工業(yè)級(jí)MgO的研磨及在楊木CTMP堿性H2O2漂白中的應(yīng)用

徐寧攀 劉 葦 吳少帥 湯 斌 侯慶喜 徐飛強(qiáng) 劉莉暉

(天津科技大學(xué)天津市制漿造紙重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，天津，300457)

20世紀(jì)80年代發(fā)展起來(lái)的漂白化學(xué)熱磨機(jī)械漿(BCTMP)具有原料適應(yīng)性強(qiáng)、利用率高、漿料松厚度和挺度高、纖維內(nèi)部結(jié)合力強(qiáng)、紙張成形好等優(yōu)點(diǎn)。目前，BCTMP廣泛用于印刷書(shū)寫(xiě)紙、多層高檔紙板、生活用紙等紙種的生產(chǎn)[1-3］。我國(guó)北方生長(zhǎng)的典型樹(shù)種楊木適于生產(chǎn)CTMP，楊木CTMP的可漂性好，通過(guò)采用H2O2漂白能夠使其白度達(dá)到85%以上[4］。

CTMP的堿性H2O2漂白通常以NaOH為堿源，而堿性較強(qiáng)的NaOH容易引起紙漿的“堿性發(fā)黑”、木素和碳水化合物等物質(zhì)降解、制漿得率減少、陰離子垃圾增多、紙機(jī)的生產(chǎn)壓力以及廢水污染負(fù)荷加重等問(wèn)題[5-7］。目前，諸多研究采用堿性較弱的鎂堿對(duì)CTMP進(jìn)行H2O2漂白，以解決上述問(wèn)題。但在以鎂堿作為漂白堿源的研究過(guò)程中發(fā)現(xiàn)，用Mg(OH)2作為漂白堿源，減小Mg(OH)2粒徑可提高漂白漿的白度和殘余 H2O2量;而采用工業(yè)級(jí)Mg(OH)2進(jìn)行 H2O2漂白，則會(huì)導(dǎo)致 H2O2無(wú)效分解[8-9］。此外，以 MgO作為漂白堿源進(jìn)行 CTMP的H2O2漂白時(shí)，MgO的粒徑和形狀均對(duì)漂白效果有影響[10］。Zhang J H 等人[11］研究不同粒徑的工業(yè)級(jí)MgO對(duì)化機(jī)漿漂白過(guò)程的影響，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，隨著MgO粒徑的減小，H2O2漂白漿的抗張強(qiáng)度和撕裂強(qiáng)度增加，而松厚度和光散射系數(shù)減小。

我國(guó)具有豐富的鹵水鎂和礦石鎂資源，其中鹵水鎂資源適用于生產(chǎn)高純度或超高純度 (純度＞98%)的MgO，而礦石鎂資源用于生產(chǎn)純度相對(duì)較低的MgO，成本較低，目前我國(guó)主要通過(guò)菱鎂礦煅燒生產(chǎn)MgO[12-13］。工業(yè)級(jí)MgO純度、粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性對(duì)CTMP的H2O2漂白漿性能有較大影響，MgO粒徑大小和表面形貌以及所含過(guò)渡金屬離子都會(huì)影響B(tài)CTMP的性能[14］。而MgO晶粒較大、結(jié)構(gòu)緊密、晶格完整時(shí)，其化學(xué)反應(yīng)活性較低[15］。通過(guò)機(jī)械研磨的方法，能夠改變工業(yè)級(jí)MgO的粒徑、表面形貌和化學(xué)反應(yīng)活性，從而影響工業(yè)級(jí)MgO在高得率漿堿性H2O2漂白中的應(yīng)用。但目前相關(guān)研究較少，理論仍不完善，為了使價(jià)格低廉的礦石鎂資源能夠在制漿造紙工業(yè)中得到廣泛應(yīng)用，在紙漿漂白過(guò)程中降低廢液的污染負(fù)荷，實(shí)現(xiàn)綠色化生產(chǎn)的同時(shí)，使?jié){料的其他性能得到進(jìn)一步的改善，并促進(jìn)工業(yè)化生產(chǎn)，有必要研究研磨后的工業(yè)級(jí)MgO對(duì)CTMP堿性H2O2漂白的影響。

