摘 要: 光學(xué)薄膜是現(xiàn)代光學(xué)儀器和光學(xué)器件的重要組成部分,它在各類光學(xué)系統(tǒng)中的應(yīng)用極為廣泛。傳統(tǒng)的光學(xué)薄膜是以光的干涉為基礎(chǔ),并以此設(shè)計(jì)和制備增透膜、高反膜、濾光膜、分光膜、偏振及消振膜。本文根據(jù)薄膜干涉的基本原理,闡述了半波損失的條件和薄膜厚度的選取。
關(guān)鍵詞: 光學(xué)薄膜 薄膜干涉 薄膜厚度
隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)特別是激光技術(shù)和信息光學(xué)的發(fā)展,光學(xué)薄膜不僅用于純光學(xué)器件,在光通訊、光電探測(cè)器、化學(xué)及生物傳感器、納米器件等領(lǐng)域也有廣泛的應(yīng)用。傳統(tǒng)的光學(xué)薄膜是以光的干涉為基礎(chǔ),并以此設(shè)計(jì)和制備增透膜、高反膜、濾光膜、分光膜等。薄膜的光學(xué)特性(折射率和厚度)是至關(guān)重要的參量。本文主要依據(jù)薄膜干涉的原理,根據(jù)不同的應(yīng)用要求,研究薄膜的光學(xué)性質(zhì)。
一、薄膜干涉的基本原理
光學(xué)薄膜是現(xiàn)代光學(xué)儀器和光學(xué)器件的重要組成部分,它通過在光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、光纖、晶體等各種材料的表面鍍制一層或多層薄膜,基于薄膜內(nèi)光的干涉效應(yīng)來改變透射光或反射光的強(qiáng)度、偏振狀態(tài)和相位變化。光學(xué)薄膜具有良好的牢固性和光學(xué)穩(wěn)定性,且質(zhì)量極輕,成本相對(duì)較低,因此光學(xué)薄膜在各類光學(xué)系統(tǒng)中應(yīng)用極為廣泛。薄膜干涉:一列光波照射到透明薄膜上,從膜的前、后表面分別被反射形成兩列相干光波,這兩列相干光波在疊加后產(chǎn)生干涉。對(duì)于前、后表面不平行的楔形薄膜來說,凡是薄膜厚度相等的一些相鄰位置,光的干涉效果相同而形成一條同種情況(譬如光振動(dòng)加強(qiáng))的干涉條紋(亮紋)。隨著薄膜厚度的逐漸變化,干涉效果出現(xiàn)周期性變化,一般在薄膜上形成明暗交替相間的干涉條紋圖樣,稱為等厚薄膜干涉。設(shè)基片的折射率為n■,介質(zhì)膜的折射率為n■,介質(zhì)膜上方空間的折射率為n■,n■>n■,CD⊥AD。(如左圖所示)
二、半波損失
設(shè)基片的折射率為n■,介質(zhì)膜的折射率為n■,介質(zhì)膜上方空間的折射率為n■(如右圖所示),取介質(zhì)膜的光學(xué)厚度n■·d=λ/4。
判斷有無半波損失,根據(jù)具體情況而定:
①當(dāng)n■ ③當(dāng)n■ 總之,當(dāng)(n■-n■)(n■-n■)>0時(shí)有增反作用,當(dāng)(n■-n■)(n■-n■)<0時(shí)有增透作用。 三、薄膜厚度的選取 以上的討論可以看出,由于太陽(yáng)光或燈光距介質(zhì)膜面無窮遠(yuǎn),因此光束照射介質(zhì)膜薄膜表面,幾乎為垂直入射,即i=0。當(dāng)用波長(zhǎng)為λ■的單色光垂直照明時(shí),為了讓薄膜的光學(xué)厚度達(dá)到所需要求,如當(dāng)n■ 參考文獻(xiàn): [1]丁相午.常用光學(xué)薄膜的應(yīng)用分析[J].機(jī)械管理開發(fā),2007,6,63-65. [2]M.波恩,E.沃耳夫著.楊霞蓀等譯校.光學(xué)原理上冊(cè)[M].北京:科學(xué)出版社,1978. [3]林永昌,盧維強(qiáng).光學(xué)薄膜原理[M].北京:國(guó)防工業(yè)出版社,1990. [4]梁銓廷.物理光學(xué)[M].北京:機(jī)械工業(yè)出版社,1987.