重慶西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓項(xiàng)目設(shè)計(jì)構(gòu)思

【摘 要】 本文主要對(duì)重慶西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓項(xiàng)目進(jìn)行相應(yīng)的介紹，闡述研發(fā)樓建筑設(shè)計(jì)中應(yīng)該注意的設(shè)計(jì)問題，同時(shí)在建筑設(shè)計(jì)中融入更加先進(jìn)的設(shè)計(jì)技術(shù)，為其他研發(fā)樓建筑設(shè)計(jì)方面的進(jìn)一步開展提供一些可行性的思路。

【關(guān)鍵詞】 重慶；西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)；研發(fā)樓項(xiàng)目；設(shè)計(jì)構(gòu)思

建筑作為一種塑造空間和圍合空間界面的古老學(xué)科，似乎先天地?fù)碛袑?duì)“形態(tài)”的敏感性。從建筑產(chǎn)生的那一刻起，伴隨著基本的使用功能，形態(tài)就成為建筑學(xué)科中重要的討論內(nèi)容。由于形態(tài)本身是由建筑使用功能、建造技術(shù)、文化意識(shí)等諸多因素決定的。因此建筑形態(tài)不是一個(gè)主觀的審美文化問題，而是一個(gè)技術(shù)與觀念交互影響的綜合問題?！敖?gòu)”與“形態(tài)”可以被概括為一組構(gòu)成建筑空間的基本問題。

一、西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓工程介紹

二、西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓設(shè)計(jì)構(gòu)思

1、總平面布置設(shè)計(jì)

西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓地理位置良好，基地位于中央景觀帶附近，在對(duì)研發(fā)樓項(xiàng)目進(jìn)行設(shè)計(jì)時(shí)，應(yīng)該充分的發(fā)揮出中央景觀帶的資源優(yōu)勢(shì)，最大限度的利用中央景觀帶資源，實(shí)現(xiàn)中央景觀帶與研發(fā)樓的和諧融洽。為此，努力打造綠色生態(tài)產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓辦公環(huán)境也就成為了我們進(jìn)行設(shè)計(jì)的重要原則。在對(duì)研發(fā)樓進(jìn)行設(shè)計(jì)時(shí)，秉承園區(qū)建筑的整體風(fēng)格，遵循園區(qū)整體規(guī)劃思想，努力將合院的母體形式作為研發(fā)樓設(shè)計(jì)中的重要起源。在總平面布置方面，合理的處理建筑布局，將園區(qū)研發(fā)樓建筑格局與周圍的環(huán)境相協(xié)調(diào)，嚴(yán)格遵循園區(qū)的規(guī)劃要求，采用合院式的平面布局形式。在設(shè)計(jì)中將主辦公單元安排在基地的西側(cè)和北側(cè)，基地的東南側(cè)由于空間較大，作為實(shí)驗(yàn)室基地。另外，豎向設(shè)計(jì)方面，產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓基地基本上較為平整，標(biāo)高290M，高差在2-3M之內(nèi)。場(chǎng)地標(biāo)高略微的高于園區(qū)道路標(biāo)高，這樣就為污水排放以及場(chǎng)地內(nèi)雨水的排放創(chuàng)造了便利的條件。

2、交通組織與綠化景觀設(shè)計(jì)

西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓設(shè)計(jì)應(yīng)該體現(xiàn)出人車分流以及道路系統(tǒng)簡(jiǎn)單明確的基本原則，努力實(shí)現(xiàn)園區(qū)道路以及城市干道的有效融合。研發(fā)樓的地下車庫出口和入口設(shè)置在西北角以及東南角，五所主要的辦公人流入口設(shè)計(jì)在北側(cè)，而其他的辦公人流入口設(shè)計(jì)在基地的西側(cè)，通過對(duì)地下車庫出入口以及辦公人流出入口進(jìn)行科學(xué)合理的設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)人車分流的目的，避免出現(xiàn)由于設(shè)計(jì)不合理而導(dǎo)致辦公流線以及行車流線的交叉，最大限度的滿足了園區(qū)的規(guī)劃要求。為了配合園區(qū)交通組織設(shè)計(jì)，還通過對(duì)于綠化景觀的設(shè)計(jì)，達(dá)到建筑設(shè)計(jì)與城市環(huán)境的有效融洽。首先，實(shí)現(xiàn)公共綠地、場(chǎng)地以及建筑的一體系化設(shè)計(jì)，將對(duì)于公共綠地的設(shè)計(jì)納入到建筑設(shè)計(jì)的規(guī)劃當(dāng)中。其次，在具體的設(shè)計(jì)變現(xiàn)手法上，實(shí)現(xiàn)建筑以及環(huán)境的一體化關(guān)系，讓環(huán)境更好地車托出建筑的主體之美，同時(shí)呼應(yīng)了建筑的處理手法。最后，在形態(tài)上，我們采用較為自然地表現(xiàn)手法，例如在綠化上加入植被、水面等提升自然品味的基本要素，形成與建筑形態(tài)、建構(gòu)相媲美的風(fēng)格。由于地塊北側(cè)緊鄰園區(qū)主干道，這里故建筑退紅線較多，因此，主干道兩側(cè)一次作為綠化景觀處理，另一側(cè)作為生態(tài)停車場(chǎng)，這種設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了培養(yǎng)庭院內(nèi)部環(huán)境以及阻擋噪音的雙重效果。