本文研究了不同的研磨工藝和研磨介質(zhì) (自來(lái)水、去離子水和無(wú)水乙醇)對(duì)工業(yè)級(jí)MgO粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性的影響規(guī)律，通過(guò)對(duì)比去離子水和無(wú)水乙醇兩種研磨介質(zhì)對(duì)MgO的影響，分析水在研磨過(guò)程中對(duì)MgO的影響，采用自來(lái)水進(jìn)行MgO研磨，以模擬工廠實(shí)際生產(chǎn);并用研磨后的工業(yè)級(jí)MgO替代25%(摩爾分?jǐn)?shù))的NaOH用于楊木CTMP的堿性H2O2漂白，分析研磨后的工業(yè)級(jí)MgO對(duì)漂后漿光學(xué)性能及強(qiáng)度性能的影響。

1 實(shí)驗(yàn)

1.1 原料和試劑

楊木漿取自山東某漿廠CTMP生產(chǎn)線中出一段磨漿機(jī)的漿料。將該漿料用90℃熱水浸泡40 min后，調(diào)節(jié)漿濃為15%，再用實(shí)驗(yàn)室KRK高濃盤(pán)磨機(jī)模擬CTMP生產(chǎn)線的二段磨漿，盤(pán)磨間隙為0.8 mm，然后用方形篩對(duì)磨后漿料進(jìn)行篩選，篩縫寬度為0.15 mm。所得良漿 (即楊木CTMP)經(jīng)脫水、平衡水分后儲(chǔ)存在溫度4℃的冷庫(kù)中備用，其主要性能指標(biāo)如表1所示。

表1 楊木CTMP的主要性能指標(biāo)

工業(yè)級(jí)MgO取自遼寧某廠，由鎂菱礦石經(jīng)煅燒生產(chǎn)的重質(zhì)MgO，純度為88%，略低于工業(yè)級(jí)MgO的合格水平，初始粒徑21.08 μm，化學(xué)反應(yīng)活性299.5 s。實(shí)驗(yàn)所用的主要化學(xué)藥品 (如 NaOH、Na2SiO3、DTPA、H2O2)均為分析純。

1.2 主要儀器

SMB-0.75藍(lán)氏研磨機(jī)，上海索維機(jī)電設(shè)備有限公司，中國(guó);LSI3-320激光衍射粒度儀，Beckman coulter，美國(guó);P40110.E000 PFI磨漿機(jī)，Paper Testing Instruments GMBH，澳大利亞;KRK2500-II高濃磨漿機(jī)，Kumagai Riki Kogyo，日本;535方形篩，L＆W，瑞典;Elrepho SE 070A分光光度儀，L＆W，瑞典;SE062抗張強(qiáng)度測(cè)定儀，L＆W，瑞典;SE002耐破度測(cè)試儀，L＆W，瑞典。

1.3 實(shí)驗(yàn)方法

1.3.1 工業(yè)級(jí)MgO的研磨

根據(jù)表2中所列的研磨條件對(duì)工業(yè)級(jí)MgO進(jìn)行研磨，直接檢測(cè)a、b兩組研磨后的MgO粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性;對(duì)于c、d兩組研磨后的MgO，一部分直接檢測(cè)其粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性，另一部分放入 (105±2)℃的烘箱中烘干后，用圓柱形陶瓷碾輥輕輕碾壓使其分散均勻，然后檢測(cè)粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性，剩余部分放入自封袋避光儲(chǔ)藏，備用;而 e組研磨后的MgO，先將懸浮液中的乙醇揮發(fā)至少量，然后放入(105±2)℃的烘箱中烘干后輕輕碾壓使其分散，檢測(cè)粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性，剩余部分放入自封袋避光儲(chǔ)藏，備用。

表2 工業(yè)級(jí)MgO的研磨條件

1.3.2 粒徑的檢測(cè)

取一定量的MgO粉末或研磨后的MgO懸浮液，用去離子水稀釋?zhuān)⒂么帕嚢杵鲾嚢枋蛊浠旌暇鶆颍瑪嚢柁D(zhuǎn)速為150 r/min，用滴管吸取一定量的懸浮液加入激光衍射粒度儀中，測(cè)定MgO的粒徑。

