霍尼韋爾推出新型半導(dǎo)體銅錳濺射靶材

霍尼韋爾推出新型半導(dǎo)體銅錳濺射靶材

霍尼韋爾宣布推出新型銅錳濺射靶材，其采用的專利技術(shù)能為半導(dǎo)體生產(chǎn)商帶來更高的靶材硬度、更長的使用壽命以及更卓越的性能表現(xiàn)。

新型靶材采用霍尼韋爾等徑角塑型(ECAE)專利技術(shù)，它是霍尼韋爾最初為鋁和鋁合金靶所研發(fā)的先進(jìn)生產(chǎn)工藝。

采用ECAE工藝生產(chǎn)的靶材擁有超細(xì)晶粒尺寸，確保高度均勻的材料結(jié)構(gòu)，更高的材質(zhì)硬度，更少的雜質(zhì)顆粒。普通標(biāo)準(zhǔn)靶材的晶粒尺寸一般在50至80微米之間，而新型ECAE銅錳合金靶則屬于亞微米尺寸。采用ECAE技術(shù)生產(chǎn)的超細(xì)晶粒尺寸能夠有效避免半導(dǎo)體生產(chǎn)商在采用普通帶背板設(shè)計(jì)靶材時(shí)會碰到的濺射電壓突然降低問題；該問題將造成尖端放電，形成雜質(zhì)粒子，影響晶圓質(zhì)量，最終導(dǎo)致晶圓報(bào)廢和替換新的靶材，從而引起不必要的高額成本。

增強(qiáng)的硬度允許靶材能夠采用一塊金屬進(jìn)行一體化設(shè)計(jì)，從而使靶材使用壽命延長了一倍，從原先的1800千瓦小時(shí)提升至3600千瓦小時(shí)。延長的使用壽命意味著生產(chǎn)商可以降低靶材的需求量，節(jié)省靶材更換以及機(jī)臺維護(hù)所需的時(shí)間和精力，所有這一切都有助于幫助半導(dǎo)體生產(chǎn)商降低整體生產(chǎn)成本。

霍尼韋爾電子材料隸屬于霍尼韋爾特性材料和技術(shù)集團(tuán)，主要生產(chǎn)微電子聚合物、電子化學(xué)品和其他先進(jìn)材料。同時(shí)，霍尼韋爾電子材料金屬業(yè)務(wù)還包括一系列廣泛產(chǎn)品，例如物理真空沉積靶材（PVD）和線圈組、貴金屬熱電偶以及半導(dǎo)體后端封裝中熱管理和電子互聯(lián)相關(guān)的低α粒子放射電鍍陽極、先進(jìn)散熱材料等等。

咨詢編號：2014071001