摘 要 透明氮氧化鋁(AlON)陶瓷具有優(yōu)異的光學(xué)、力學(xué)、熱學(xué)綜合性能,在國(guó)防和商業(yè)眾多領(lǐng)域內(nèi)具有廣闊的應(yīng)用前景。本文對(duì)AlON陶瓷的性能、合成方法和制備工藝、應(yīng)用等方面的研究進(jìn)展進(jìn)行了綜述,并對(duì)其未來的研究發(fā)展方向進(jìn)行了展望。
關(guān)鍵詞 氮氧化鋁(AlON);透明陶瓷;制備進(jìn)展;
0 引 言
氮氧化鋁(γ-AlON,簡(jiǎn)稱AlON)是一種透明多晶陶瓷,它是一種全新的多晶紅外材料,在可見光至中紅外具有高的光學(xué)透過性能[1]。它最大的優(yōu)點(diǎn)是具有光學(xué)各向同性,且在中紅外波段具有良好的透光率(在波長(zhǎng)0.2 ~6.0 μm范圍內(nèi)透光率80%以上),且具有良好的物理、機(jī)械和化學(xué)性質(zhì),因而透明AlON陶瓷是導(dǎo)彈整流罩、紅外窗口材料和防彈裝甲材料的優(yōu)選材料[2-3]?;贏lON陶瓷在軍事領(lǐng)域及商業(yè)領(lǐng)域中巨大的應(yīng)用前景,AlON陶瓷材料開發(fā)研究已成為透明陶瓷材料研究開發(fā)的熱點(diǎn)之一,美國(guó)已將AlON多晶陶瓷列為二十一世紀(jì)重點(diǎn)發(fā)展的光功能透明材料之一。
1 AlON陶瓷的性能
AlON、藍(lán)寶石(sapphire)和尖晶石(MgAl2O4)三種常用的中紅外材料的性能對(duì)比如表1所示,可以看出,AlON陶瓷的光學(xué)性能與藍(lán)寶石、尖晶石、氧化釔相當(dāng)(中紅外透光率>80%),而抗彎強(qiáng)度與藍(lán)寶石接近(300MPa),明顯高于尖晶石(190MPa)和氧化釔(160MPa)。由于藍(lán)寶石單晶窗口材料的制備成本非常高,且大尺寸很難制備,而AlON陶瓷則可以通過先進(jìn)陶瓷制備方法實(shí)現(xiàn)大尺寸及復(fù)雜樣品的制備,并具有光學(xué)各向同性的優(yōu)點(diǎn),因此AlON陶瓷已成為高性能雙模天線罩和中紅外窗口的首選材料。
劑通常有C、Al、NH3和H2,而Al2O3碳熱還原氮化法制備AlON粉末是一種最常用方法,其化學(xué)反應(yīng)式如式(2)所示:
Al2O3(s)+C(s)+N2→AlON(s)+CO (2)
Zheng J[6]和Maguire[7]選用合適的氧化鋁與碳的配比,通過兩步法升溫合成了純相AlON粉體。李亞偉等人[8]采用不同類型的鋁源和同一種炭黑進(jìn)行碳熱還原反應(yīng),實(shí)驗(yàn)表明其他不同鋁源的反應(yīng)活性均比α-Al2O3高,原因是這些鋁源先轉(zhuǎn)化為反應(yīng)活性較高的γ-Al2O3,與Zheng J.等人得出相同的結(jié)論。
高溫固相反應(yīng)法的最大優(yōu)點(diǎn)是原料容易獲得,工藝簡(jiǎn)單易行,適于規(guī)模生產(chǎn)。氧化鋁還原氮化法制備AlON陶瓷的原料成本低,適合工業(yè)化生產(chǎn),制備工藝較復(fù)雜,但制備的陶瓷透光率較好。
2.2 AlON陶瓷的制備工藝進(jìn)展
AlON陶瓷主要有無壓燒結(jié)法、熱壓法以及最新出現(xiàn)的放電等離子燒結(jié)法、微波燒結(jié)法等。
2.2.1 無壓燒結(jié)
無壓燒結(jié)是制備透明陶瓷的傳統(tǒng)方法,可以低成本大量生產(chǎn)各種尺寸和形狀的產(chǎn)品,是目前AlON陶瓷研究最多的制備方法。美國(guó)Raytheon公司的Hartnett等人[9]首先在1 900~2 140 ℃無壓燒結(jié)24~48h后得到了理論密度為99%、在4μm波長(zhǎng)處光學(xué)透過率達(dá)80%(1.45mm厚)的透明AlON陶瓷。上海硅酸鹽研究所的JIN[10]等人以氧化鋁和尿素甲醛樹脂為原料,采用碳熱還原工藝和無壓燒結(jié),制備了平均透光率大于80%(1mm)的AlON陶瓷。WANG[11]研究了Y2O3、La2O3共摻對(duì)無壓燒結(jié)制備AlON透明陶瓷的影響,制備了透光率80.3%的AlON透明陶瓷。上海玻璃鋼研究院有限公司與上海大學(xué)開展合作研究[12],通過碳熱還原法合成AlON粉體,經(jīng)1 875 ℃×24h條件下無壓燒結(jié)制備了在1 000~5 000nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)的直線透過率在80%左右,在3.93μm波長(zhǎng)處光學(xué)透過率最高可達(dá)83.7%的AlON陶瓷(圖1)。
