計(jì)算氦的含量分布，即計(jì)算了從樣品表面到150 nm深度內(nèi)的氦含量分布，結(jié)果如圖6(b)所示。氦含量分布在150 nm深度處達(dá)到峰值，原子百分比為4.5%。實(shí)驗(yàn)值略低于SRIM模擬值，可能是由于氦的擴(kuò)散造成。經(jīng)過(guò)873 K退火后，氦含量顯著減小，150 nm處的氦含量從未退火前的4.5%降至2.5%左右，退火加劇了氦的遷移擴(kuò)散造成氦含量減小[28?30]。

圖7(a)?(c)為30 keV氦離子輻照退火前后Hastelloy-N合金的TEM明場(chǎng)像。未輻照合金樣品存在少量黑斑缺陷，經(jīng)氦離子輻照后，產(chǎn)生了大量的黑斑缺陷，尺寸在10 nm以下。研究表明[14,20]，鎳基合金在重離子輻照后出現(xiàn)了黑斑缺陷，這種黑斑缺陷可能為缺陷團(tuán)簇、位錯(cuò)環(huán)或由溶質(zhì)原子在點(diǎn)缺陷團(tuán)簇處的輻照偏析產(chǎn)生的溶質(zhì)原子團(tuán)簇[31]。873 K退火后，部分黑斑缺陷由于熱回復(fù)而消失。

圖7(d)?(f)為70 keV氦離子輻照退火前后Hastelloy-N合金的TEM明場(chǎng)像，與30 keV情況類(lèi)似，輻照后產(chǎn)生大量黑斑缺陷。由于70 keV的氦離子能穿透雙噴TEM樣品，沒(méi)有觀測(cè)到氦泡。使用塊體樣經(jīng)輻照后制成了截面TEM樣品，其微觀結(jié)構(gòu)如圖8所示，經(jīng)873 K退火后，在50?100 nm深度內(nèi)可以觀測(cè)到小于1 nm的氦泡，其在電鏡欠焦?fàn)顟B(tài)下呈現(xiàn)為白點(diǎn)(圖8(c))，在過(guò)焦?fàn)顟B(tài)下呈現(xiàn)為黑點(diǎn)(圖8(d))；未退火樣品沒(méi)有觀測(cè)到類(lèi)似現(xiàn)象。

圖8 Hastelloy-N合金后的截面TEM明場(chǎng)像 (a) 未輻照，(b) 70 keV氦離子輻照后873 K退火后，(c) 圖(b)放大后欠焦明場(chǎng)像，(d) 圖(b)放大后過(guò)焦明場(chǎng)像

劉可等[14]研究了Xe離子輻照對(duì)國(guó)產(chǎn)Hastelloy-N合金的硬化，發(fā)現(xiàn)輻照引起的硬度增加值正比于合金內(nèi)部缺陷團(tuán)簇的尺寸及密度。這些缺陷團(tuán)簇在材料中對(duì)位錯(cuò)線起到釘扎作用，阻礙位錯(cuò)線的自由移動(dòng)，從而造成材料硬化。在氦離子輻照情況下，氦泡的存在同樣會(huì)阻礙位錯(cuò)線的滑移運(yùn)動(dòng)使材料硬化，這種現(xiàn)象在Ni、W、Inconel 718等材料中都得到驗(yàn)證[15?16,32?33]，這種硬化現(xiàn)象在氦泡尺寸很小的情況下也十分明顯。

本研究中合金硬度隨輻照劑量而增大，主要是由氦輻照產(chǎn)生的缺陷團(tuán)簇造成。經(jīng)873 K退火后合金硬度雖仍然保持著隨劑量不斷增大的規(guī)律，但整體有所下降，造成此現(xiàn)象的原因一方面是由于退火過(guò)程中不穩(wěn)定缺陷的熱回復(fù)，TEM觀測(cè)結(jié)果顯示黑斑數(shù)密度減少印證了這一點(diǎn)；另一方面，與氦在合金內(nèi)的存在形態(tài)及濃度有關(guān)，未退火樣品中用TEM觀測(cè)不到的氦-空位復(fù)合體，而退火后合金內(nèi)部小尺寸HeV雖然遷移聚集形成大尺寸HeV，但ERD測(cè)量發(fā)現(xiàn)氦濃度顯著下降，氦在合金中的高溫脫附以及氦空位復(fù)合體的合并長(zhǎng)大導(dǎo)致其數(shù)量減少，是造成硬度減小的原因。