1.3.3 化學(xué)反應(yīng)活性的檢測(cè)

按照YB/T 4019—2006輕燒氧化鎂化學(xué)活性的測(cè)定方法中的檸檬酸中和法測(cè)定MgO的化學(xué)反應(yīng)活性，以反應(yīng)時(shí)間 (s)來(lái)反映MgO的化學(xué)反應(yīng)活性，時(shí)間越短，則化學(xué)反應(yīng)活性越大。

1.3.4 楊木CTMP的堿性H2O2漂白

漂白條件如下:50 g(以絕干計(jì))楊木CTMP，漿濃20%，用堿量3.0%(以NaOH計(jì)，其中MgO替代 NaOH的摩爾分?jǐn)?shù)為 25%)，Na2SiO3用量2.0%，DTPA用量0.2%，H2O2用量6.0%，漂白溫度70℃，時(shí)間120 min。上述藥品的用量均以對(duì)絕干漿的質(zhì)量計(jì)。

先將待漂漿充分撕散風(fēng)干至漿料干度為40%～50%，再裝入自封袋中平衡水分備用。漂白前，先把稱(chēng)好的Na2SiO3、NaOH、DTPA和MgO溶解在一定量的去離子水中，均勻地倒入用聚乙烯袋裝的漿料中，將其快速揉搓均勻后，再加入H2O2和剩余的去離子水，并通過(guò)揉搓聚乙烯袋使?jié){料和漂白化學(xué)品混合均勻。漂白過(guò)程中每隔15 min揉搓一次。

1.3.5 手抄片的抄造及物理性能和光學(xué)性能的檢測(cè)

漂白結(jié)束后，將裝有漿料的聚乙烯袋迅速轉(zhuǎn)移到冷水浴中，冷卻至室溫，用去離子水洗滌漿料直至濾液清澈為止。用PFI磨漿機(jī)對(duì)過(guò)濾后的漿料進(jìn)行磨漿，直至漿料游離度達(dá)到 (255±20)mL，磨漿濃度為10%。再用標(biāo)準(zhǔn)疏解機(jī)疏解15000轉(zhuǎn)后，稀釋漿濃至0.4%，并調(diào)節(jié)pH值至5.0。按照國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T 3703—1999采用標(biāo)準(zhǔn)紙頁(yè)成形器抄造手抄片。根據(jù)相關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)漂后漿的松厚度、抗張強(qiáng)度、耐破強(qiáng)度、白度、不透明度等性能。

2 結(jié)果與討論

2.1 研磨濃度對(duì)工業(yè)級(jí)MgO粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性的影響

研磨濃度對(duì)工業(yè)級(jí)MgO粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性的影響分別如圖1和圖2所示。從圖1可以看出，研磨轉(zhuǎn)速一定時(shí)，研磨后MgO的粒徑隨研磨濃度的增加先減小后增加;且當(dāng)研磨濃度為10%時(shí)，研磨時(shí)間為10 min和20 min研磨后MgO粒徑均達(dá)到最小值，對(duì)應(yīng)的MgO的粒徑分別為4.13 μm和3.17 μm。由圖2可知，MgO的化學(xué)反應(yīng)活性隨研磨濃度的增加呈先增大后減小的變化趨勢(shì)，且研磨濃度為10%時(shí)，研磨后MgO化學(xué)反應(yīng)活性最大，研磨時(shí)間為10 min和20 min對(duì)應(yīng)的MgO化學(xué)反應(yīng)活性分別為182.0 s和159.8 s。

據(jù)相關(guān)研究[16-17］，當(dāng)研磨濃度較低時(shí)，ZnO粉體懸濁液的顆粒密度變化不大。隨著研磨濃度的增加，ZnO粉體顆粒之間的碰撞幾率增加;但當(dāng)濃度超過(guò)一定范圍時(shí)，由于懸濁液黏度的增加會(huì)阻礙粉體顆粒的運(yùn)動(dòng)，導(dǎo)致研磨效率降低。通過(guò)考察MgO顆粒粒徑的變化可以發(fā)現(xiàn)，MgO懸濁液在研磨過(guò)程中的變化與上述ZnO粉體顆粒的變化規(guī)律相似，因而本實(shí)驗(yàn)選定工業(yè)級(jí)MgO的最佳研磨濃度為10%。

