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    一種新型的平面度檢定方法

    2012-07-17 01:23:24淮安市計(jì)量測(cè)試所
    上海計(jì)量測(cè)試 2012年5期
    關(guān)鍵詞:檢點(diǎn)測(cè)量點(diǎn)平板

    / 淮安市計(jì)量測(cè)試所

    0 引言

    平板是用于工件檢驗(yàn)或劃線的計(jì)量器具,其平面度是確定其準(zhǔn)確度等級(jí)的主要指標(biāo),目前現(xiàn)有的檢測(cè)工作面平面度的標(biāo)準(zhǔn)器主要是自準(zhǔn)直儀、電子水平儀、合像水平儀、刀口直尺。檢定的方法主要是用節(jié)距法,根據(jù)平板尺寸選擇受檢點(diǎn)數(shù)及受檢點(diǎn)的分布情況,用自準(zhǔn)直儀或其他計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)器測(cè)量其相對(duì)于測(cè)量基準(zhǔn)的傾角變化,再計(jì)算求得被測(cè)截面各測(cè)量點(diǎn)對(duì)兩端點(diǎn)連線的偏差,然后通過構(gòu)建“理想平面”算出各測(cè)量點(diǎn)相對(duì)“理想平面”的相對(duì)偏差,最后相對(duì)偏差的最大值與最小值之差即為工作面平面度。必要時(shí)用“最小條件原則”進(jìn)行“基面轉(zhuǎn)換”,轉(zhuǎn)換所用數(shù)據(jù)為測(cè)量點(diǎn)相對(duì)“理想平面”的相對(duì)偏差。本文提出一種采用傳感器技術(shù)測(cè)量平板平面度的方法,檢測(cè)過程簡(jiǎn)單,數(shù)據(jù)處理簡(jiǎn)化,是值得推廣的一種新型平面度檢測(cè)方法。

    1 存在問題的分析

    1.1 受檢點(diǎn)數(shù)

    節(jié)距法檢定時(shí)受檢點(diǎn)數(shù)見表1。

    表1 平板工作面測(cè)量點(diǎn)數(shù)

    由表1可知630×400與1 600×1 000的平板受檢點(diǎn)數(shù)可以相同,面積252 000 mm2和1 600 000 mm2的平板用25個(gè)點(diǎn)來衡量其平面度,從數(shù)據(jù)采集方面看似乎不盡合理,也難以使檢測(cè)的平面度都接近真值,改善的辦法是根據(jù)平板尺寸的大小增加受檢點(diǎn)數(shù)。受檢點(diǎn)數(shù)越多,結(jié)果越可靠。

    1.2 使用的計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)器具

    目前檢測(cè)平板的計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)器具多為自準(zhǔn)直儀、水平儀。檢定時(shí)計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)器在平板上移動(dòng),盡管可以用配套設(shè)備橋板等輔助,其接觸面也是較大,小面積的平面度超差很難在數(shù)據(jù)上反映出來。必須經(jīng)局部工作面平面度檢查,但局部工作面平面度與平板平面度檢定方法、判斷標(biāo)準(zhǔn)不一樣,不能用局部工作面平面度來修正平面度的結(jié)果。提高數(shù)據(jù)可靠性的方法是減小計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)器與平板的接觸面積。

    1.3 處理方法

    數(shù)據(jù)的處理方法是求被測(cè)截面的各測(cè)量點(diǎn)對(duì)兩端點(diǎn)連線的偏差,計(jì)算求得工作面各截面測(cè)量點(diǎn)對(duì)“理想平面”的偏差,最大值與最小值之差即為被檢平板工作面平面度,還可以用“最小條件原則”進(jìn)行“基面轉(zhuǎn)換”求平面度,結(jié)果比第一種方法更接近真值。上述方法中“理想平面”的選擇,是通過平板工作面的一條對(duì)角線且平行另一條對(duì)角線的平面。如果平板兩對(duì)角線交點(diǎn)的檢測(cè)數(shù)據(jù)為粗大誤差點(diǎn),則“理想平面”就變得不理想了。筆者改善處理的方法是避免構(gòu)建“理想平面”,用新的數(shù)學(xué)模型來實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)處理。

