(第二炮兵工程大學(xué) 西安 710025)
兼容隱身是當(dāng)今導(dǎo)彈突防和生存的重中之重,而當(dāng)前主要的探測手段為紅外探測和激光探測,所以紅外及激光的兼容隱身是導(dǎo)彈突防的關(guān)鍵。1897年,由Yabnolovitch[1]和John[2]分別獨立提出的光子晶體概念,光子晶體具有光子帶隙[3]和光子局域[4]特性。當(dāng)入射光的頻率落在帶隙內(nèi)時會因干涉,無法在其中傳播。特別是具有完全帶隙結(jié)構(gòu)的光子晶體,所有方向的入射都會被全反射。此外,在光子晶體的周期性或?qū)ΨQ結(jié)構(gòu)中引入缺陷,使得周期性或者對稱結(jié)構(gòu)被破壞時,在其光子帶隙中就會出現(xiàn)頻率極窄的缺陷態(tài)。與缺陷態(tài)頻率一致的光子就會被禁錮在缺陷附近,一旦離開缺陷位置,輻射就會被帶隙抑制。利用光子晶體材料的帶隙特性和局域特性可以實現(xiàn)多波段兼容隱身,其中最重要的是紅外與激光的兼容隱身。紅外與激光兼容隱身是目前世界上尚未得到很好解決的難題,而利用光子晶體的特性有望解決這一問題。
但是目前只是研究電磁波正入射時的情況,而對于其他角度入射時的情況并沒有考慮,與實際情況相差較大。根據(jù)對光子晶體特性的研究和計算發(fā)現(xiàn),隨著入射角度的增大缺陷模的位置也會發(fā)生變化,光譜挖孔效果會逐漸消失,這就對實現(xiàn)完全兼容隱身造成了很大的困難。
本文將利用傳輸矩陣的方法來討論研究兩種單負(fù)材料組成的一維周期性光子晶體的透射譜。通過數(shù)學(xué)建模的方法,引入一維摻雜的光子晶體,觀察缺陷模頻率與缺陷層厚度和入射角的關(guān)系。在此基礎(chǔ)上,最后研究近紅外與激光波段的光譜挖孔特性,并通過異質(zhì)結(jié)拼接的方法來實現(xiàn)近紅外全波段兼容,以解決上述問題。
圖1 一維單負(fù)光子晶體濾波器模型(AB)NC(AB)N
考慮由圖1所示的一維單負(fù)光子晶體濾波器模型(AB)NC(BA)N,不妨令A(yù)為ENG 材料,層厚為d1;B為MNG 材料,層厚為d2;N是晶體周期數(shù),缺陷層C是普通介質(zhì),折射率為n,厚度為d[5]。單負(fù)材料ENG 和MNG 的物質(zhì)參數(shù)取為
根據(jù)文獻[6],可設(shè)定εa=μb=1,μa=εb=3,ωεp和ωmp表示介電材料和磁導(dǎo)材料的等離子共振頻率,都為10GHz,這些色散特性利用周期性的LC 傳輸線很容易實現(xiàn)[6]。角頻率的單位也是GHz。
當(dāng)電磁波入射到光子晶體上時,每一層介質(zhì)j的傳輸矩陣Mj可用下式表示[8]:
式中,kzj=(單負(fù)材料)或kzj=(普通介質(zhì)),θ是入射角,εj、是介質(zhì)層j的相對介電常數(shù)和相對磁導(dǎo)率。有效導(dǎo)納的表達(dá)式為(TE)或晶體外側(cè)空氣介質(zhì)的導(dǎo)納為η0。
整個光子晶體的總傳輸矩陣為
光子晶體的透射率為
反射率為
不同缺陷層厚度對局域模的影響(TE模)
根據(jù)文獻[7],一維單負(fù)光子晶體的帶隙為零有效相位帶隙,其大小與A和B兩種材料的厚度成正比,不妨令A(yù)和B的厚度分別為4mm 和16mm,周期N為5,下面討論下不同缺陷層厚度時對應(yīng)的光子晶體(AB)5C(AB)5濾波特性。
在一維單負(fù)光子晶體中引入缺陷摻雜,可以在帶隙中出現(xiàn)局域模。對于含缺陷的一維單負(fù)光子晶體(AB)5C(AB)5,垂直入射時(θ=0°)的透射譜如圖2所示。數(shù)值模擬時A、B層的厚度分別為d1=4mm,d2=16mm,缺陷層C為空氣,n=1,厚度d取0mm、50mm、100mm、150mm。從圖2可以發(fā)現(xiàn),隨著缺陷層厚度的增加,在帶隙(2.8GHz~7.5GHz)出現(xiàn)局域模,從高頻向低頻移動,即紅移,這一移動規(guī)律和普通光子晶體局域模的變化一致[8]。