圖1 研磨濃度對(duì)MgO粒徑的影響

圖2 研磨濃度對(duì)MgO化學(xué)反應(yīng)活性的影響

2.2 研磨轉(zhuǎn)速對(duì)工業(yè)級(jí)MgO粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性的影響

研磨濃度為10%時(shí)，研磨轉(zhuǎn)速對(duì)工業(yè)級(jí)MgO粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性的影響如圖3和圖4所示。從圖3可以看出，與未經(jīng)研磨的MgO相比，當(dāng)研磨轉(zhuǎn)速為500 r/min時(shí)，研磨10 min和20 min后MgO的粒徑達(dá)到了4.13 μm和3.17 μm，分別降低了80.1%和84.7%;當(dāng)研磨轉(zhuǎn)速超過(guò)500 r/min時(shí)，MgO的粒徑隨轉(zhuǎn)速的增加變化很小。從圖4可以看出，MgO的化學(xué)反應(yīng)活性隨著研磨轉(zhuǎn)速的增加先快速增大后趨于平緩，當(dāng)研磨時(shí)間為20 min、研磨轉(zhuǎn)速增加到500 r/min時(shí)，MgO的化學(xué)反應(yīng)活性達(dá)到159.8 s，此后隨著MgO粒徑減小趨于平緩，化學(xué)反應(yīng)活性的變化也趨于平緩。

圖3 研磨轉(zhuǎn)速對(duì)MgO粒徑的影響

圖4 研磨轉(zhuǎn)速對(duì)MgO化學(xué)反應(yīng)活性的影響

由于MgO粒徑的減小，顆粒的比表面積增加，MgO的化學(xué)反應(yīng)活性隨之增加。隨著研磨轉(zhuǎn)速的增大，MgO顆粒運(yùn)動(dòng)速度加快，顆粒相互間碰撞的機(jī)會(huì)增多，相互作用增強(qiáng)，反映出研磨效率的提高。當(dāng)研磨時(shí)間不變時(shí)，隨著研磨轉(zhuǎn)速的提高，MgO粒徑快速減小，當(dāng)減小到一定程度時(shí)，轉(zhuǎn)速的提高不能使MgO粒徑出現(xiàn)較大變化，作用效果減弱。因此，本研究中確定的工業(yè)級(jí)MgO的最佳研磨轉(zhuǎn)速為500 r/min。

2.3 研磨時(shí)間和研磨介質(zhì)對(duì)工業(yè)級(jí)MgO粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性的影響

分別以去離子水、自來(lái)水和無(wú)水乙醇為研磨MgO時(shí)的介質(zhì)，采用研磨濃度10%、研磨轉(zhuǎn)速500 r/min對(duì)MgO進(jìn)行研磨，實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖5和圖6所示。由圖5可知，在研磨初期，MgO受到的作用力主要以機(jī)械破碎為主，MgO的粒徑隨研磨時(shí)間的增加而減小，并且前期下降較快，之后逐漸變緩。當(dāng)研磨時(shí)間超過(guò)40 min后，機(jī)械力對(duì)MgO顆粒的細(xì)化作用減弱，MgO的粒徑變化趨于平穩(wěn)。研磨介質(zhì)對(duì)MgO粒徑的影響較小。用自來(lái)水和去離子水研磨MgO時(shí)，烘干后比烘干前的MgO粒徑略微增加。由圖6可知，MgO的化學(xué)反應(yīng)活性隨著研磨時(shí)間的延長(zhǎng)先增大后減小，并在40 min時(shí)達(dá)到最大，此時(shí)，用去離子水和自來(lái)水研磨并烘干的MgO化學(xué)反應(yīng)活性分別為151.6 s和167.8 s;而用無(wú)水乙醇為研磨介質(zhì)時(shí)研磨MgO的化學(xué)反應(yīng)活性則隨研磨時(shí)間的延大而逐漸增大。