    2 存在問題的改善

    結(jié)合以上三個(gè)問題提出了一種新的平面度檢定方法,該方法從受檢點(diǎn)分布、標(biāo)準(zhǔn)器及數(shù)據(jù)處理三個(gè)方面進(jìn)行改善,從而使平面度檢定方法更簡(jiǎn)單,數(shù)據(jù)處理結(jié)果更直觀。

    該方法所用計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)器具由精密光學(xué)測(cè)頭、數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)組成[1]。測(cè)量裝置置于平板外側(cè),檢定前調(diào)整:測(cè)頭測(cè)量所經(jīng)過平面平行于平板工作面。過程主要是測(cè)頭由平板一側(cè)走到另一側(cè)即結(jié)束測(cè)量。數(shù)據(jù)采集后由處理系統(tǒng)生成函數(shù)曲線,顯示測(cè)量結(jié)果。該方法有幾方面區(qū)別于平板檢定規(guī)程。

    2.1 受檢點(diǎn)數(shù)選擇

    該標(biāo)準(zhǔn)測(cè)頭間距為80~300 mm,采樣間距50~300 mm,測(cè)量誤差0.2 μm。測(cè)量時(shí)根據(jù)平板尺寸、準(zhǔn)確度等級(jí)選擇測(cè)頭間距及采樣間距(即確定受檢點(diǎn)數(shù))。比如平板尺寸大、準(zhǔn)確度高,受檢點(diǎn)就密集一點(diǎn)。具體數(shù)據(jù)選擇建議見表2、表3。

    表2 平板不采點(diǎn)邊緣區(qū)

    表3 平板工作面測(cè)量點(diǎn)數(shù)

    2.2 數(shù)據(jù)處理

    該方法對(duì)尺寸大、準(zhǔn)確度等級(jí)高的平板采樣點(diǎn)數(shù)較多,用人工計(jì)算較繁瑣,所以數(shù)據(jù)處理過程由計(jì)算機(jī)完成。下文簡(jiǎn)要介紹處理方法。

    采樣點(diǎn)測(cè)量的數(shù)據(jù)為平板工作面受檢點(diǎn)到測(cè)頭距離,如圖1所示。

    采樣前調(diào)整測(cè)頭使測(cè)頭所走平面Z1與平板工作面平行,數(shù)據(jù)清零。選擇測(cè)頭間距為l1,采樣間距為l2,采樣點(diǎn)數(shù)據(jù)xi存入數(shù)組

    平面度分析方法:

    數(shù)據(jù)中xi為受檢點(diǎn)到測(cè)頭所走平面的距離,將數(shù)據(jù)按數(shù)值大小分類匯總,匯總后生成函數(shù)曲線如圖2所示。

    圖1 檢測(cè)點(diǎn)分布圖

    圖2 平面度曲線

    X軸為受檢點(diǎn)到平面Z1距離,Y軸為數(shù)組中該數(shù)值的個(gè)數(shù)??芍和ㄟ^x0點(diǎn)平行于Z1平面即為平板的“理想平面”,平面度即為xn-x1。該函數(shù)不僅可以求出平面度,也能綜合分析平板平面度質(zhì)量。圖像寬度越小,峰值越高,則平板平面度越好。

    圖像還能很直觀顯示劣勢(shì)點(diǎn)(貼近X軸且離x0較遠(yuǎn)的點(diǎn)),離x0較遠(yuǎn)且貼近X軸的劣勢(shì)點(diǎn)可認(rèn)為是測(cè)量粗大誤差點(diǎn)。

    圖像還可以算出不同可忽略度的平面度值。比如需要看95%的優(yōu)勢(shì)點(diǎn)平面度可以通過下式求得:

    將矩陣中數(shù)值減去理想平面數(shù)值x0則得出新數(shù)組,通過三維直觀圖可以模擬平板工作面立體圖,對(duì)工作面質(zhì)量有清晰直觀的認(rèn)識(shí),有助于指導(dǎo)平板的修理。

    3 結(jié)語

    新方法所用數(shù)據(jù)處理模型基礎(chǔ)程序已實(shí)現(xiàn),但函數(shù)曲線與平板質(zhì)量評(píng)價(jià)有千絲萬縷的聯(lián)系,尚待進(jìn)一步探討。

    [1]祝世平, 房建成, 周銳, 等.基于測(cè)量平臺(tái)的一種新型光電式平面度測(cè)量儀[J].測(cè)控技術(shù), 1999, 10:17-20.

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