2.2.2 熱壓燒結(jié)
熱壓燒結(jié)是指在燒結(jié)過程中施加一定的壓力,使材料致密化的燒結(jié)工藝,適合制備簡(jiǎn)單形狀的產(chǎn)品。Hartnett[13]、王習(xí)東[14]、田庭燕[15]等人利用熱壓燒結(jié)工藝,制備了AlON陶瓷。其中田庭燕等人以碳熱還原法制得的氮氧化鋁粉體為原料,采用熱壓燒結(jié)法在1 850~1 950℃和15~25MPa下制備了3mm 厚AlON透明陶瓷樣品的紅外透過率達(dá)81.3%。
2.2.3 微波燒結(jié)
微波燒結(jié)(Microwave Sintering)是一種材料燒結(jié)工藝的新方法,可以實(shí)現(xiàn)材料整體加熱來實(shí)現(xiàn)陶瓷的燒結(jié)。Cheng等人[16, 17]以高純A12O3和AlN粉為原料,利用微波燒結(jié)在1 800℃保溫60min燒結(jié)得到了99.4%理論密度的AlON透明陶瓷,其最高透光率達(dá)到60%(0.6 mm厚)。
2.2.4放電等離子燒結(jié)
放電等離子燒結(jié)方法(SPS, Spark Plasma Sintering)采用脈沖電流加熱,可以實(shí)現(xiàn)快速升溫和陶瓷短時(shí)間燒結(jié)。Sahin等人[18]報(bào)道了以Al2O3和AlN的混合粉為前驅(qū)體粉,通過在1 650 ℃和40MPa下SPS燒結(jié)30min合成了AlON陶瓷。武漢理工大學(xué)的魏巍[19]采用Al2O3和AlN按一定比例球磨混合,在1 700 ℃下保溫一定時(shí)間,制備了最高透過為75.2%的透明AlON陶瓷樣品。
綜上所述,可以看出,熱壓燒結(jié)制備的陶瓷可獲得較高透光性,但是由于工藝特點(diǎn)的限制難以制備復(fù)雜形狀的樣品,而微波燒結(jié)和等離子體快速燒結(jié)難以制備高透光性的AlON陶瓷。無壓燒結(jié)可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜形狀和高透光性陶瓷的制備,是實(shí)現(xiàn)AlON透明陶瓷應(yīng)用的重要制備方法。
3 AlON陶瓷的發(fā)展及我國(guó)急需取得的突破
美國(guó)Raytheon公司從20世紀(jì)70年代就開始透明AlON材料的研究,80年代初至90年代中期,通過對(duì)制粉、成型、燒結(jié)等工藝的不斷研究,取得了重大突破,其材料及罩體的制備工藝技術(shù)已經(jīng)基本成熟。2002年Raytheon公司授權(quán)Surmet公司生產(chǎn)透明AlON陶瓷產(chǎn)品(牌號(hào)為ALON),用于國(guó)防和商業(yè)用途[20]。美國(guó)在透明AlON陶瓷材料的制備上現(xiàn)在已具有很高的水平。
國(guó)內(nèi)從事AlON陶瓷研究的單位較少,起步也比較晚,研究仍然處于較低的水平,目前主要停留在實(shí)驗(yàn)室階段,在進(jìn)行推向?qū)嵱没膰L試。總體而言,與國(guó)外AlON陶瓷的研究和應(yīng)用水平相比,我國(guó)尚存在較大的差距。國(guó)內(nèi)急需解決低成本、高透光性能、大尺寸AlON陶瓷材料和紅外/毫米波天線罩頭罩的研發(fā),滿足國(guó)防現(xiàn)代化建設(shè)和商業(yè)應(yīng)用的需要。所以,我國(guó)急需在以下幾個(gè)方面開展AlON陶瓷制備的深入研究并取得突破,以實(shí)現(xiàn)AlON陶瓷的工業(yè)化制備。
(1)高純、超細(xì)、單相的γ-AlON粉體是制備具有良好透光性的AlON透明陶瓷的基礎(chǔ),因此,需開發(fā)出高純、超細(xì)、單相的γ-AlON粉體的合成制備方法;
(2)研究AlON陶瓷合成的熱力學(xué)條件、燒結(jié)機(jī)理,為高性價(jià)比的透明AlON陶瓷的制備提供理論支持和指導(dǎo);
(3)研究低成本、高性能的AlON粉體的制備工藝,降低透明AlON陶瓷燒結(jié)溫度,實(shí)現(xiàn)AlON陶瓷的低成本工業(yè)化制備技術(shù)。
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