圖5 不同研磨介質(zhì)中MgO粒徑隨研磨時(shí)間的變化

圖6 不同研磨介質(zhì)中MgO化學(xué)反應(yīng)活性隨研磨時(shí)間的變化

一般而言，物料在機(jī)械研磨過(guò)程中存在著機(jī)械力化學(xué)效應(yīng)，即在機(jī)械力的作用下，晶體的結(jié)晶程度發(fā)生變化、晶體缺陷增多，從而使表面能增加、化學(xué)反應(yīng)活性提高[18］。MgO的化學(xué)反應(yīng)活性受其晶格畸變和晶界面積大小的影響，晶格畸變使晶體勢(shì)能增加，活化能降低，化學(xué)反應(yīng)活性增大;晶界面積越大，晶體與水分子的作用面積增加，化學(xué)反應(yīng)活性增大;晶粒越小，比表面積越大，化學(xué)反應(yīng)活性也會(huì)越大[19-20］。研磨時(shí)間超過(guò)40 min后MgO化學(xué)反應(yīng)活性出現(xiàn)下降，可能是因?yàn)榛钚訫gO在水中會(huì)水化為Mg(OH)2，而Mg(OH)2在過(guò)飽和情況下會(huì)形成結(jié)晶而析出，導(dǎo)致活性MgO的含量下降[20］。由于MgO不溶于無(wú)水乙醇，所以在研磨過(guò)程中不會(huì)出現(xiàn)MgO的水化，因此，隨著研磨時(shí)間的增加，MgO的粒徑逐漸減小，化學(xué)反應(yīng)活性逐漸增加。

從以上分析可以得出，以自來(lái)水或去離子水為研磨介質(zhì)時(shí)，工業(yè)級(jí)MgO的研磨時(shí)間不宜超過(guò)40 min。無(wú)水乙醇由于密度小、易揮發(fā)，在相同研磨條件下，與自來(lái)水或去離子水為MgO研磨介質(zhì)相比，采用無(wú)水乙醇時(shí)的MgO研磨效果略差。

本研究中對(duì)使用自來(lái)水和去離子水為研磨介質(zhì)時(shí)所研磨的MgO進(jìn)行了烘干處理，對(duì)比了烘干前后MgO粒徑和化學(xué)反應(yīng)活性的變化。從圖5和圖6中可以看出，烘干后MgO的粒徑略高于烘干前，烘干后的MgO化學(xué)反應(yīng)活性比烘干前的略微下降。這可能是因?yàn)樵诤娓蛇^(guò)程中部分MgO水化成Mg(OH)2，導(dǎo)致活性MgO的含量下降。用自來(lái)水、去離子水和無(wú)水乙醇研磨后的MgO粒徑相差不大;以自來(lái)水為研磨介質(zhì)所得到的MgO化學(xué)反應(yīng)活性略低于以去離子水為研磨介質(zhì)所得到的MgO化學(xué)反應(yīng)活性。

2.4 研磨MgO對(duì)楊木CTMP堿性H2O2漂白漿物理性能的影響

在研磨濃度10%、研磨轉(zhuǎn)速500 r/min條件下，分別在去離子水、自來(lái)水和無(wú)水乙醇3種研磨液體介質(zhì)中對(duì)MgO進(jìn)行研磨、烘干，用 MgO替代25%NaOH(摩爾分?jǐn)?shù))，對(duì)楊木CTMP進(jìn)行堿性H2O2漂白，漂白后漿張的物理性能見(jiàn)表3和表4。

表3反映了研磨MgO對(duì)漂后漿張光學(xué)性能的影響。從表3中可以看出，隨著研磨時(shí)間的增加，漂后漿張的白度和光散射系數(shù)逐漸下降，而不透明度則變化不大。其中，在用去離子水、自來(lái)水和無(wú)水乙醇作為研磨介質(zhì)的條件下，當(dāng)MgO研磨到40 min時(shí)，漂后漿料的白度由77.4%分別下降到75.7%、75.4%和75.3%，約下降了2個(gè)百分點(diǎn);光散射系數(shù)由44.2 m2/kg相應(yīng)地減小到40.5、39.5、42.6 m2/kg。這是因?yàn)殡S著研磨時(shí)間的增加，MgO的化學(xué)反應(yīng)活性逐漸增加，漂液的堿性增強(qiáng)，H2O2對(duì)木素的氧化能力增強(qiáng)，但是MgO中的鐵、銅離子等微量過(guò)渡金屬離子可能與木素結(jié)合形成復(fù)合發(fā)色基團(tuán)。隨著MgO粒徑的減小，金屬離子的溶出不斷增加，復(fù)合發(fā)色基團(tuán)不斷增多，同時(shí)H2O2的無(wú)效分解也會(huì)增加，最終導(dǎo)致漿張白度下降[11，21］。由于纖維間結(jié)合更加緊密，漂后漿張的光散射系數(shù)和不透明度下降，而復(fù)合發(fā)色基團(tuán)的增加又促使?jié){張的不透明度增加。在這些因素的綜合影響下，漂后漿張的不透明度沒(méi)有明顯的變化。