3、建筑平面設(shè)計(jì)

西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓建筑的主體主要包括兩大部分，一是EMC實(shí)驗(yàn)室和園區(qū)企業(yè)辦公、第五研究所辦公研發(fā)部分。為此，研發(fā)樓建筑在設(shè)計(jì)時(shí)，采用的是合院形式，這樣在功能上既可以實(shí)現(xiàn)有效的聯(lián)系，又可以實(shí)現(xiàn)兩者合理的分割。產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓主展區(qū)和商務(wù)洽談區(qū)位于一層，二樓以上主要是大型研發(fā)區(qū)、管理辦公區(qū)以及開敞式辦公區(qū)。研發(fā)內(nèi)部的連接形式往往多樣靈活，使得以后的研發(fā)區(qū)內(nèi)部功能延伸上更加具備可變性，同時(shí)在各層，還專門設(shè)置了會(huì)議室，研發(fā)樓頂層多大型會(huì)議室以及多媒體多功能廳，而在研發(fā)樓的負(fù)一層，主要是輔助用房以及地下車庫。

4、空間設(shè)計(jì)

5、 建筑立面和剖面設(shè)計(jì)

目前在現(xiàn)代建筑立面設(shè)計(jì)中，往往帶有裝飾性以及華而不實(shí)的形象，在對(duì)西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓立面進(jìn)行設(shè)計(jì)時(shí)，追求的則是簡(jiǎn)潔但又不失細(xì)部，變化但又不失穩(wěn)重的效果。在形體處理上往往追求嚴(yán)格的幾何對(duì)位關(guān)系，增強(qiáng)建筑的挺拔感以及建筑的虛實(shí)對(duì)比程度，進(jìn)一步達(dá)到功能與形式的統(tǒng)一。我們將混凝土板作為辦公建筑外觀的主要基調(diào)，通過對(duì)于空透變化的設(shè)計(jì)，進(jìn)一步增強(qiáng)了建筑可視面的靈動(dòng)性以及層次感。在灰面控制進(jìn)行反復(fù)對(duì)比的基礎(chǔ)上，我們嚴(yán)格把握立面構(gòu)圖的視覺沖擊，對(duì)于立面構(gòu)圖中的材料選定以及細(xì)節(jié)尺度都做了較為詳細(xì)的推敲，使得此建筑具有沉厚有力又不失現(xiàn)代氣息，反映出五所以及園區(qū)其他企業(yè)務(wù)實(shí)、創(chuàng)新的工作作風(fēng)。西永微電子產(chǎn)業(yè)園區(qū)研發(fā)樓夜景空間鳥瞰圖如下圖所示。

總結(jié)

建構(gòu)本就是詩意的建造，這種詩意建造的結(jié)果必然呈現(xiàn)出優(yōu)美的建筑形態(tài)。形態(tài)對(duì)建構(gòu)提出要求，建構(gòu)反過來又以物質(zhì)實(shí)體形式回饋形態(tài)。在建構(gòu)與形態(tài)復(fù)雜的交互關(guān)系中，合理的細(xì)部構(gòu)造設(shè)計(jì)才能對(duì)形態(tài)給予支持，達(dá)成預(yù)期的空間構(gòu)想。在這種態(tài)下，傳統(tǒng)的構(gòu)造方式需要進(jìn)行與之相對(duì)應(yīng)的改良，但這種改良的前提是尋找到建構(gòu)與形態(tài)的完美平衡點(diǎn)，即建筑受力、防水、保溫、隔熱、防火、安全等要求與藝術(shù)表現(xiàn)性的完美結(jié)合。建構(gòu)與形態(tài)這一永恒的話題必綻放出新的內(nèi)涵，需要設(shè)計(jì)者不斷地思考與嘗試。

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