3 結(jié)語(yǔ)

利用不同能量的氦離子輻照鎳基Hastelloy-N合金后，得出以下結(jié)論：

(1) Hastelloy-N合金經(jīng)氦離子輻照后出現(xiàn)硬化現(xiàn)象，合金的硬度隨著輻照劑量而增大；隨著氦離子能量的增加，入射深度和損傷區(qū)域增大，在劑量相同的情況下，合金樣品硬度增加值減??；873 K退火后合金的硬度增值有所減少。

(2) 氦離子輻照合金產(chǎn)生的黑斑缺陷，在873 K退火后部分消失，同時(shí)小尺寸的HeV聚集成大尺寸HeV，退火后峰值氦濃度減少近半。

(3) 合金硬化主要由輻照產(chǎn)生的1?7 nm大尺寸缺陷團(tuán)簇造成，高溫退火后合金硬度增值減少是因?yàn)椴环€(wěn)定缺陷得以熱回復(fù)及氦-空位復(fù)合體的減少。

(4) 利用離子束ERD技術(shù)可以無(wú)損直接測(cè)定分析出鎳基合金內(nèi)氦的含量深度分布，這種方法是研究鎳基合金氦脆的有力手段。

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Investigation of heliumirradiation induced hardening in nickel-based alloy

LIU Zhe1,2,3BAO Liangman1,3LIU Ke1,2,3LIU Renduo1,3YE Bonian1,3LEI Qiantao1,3LI Yan1,3,4

1(Shanghai Institute of Applied Physics,Chinese Academy of Sciences, Jiading Campus, Shanghai 201800,China);2(University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China);3(Key Laboratory of Nuclear Radiation and Nuclear Energy Technology, Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201800,China);4(ShanghaiTech University, Shanghai 200031, China)

Background:Hastelloy-N alloy is selected as the structural material for molten salt reactor (MSR), however, it is well-known that helium atoms play an important role in nickel-based materials after severe neutron irradiation, since they can drastically alter mechanical properties, potentially embrittle materials even at low concentration. Purpose: This study aims to understand the hardening of Hastelloy-N alloy material caused by helium irradiation. Methods: Samples were irradiated by helium ions of various energies and intensities at room temperature. After annealed at temperature of 773 K, 873 K and 973 K separately, and some typical samples annealed at 873 K were chosen as objects of investigation. Nano-indentation technique was used to obtain the hardness; elastic recoil detection (ERD) was used to detect the helium concentration; and positron annihilation spectroscopy (PAS) was used to investigateparameter. The microstructure was characterized by transmission electron microscopy (TEM). Results: The hardness of the Hastelloy-N alloys irradiated by He+increased with the dose whilst theparameter first increased with irradiation dose, but decresed after reach certain incident depth. After annealing, both the hardness and theparameters decreased. The TEM image showed lots of radiation-induced defects after irradiation. The small defects were annihilated and 1-nm small helium bubble was observed after annealing. Conclusion: The large radiation-induced defects were believed to be the causes of the hardening. While the recovery of hardening after 873 K annealing was ascribed to the annihilation of the small defects, the desorption of helium and the decreasing number of HeV.

Nickel-based alloy, Helium ions, Irradiation, Hardness

TL34

TL34

10.11889/j.0253-3219.2015.hjs.38.070605

國(guó)家自然科學(xué)基金培育項(xiàng)目(No.91126012)、上海市自然科學(xué)基金(No.14ZR1448300)資助

劉哲，男，1989年出生，2012年畢業(yè)于蘭州大學(xué)核科學(xué)與技術(shù)學(xué)院，現(xiàn)為碩士研究生，專(zhuān)業(yè)為核技術(shù)及應(yīng)用

包良滿(mǎn)，E-mail: baoliangman@sinap.ac.cn；李燕，E-mail: ly@sinap.ac.cn

2015-03-16，

2015-04-25