從表4可以看出，隨著研磨時(shí)間的增加，用研磨MgO替代25%的NaOH漂白楊木CTMP所得漿料的松厚度逐漸降低，而抗張指數(shù)和耐破指數(shù)均逐漸增加。MgO研磨到40 min時(shí)，與未研磨MgO相比，在研磨液體介質(zhì)分別為去離子水、自來(lái)水和無(wú)水乙醇時(shí)，相應(yīng)的漂后漿張的松厚度分別下降了11.4%、12.2%和11.0%，抗張指數(shù)分別增加了14.6%、9.21%和6.67%，耐破指數(shù)分別增加了27.0%、20.2%和20.2%。

表3 不同研磨介質(zhì)下研磨MgO對(duì)楊木CTMP漂后漿張光學(xué)性能的影響

表4 不同研磨介質(zhì)下研磨MgO對(duì)楊木CTMP漂后漿張松厚度和強(qiáng)度性能的影響

造成強(qiáng)度性能隨MgO研磨時(shí)間延長(zhǎng)而提高的原因主要是隨著研磨時(shí)間的增加，MgO顆粒的粒徑逐漸減小，化學(xué)反應(yīng)活性逐漸增加，加快了活性MgO在漂白過(guò)程中水化成Mg(OH)2的速度，漂液的堿性增強(qiáng)，有利于纖維的潤(rùn)脹和軟化，使得纖維變得柔軟，磨漿過(guò)程中纖維的切斷現(xiàn)象減少，而分絲帚化增加，纖維之間的結(jié)合更加緊密[11，22］。

3 結(jié)論

本文研究了工業(yè)級(jí)MgO研磨濃度、研磨轉(zhuǎn)速、研磨時(shí)間、研磨介質(zhì)對(duì)MgO粒徑及化學(xué)反應(yīng)活性的影響，以及研磨MgO在楊木CTMP堿性H2O2漂白中的應(yīng)用。

3.1 隨著研磨濃度的增加，MgO的粒徑先減小后增大，化學(xué)反應(yīng)活性先增大后減小，在研磨濃度為10%時(shí)MgO粒徑最小、化學(xué)反應(yīng)活性最大;研磨轉(zhuǎn)速的增加使MgO的粒徑減小、化學(xué)反應(yīng)活性增加，并在研磨轉(zhuǎn)速增加到500 r/min后趨于穩(wěn)定。

3.2 隨著研磨時(shí)間的增加，MgO的粒徑逐漸減小，超過(guò)40 min后粒徑趨于穩(wěn)定;以自來(lái)水和去離子水為研磨介質(zhì)時(shí)，MgO的化學(xué)反應(yīng)活性先增大后減小，并在研磨40 min時(shí)達(dá)到最大值;以無(wú)水乙醇為研磨介質(zhì)時(shí)，MgO的化學(xué)反應(yīng)活性隨著研磨時(shí)間的延長(zhǎng)不斷增大。

3.3 以去離子水、自來(lái)水和無(wú)水乙醇為研磨介質(zhì)所得到的MgO粒徑相差不大，烘干后比烘干前的MgO粒徑稍高;以自來(lái)水為研磨介質(zhì)得到的MgO的化學(xué)反應(yīng)活性比去離子水的略低。