下面研究周期數(shù)改變時對全角度單頻濾波特性的影響。取介質(zhì)層A、B的光學(xué)厚度分別為d1=4mm,d2=16mm,缺陷層C的厚度d=50mm。在正入射(θ=0°)情況下,由傳輸矩陣法計算得到(AB)NC(AB)N結(jié)構(gòu)在不同周期數(shù)下的透射譜如圖3所示。
由圖3可知,在正入射(θ=0°)的情況下,缺陷模隨著周期數(shù)N的增加(1~8),從無到有,并且缺陷模的位置越來越精確。圖4~圖6所示為N=3、N=6、N=8時缺陷光子晶體(AB)NC(AB)N對局域模的不同影響。
由圖4~圖6可知,當(dāng)N=3時,透射頻率的寬度太大,透射不是非常精確。當(dāng)N=6 時,雖然透射頻率非常精確并且透射率也不是很低,但是到70°時就衰減沒了。當(dāng)N=8時,透射率已經(jīng)非常低了,并且到50°的時基本衰減到0了。所以選用了周期數(shù)N=5來作為討論的模型。
圖3 缺陷光子晶體(AB)NC(AB)N 不同的周期數(shù)對局域模的影響(一維)
圖4 缺陷光子晶體(AB)NC(AB)N
圖5 缺陷光子晶體(AB)NC(AB)N
圖6 缺陷光子晶體(AB)NC(AB)N
基于上述的研究結(jié)果,探討一下在全角度單頻率條件下實現(xiàn)激光/紅外兼容隱身的可能性。根據(jù)光子晶體的縮放規(guī)律,可以將式(1)中的電等離子體共振頻率和磁等離子體共振頻率分別設(shè)為ωεp=ωmp=9×1013Hz(針對10.6μm 激光進行縮放)或ωεp=ωmp=9×1015Hz(針對1.06μm 激光進行縮放),εa=μb=1,εb=μa=3。因此,只要入射光的角頻率小于等離子體共振頻率,就可以出現(xiàn)單負(fù)材料特征。
取介質(zhì)層A、B的光學(xué)厚度分別為d1=15nm,d2=60nm,缺陷層C的厚度d=187.5nm,由傳輸矩陣算法計算得到(AB)5C(AB)5結(jié)構(gòu)在0°、30°、45°、75°下透射譜如圖7所示。
由圖7可以看出,當(dāng)(AB)5C(AB)5結(jié)構(gòu)單負(fù)光子晶體TE模在入射角變化的情況下,缺陷模位置穩(wěn)定在1.06μm 處,而當(dāng)入射角度為60°時,缺陷模透射率接近百分之百。而當(dāng)缺陷模位于10.6μm處時,入射角對缺陷模的影響與1.06μm 處相似,如圖8所示。
從圖8可以更直觀的看到缺陷模一直保持在10.6μm 沒有改變,缺陷模透射率隨著角度的不同不斷變化,在入射角度為60°時達(dá)到峰值,而帶隙寬度隨著角度的增大略微縮小。其中缺陷層的厚度d=187.5nm 是由計算獲得,就像4.1 節(jié)的d=50mm 一樣,當(dāng)d=187.5nm 時,中心波長λ0不會隨著入射角的變化而發(fā)生移動[9]。
這樣就實現(xiàn)了在軍用激光探測波長1.06μm和10.6μm 的全向兼容隱身,符合實際戰(zhàn)場環(huán)境的戰(zhàn)術(shù)指標(biāo)。
圖7 (AB)5 C(AB)5結(jié)構(gòu)單負(fù)材料光子晶體在λ0=1.06μm,入射角分別在0°、30°、45°、75°下透射譜
圖8 (AB)5 C(AB)5結(jié)構(gòu)單負(fù)材料光子晶體在λ0=10.6μm,入射角分別在0°、30°、45°、75°下透射譜
本文以GHz波段的實際單負(fù)材料為例,系統(tǒng)地研究了一維摻雜單負(fù)光子晶體(AB)NC(AB)N(其中A為電單負(fù)材料,B為磁單負(fù)材料,C為摻雜材料)的缺陷模特性,并在此基礎(chǔ)上發(fā)展了激光/紅外的全向兼容隱身技術(shù)。以GHz波段的實際單負(fù)材料為例,對于一維摻雜單負(fù)光子晶體(AB)NC(AB)N,若固定A、B兩種單負(fù)材料的厚度比為4∶1,當(dāng)TE偏振光正入射時,一維摻雜單負(fù)光子晶體(AB)NC(AB)N的缺陷模位置會隨著缺陷層C厚度的變化而變化,當(dāng)入射角變化時,缺陷模位置會隨著入射角增大而出現(xiàn)紅移。而當(dāng)且僅當(dāng)缺陷層厚度與B材料的厚度比為12.5∶1時,缺陷模的位置不會隨著入射角變化而變化,即出現(xiàn)了全角度單頻濾波現(xiàn)象。這一特殊的現(xiàn)象來自于一維摻雜單負(fù)光子晶體特殊的共振隧穿效應(yīng),不同于常規(guī)光子晶體中的光子局域化效應(yīng)。為了得到最佳的全角度單頻濾波,分別改變了一維摻雜單負(fù)光子晶體的周期,結(jié)果表明,當(dāng)周期N為5 時,全角度單頻濾波的性能最優(yōu)。并通過仿真以優(yōu)化的一維單負(fù)光子晶體材料分別實現(xiàn)了1.06μm 和10.6μm 波長處的“光譜挖孔”。
