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      太陽能單晶硅位錯(cuò)的返切辦法

      2014-10-21 20:06:36方麗霞張學(xué)強(qiáng)
      中國(guó)機(jī)械 2014年24期
      關(guān)鍵詞:樣塊單晶硅尾部

      方麗霞 張學(xué)強(qiáng)

      摘要:根據(jù)太陽能單晶硅位錯(cuò)密度<3000個(gè)/cm2的取樣方法及位錯(cuò)遷移理論,經(jīng)過實(shí)驗(yàn)分析,建立了一套太陽能單晶硅的位錯(cuò)返切方法。

      關(guān)鍵詞:位錯(cuò)密度;位錯(cuò)返切

      前言

      太陽能單晶硅是光伏發(fā)電的主要材料,其位錯(cuò)密度是影響光伏發(fā)電效率的重要因素,本文對(duì)其位錯(cuò)密度的返切方法進(jìn)行研究。

      1.實(shí)驗(yàn)部分

      1.1實(shí)驗(yàn)依據(jù)

      1.1.1太陽能單晶硅位錯(cuò)密度<3000個(gè)/cm2計(jì)數(shù)標(biāo)準(zhǔn)選用九點(diǎn)計(jì)數(shù)法,選點(diǎn)位置:以硅方片為準(zhǔn)選點(diǎn):四棱線邊緣9.8mm處選四點(diǎn),對(duì)邊中點(diǎn)處距邊緣8.3mm處選四點(diǎn),連接八點(diǎn)所形成的區(qū)域內(nèi)缺陷最密集處選一點(diǎn)。

      1.1.2位錯(cuò)遷移理論:?jiǎn)尉Ч璋衾坪?,由于熱?yīng)力作用,尾部會(huì)產(chǎn)生大量位錯(cuò),沿著單晶向上延伸,延伸的長(zhǎng)度約等于單晶尾部的直徑。

      2.實(shí)驗(yàn)

      根據(jù)位錯(cuò)遷移理論分別將太陽能單晶硅掉苞棒返切130mm、120mm、110mm,以其位錯(cuò)密度<3000個(gè)/cm2計(jì)數(shù)標(biāo)準(zhǔn)選用九點(diǎn)計(jì)數(shù)法。

      將單晶掉苞棒返切130mm統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)見表一:

      將單晶掉苞棒返切120mm統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)見表二:

      將單晶掉苞棒返切110mm,統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)見表三:

      3.數(shù)據(jù)分析

      3.1數(shù)據(jù)分析

      返切130mm數(shù)據(jù):平均值ρ1為0.46×103個(gè)/cm2,分布在區(qū)間(0.16,0.76)的置信度為95%。

      返切120mm數(shù)據(jù):平均值ρ2為0.97×103個(gè)/cm2,分布在區(qū)間(0.48,1.47)的置信度為95%。

      返切110mm數(shù)據(jù):平均值ρ3為2.03×103個(gè)/cm2,分布在區(qū)間(1.63,2.43)的置信度為95%。

      3.2位錯(cuò)密度分布規(guī)律

      通過1中數(shù)據(jù)可以看出:ρ2 =2ρ1,ρ3=2ρ2,

      ρ1、ρ2、ρ3,成公比q為2的等比數(shù)列。

      由此可得:ρn= ρ1,而ρ1=0.5×103個(gè)/cm2,n= 。

      L:掉苞單晶位錯(cuò)樣塊距尾部距離。

      對(duì)于單晶掉苞棒,從返切130mm(位錯(cuò)密度為0.5×103個(gè)/cm2)開始,每向尾部返切10mm取位錯(cuò)樣塊,其位錯(cuò)密度為前一位錯(cuò)密度的兩倍。 (規(guī)律一)

      3.3規(guī)律的應(yīng)用

      將單晶掉苞棒返切105mm,平均值ρ為3.46×103個(gè)/cm2,分布在區(qū)間(1.98,4.94)的置信度為95%。進(jìn)一步論證了規(guī)律一的準(zhǔn)確性。

      4.結(jié)語

      太陽能單晶硅位錯(cuò)的返切辦法:對(duì)于太陽能單晶掉苞棒,從返切130mm(位錯(cuò)密度為0.5×103個(gè)/cm2)開始,每向尾部返切10mm取位錯(cuò)樣塊,其位錯(cuò)密度為前一位錯(cuò)密度的兩倍。 利用此規(guī)律可以滿足太陽能單晶硅棒位錯(cuò)密度<3000個(gè)/cm2要求的返切長(zhǎng)度。

      參考文獻(xiàn):

      [1][英]B.Henderson著,范印哲譯.晶體缺陷.1983

      [2]硅單晶制備工藝.河北工學(xué)院編.1975

      [3]科垂耳著,葛庭燧譯.晶體中的位錯(cuò)和范性流變 A.H.1962.

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