3.4 工業(yè)級(jí)MgO進(jìn)行研磨后，替代25%(摩爾分?jǐn)?shù))NaOH，對(duì)楊木CTMP進(jìn)行H2O2漂白。在研磨濃度10%、研磨轉(zhuǎn)速500 r/min條件下，隨著MgO研磨時(shí)間的增加，漂后漿料的白度和光散射系數(shù)、松厚度減小，抗張指數(shù)和耐破指數(shù)增大。當(dāng)研磨時(shí)間為40 min，研磨介質(zhì)分別為去離子水、自來(lái)水和無(wú)水乙醇時(shí)，與使用未研磨MgO相比，相應(yīng)的漂后漿料的白度下降了約2個(gè)百分點(diǎn)，松厚度分別下降了11.4%、12.2%和11.0%，抗張指數(shù)增加了14.6%、9.21%和6.67%，耐破指數(shù)增加了27.0%、20.2%和20.2%。

[1]ZHOU Ya-jun，YUAN Zhi-run，JIANG Zhi-hua.Overview of the Characteristics，Properties and Applications of High-yield Pulps[J］.World Pulp and Paper，2007，26(1):1.周亞軍，袁志潤(rùn)，江智華.高得率漿的特性與應(yīng)用[J］.國(guó)際造紙，2007，26(1):1.

[2]WANG Jing，ZHANG Mei-yun，WANG Jian.Performance and Application of BCTMP[J］.China Pulp ＆ Paper Industry，2009，30(6):87.王 靜，張美云，王 建.BCTMP漿料的性能及應(yīng)用[J］.中華紙業(yè)，2009，30(6):87.

[3]DAI Yun.Experience of Poplar BCTMP Production in Jilin Paper Mill[J］.China Pulp ＆ Paper，1993，12(6):3.戴 云.楊木 CTMP的生產(chǎn)實(shí)踐[J］.中國(guó)造紙，1993，12(6):3.

[4]LV Jian-ming，ZHANG Ju-xian.An Insight into the Behaviour of Aspen CTMP in Peroxide Bleaching[J］.World Pulp and Paper，2002，21(4):20.呂建明，張菊先.楊木CTMP H2O2漂白的特性的研究[J］.國(guó)際造紙，2002，21(4):20.

[5]CHI Cong-cong，ZHANG Zeng，HUANG Gan-qiang.Replacement of Sodium-based PeroxideBleachingbyMagnesium-based Peroxide Bleaching for High Yield Pulp[J］.China Pulp ＆ Paper，2006，25(10):47.遲聰聰，張 曾，黃干強(qiáng).用鎂堿代替鈉堿的高得率漿H2O2漂白[J］.中國(guó)造紙，2006，25(10):47.

[6]He Z，Ni Y，Zhang E.Further Understanding on the Cationic Demand of Dissolved Substances during Peroxide Bleaching of a Spruce TMP[J］.Journal of Wood Chemistry and Technology，2005，24(2):153.

[7]He Z，Wekesa M，Ni Y.Pulp Properties and Effluent Characteristics from the Mg(OH)2-based Peroxide Bleaching Process[J］.TAPPI Journal，2004，3(12):27.

[8]CHI Cong-cong，ZHANG Zeng.Effect of the Substitution of Magnesium Hydroxide for Sodium Hydroxide on the Peroxide Bleaching of CTMP[J］.China Pulp ＆ Paper，2007，26(8):10.遲聰聰，張 曾.Mg(OH)2對(duì)松木CTMP H2O2漂白的影響[J］.中國(guó)造紙，2007，26(8):10.

[9]Li Z，Court G，Belliveau R，et al.Using Magnesium Hydroxide(Mg(OH)2)as the Alkali Source in Peroxide Bleaching at Irving Paper[J］.Pulp ＆ Paper Canada，2005，106(6):24.

[10]Soteland N，Omholt I.Magnesium BCTMP[C］//Proceedings of TAPPI Pulping Conference，F(xiàn)lorida，1991.

[11]Zhang J H，Liu W，Han S，et al.Effect of Industrial Grade MgO with Different Particle Sizes on the Bleaching of Poplar Chemi-Thermomechanical Pulp[J］.Industrial＆ Engineering Chemistry Research，2013，52(23):7645.