雖然設(shè)計出滿足1.06μm 和10.6μm 處的“光譜挖孔”,但實際情況下并不存在帶隙寬度涵蓋1.06μm和10.6μm 波長的一維單負(fù)光子晶體材料,所以要實現(xiàn)1.06μm 和10.6μm 的紅外/激光全向兼容隱身就必須將帶寬拓展。相信隨著研究的深入和科技的進步,帶隙寬度滿足1.06μm~10.6μm 的一維單負(fù)光子晶體材料會被研制得出,使激光/紅外的全向兼容隱身得到滿足。
[1]Yablonovitch E.Inhibited spontaneous emission in sol2 id2state physics and electronics[J].Phys Rev Lett,1987,58:2059-2062.
[2]JOHN S.Strong localization of photons in certain disordered dielectric super lattices[J].Phys Rev Lett,1987,58:2486-2489.
[3]Sudesh Kumar Singh,Janardan Prasad Pandey,Thapa Khem B,et al.Some new band gaps and defect modes of 1Dphotonic crystals composed of metamaterials[J].Solid State Communications,2007,143:217-222.
[4]John S.Localization of Light[J].Physics Today,1991,44(5):32-40.
[5]Wang L G,Chen H,Zhu S Y.Omni-directional gap and defect mode of one-dimensional photonic crystals with single-negative materials[J].Phys Rev B,2004,70(24):245102.
[6]Eleftheriades G V,Iyer A K,Kremer P C.Planar negative refractive index media using periodically L—C loaded Transmission lines[J].IEEE Trans Microwave Theory Tech,2002,50(12):2702-2712.
[7]唐麗,陳憲鋒,沈小明,等.含單負(fù)或雙負(fù)介質(zhì)光子晶體的傳輸矩陣和色散關(guān)系[J].江蘇工業(yè)學(xué)院學(xué)報,2007,19(1):33-36.
[8]Fang Y D,Shen Y G,Lin G H.Photo wave propagation in one-dimension random photonic crystal[J].Laser Technology,2004,28(2):153-155.
[9]王同標(biāo),劉念華.正負(fù)折射率材料組成的一維光子晶體的能帶及電場[J].物理學(xué)報,2007,56(10):5878-5882.
[10]Liang H,Chen-Ying Y,Wei-Dong S,et al.Design of incident angle-independent color filter based on subwavelength two-dimensional gratings[J].Acta Phys.Sin,2012.