[12]HUANG Xi-ping，ZHANG Qi，GUO Shu-yuan，et al.The Present State and Future Outlook of the Exploitation＆Utilization of Magnesium Resource in Sea Waterand Brine about Our Country[J］.Sealake Salt and Chemical Industry，2004，33(6):1.黃西平，張 琦，郭淑元，等.我國(guó)鎂資源利用現(xiàn)狀及開(kāi)發(fā)前景[J］.海湖鹽與化工，2004，33(6):1.

[13]XU Li-jun，YU Ting-fang，YU Yin-ting，et al.The research and development of magnesia from sea water and brine in China[J］.Sea-lake Salt and Chemical Industry，1999，28(1):16.徐麗君，于廷芳，于銀亭，等.關(guān)于我國(guó)海水(含鹵水)鎂砂的研究與開(kāi)發(fā)[J］.海湖鹽與化工，1999，28(1):16.

[14]Han S，Liu W，Wu S S，et al.Investigation on the Application of Industrial Grade MgO in the Alkaline Peroxide Bleaching of Poplar CTMP[J］.Journal of Industrial and Engineering Chemistry，2015，21:121.

[15]SUN Wen-hua，CUI Chong，ZHANG Hong-hua，et al.Relationship between Crystalline Size and Lattice Distortion of MgO and Its Activity[J］.Journal of Wuhan University of Technology，1991，13(4):21.孫文華，崔 崇，張宏華，等.MgO的晶粒大小和晶格畸變與水化活性的關(guān)系[J］.武漢工業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào)，1991，13(4):21.

[16]XIE Shi-xiang，CHEN Chuan-hui，ZHAN Lin-jin，et al.Research on Wet Preparation of Surperfine Zinc Oxide Powder by Sand Mill[J］.Inorganic Chemicals Industry，2011，43(9):23.謝世翔，陳川輝，張林進(jìn)，等.砂磨機(jī)濕法粉磨制備超細(xì)氧化鋅粉體的研究[J］.無(wú)機(jī)鹽工業(yè)，2011，43(9):23.

[17]FANG Jiang-qiang，ZHANG Lin-jin，ZHANG Fang-shu，et al.Research on Wet Preparation of ZnO Surperfine Powder and Grinding Kinetics in Strried Mill[J］.Bulletin of the Chinese Ceramic Society，2011，43(9):23.方建強(qiáng)，張林進(jìn)，張方舒，等.攪拌磨濕法粉磨制備超細(xì)ZnO及動(dòng)力學(xué)研究[J］.硅酸鹽通報(bào)，2011，43(9):23.

[18]CHEN Ding，CHEN Zhen-hua.Mechanochemical Process[M］.Beijing:Chemical Industry Press，2008.陳 鼎，陳振華.機(jī)械力化學(xué)[M］.北京:化學(xué)工業(yè)出版社，2008.

[19]TANG Xiao-li，LIU Chang-sheng.Activity of Dead-burned Magnesia[J］.Journal of East China University of Science and Technology，2001，27(2):157.唐小麗，劉昌勝.重?zé)齅gO粉活性的測(cè)定[J］.華東理工大學(xué)學(xué)報(bào)，2001，27(2):157.

[20]LU Xiao-lin，GAO Pei-wei.Hydration Activity of MgO Through Liquid Conductivity[J］.Journal of Nanjing University of Aeronautics ＆Astronautics，2008，40(3):404.盧小琳，高培偉.用液相電導(dǎo)法研究MgO的水化活性[J］.南京航空航天大學(xué)報(bào)，2008，40(3):404.

[21]Ghosh A，Ni Y.Metal Ion Complexes and Their Relationship to Pulp Brightness[J］.Journal of Pulp and Paper Science，1998，24(1):26.

[22]XU Ning-pan，LIU Wei，HOU Qing-xi，et al.Effect of Partially Substituting MgO for NaOH on the Properties of DCS and Pulp in the Peroxide Bleaching of Poplar CTMP[J］.China Pulp ＆ Paper，2015，34(7):6.徐寧攀，劉 葦，侯慶喜，等.MgO部分替代NaOH對(duì)楊木CTMP過(guò)氧化氫漂白的影響[J］.中國(guó)造紙，2015，34(7):6.