專利信息

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飲料瓶清洗裝置

Drink container washing instrument ：日J(rèn)P2011235223 [專]/ Miyazaki, Michihito.－2011.11.24－4頁(yè).－JP 2010-107797（20100509）

本專利提供在沒(méi)有廢除使用鋁罐和PET瓶之前，在家不用沾濕手就可以將飲料瓶清洗干凈的飲料瓶清洗裝置。本裝置由樹(shù)脂構(gòu)成的儲(chǔ)水槽內(nèi)的底板能靈活地釋放圓形橡皮圈，在下面有個(gè)水注入裝置和一個(gè)防回流閥。飲料瓶清洗裝置的典型特征是：有一個(gè)突出的噴嘴和在噴嘴周圍儲(chǔ)水槽中心上部有篦狀突起。

清洗烤架的裝置

Machine for cleaning grills：韓KR 2011123841[專]/ Eom, Jae Pung. －2011.11.16.－KR 2010-43282（20100510）

清洗烤架裝置包括：一個(gè)O形清洗滾筒，一個(gè)低層固定板、壓力罐、壓力活塞、幾個(gè)導(dǎo)桿、幾個(gè)直的軸承、上層固定板、上層液壓缸、活塞桿、上下移動(dòng)板、拋光桿、懸掛擋板、繩子、圓形板、超聲加濕器、隔膜泵、電熱圈、電腦輸入板和輔助輸入板、電子閥門和噴嘴?？炯艿娜馓蓟锿ㄟ^(guò)使用高壓去除，烤架上的油脂及表面活性劑使用高壓高溫水蒸氣去除。因不使用氫氧化鈉所以預(yù)防了污染。

清洗和干燥電子和機(jī)械部件的方法和裝置

Method and apparatus for washing and drying electronic and mechanical components：日J(rèn)P 2010-94897 [專]/ Denso Co., Ltd. (Yanagawa, Keita).－2011.11.10－13頁(yè).－JP2010-94897（20100416）

本發(fā)明涉及一種對(duì)電子和機(jī)械部件洗滌干燥一步完成的方法和裝置。洗滌劑是疏油的并且b.p. ≧40。

清洗機(jī)械部件的裝置和組分

Washing and cleaning apparatus and materials for mechanical components:意IT 1374592 [專]/ Forni-Tecnica S.r.l. (Spagocci, Stefano Maria; Teruzzi, Alessandro; Zamboni, Alberto).－2010.05.17－26頁(yè).－IT 2006-MI695（20060407）

本發(fā)明提供清洗機(jī)械部件包括流化床的清洗裝置，包括一個(gè)裝粉末的室、氣流和管道入口，步驟是將氣流帶動(dòng)粉末流化，這樣組成可移動(dòng)的室作為清潔流化床的組分。例如用壓縮氣體和玻璃珠作為磨料清洗，從金屬零件、超聲堿性溶劑、絲染印刷溶劑去除潤(rùn)滑油

使用陶瓷輻射遠(yuǎn)紅外和超聲波無(wú)洗滌劑的的洗滌機(jī)

Washing machine of nodetergent using ceramic radiating far-infrared rays and supersonic waves:韓KR 2000021103 [專]/ Ecoma Co., Ltd., S. (Cho, Bong Am; Lee, Jeong Hyeon; Ko, Jong Cheol.).－2000.04.15.－KR 1998-40043（19980925）

本專利提供一個(gè)無(wú)洗滌劑的洗滌機(jī)，使用產(chǎn)生超聲波和遠(yuǎn)紅外射線輻射的陶瓷材料，防止了使用洗滌劑洗滌污水的產(chǎn)生。在洗缸內(nèi)此洗滌機(jī)有產(chǎn)生超聲波設(shè)備，在洗缸內(nèi)涂有產(chǎn)生遠(yuǎn)紅外輻射的陶瓷涂層。遠(yuǎn)紅外輻射的陶瓷涂層由60-70% SiO2、10-15% Al2O3、1-5% Fe2O3、5-10% TiO2、3-8%CaO、2-6% MnO。當(dāng)陶瓷涂層被添加到洗衣機(jī)中后，通過(guò)超聲波的振動(dòng)操作洗滌水產(chǎn)生許多空穴，提供強(qiáng)大的洗滌操作動(dòng)力，在不使用合成洗滌劑的情況下污染物質(zhì)在短時(shí)間內(nèi)快速脫離。

自動(dòng)清洗機(jī)器部件的洗滌機(jī)和組分

Washing machine for automated cleaning of mechanical parts and components：俄RU 2348553 [專]/ Zao Nauchno-Proektnyi Tsentr "Tormoz" (Murtazin, A. V.; Troshkov, Zao Nauchno-Proektnyi Tsentr "Tormoz"V. V.; Moskalev, P. I.; Zhernovoi, V. G.; Belyaev, M. S.).－2009.03.10－20頁(yè).－RU2007-128477（20070724）

本發(fā)明的洗衣間自動(dòng)清洗部件包括一個(gè)洗室、一個(gè)支撐轉(zhuǎn)盤和球狀檢測(cè)器，檢測(cè)器由氣缸驅(qū)動(dòng)。本機(jī)器配有運(yùn)動(dòng)傳感器、高壓供水機(jī)、減速箱、異步電動(dòng)機(jī)。氣壓輸送分配器是控制裝置及提供壓縮空氣?？刂剖野ǎ嚎刂撇考⒖刂婆_(tái)，電力設(shè)備面板來(lái)控制驅(qū)動(dòng)調(diào)節(jié)裝置。檢測(cè)器通過(guò)氣缸移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)。同時(shí)，空氣分配器提供干燥的目的。

清洗機(jī)械、光學(xué)、電子零部件油脂的方法和組分

Method and apparatus for cleaning processing oils and greases from mechanical , optical, and electronic components:日J(rèn)P 2003080180 [專]/ Asahi Kasei Corporation (Matsumoto, Shoji).－2003.03.18－18頁(yè).－JP 2001-273358（20010910）

本發(fā)明方法包括：（A）蒸氣壓1.33 ×103Pa的預(yù)清潔液和沖洗液，20℃時(shí)蒸汽壓1.33 ×103Pa的非氯氟代抗氧化劑，（B）加熱溶液使之產(chǎn)生蒸汽，然后冷凝，（C）過(guò)濾冷凝液以清除污垢，（D）循環(huán)過(guò)濾溶液作為預(yù)清洗劑。這樣做成的配方含HFE -7100（甲基全氟丁基醚和甲基全氟異丁基醚混合物）50%，3 - 甲基-3 – 甲氧基丁醇30%，二丙二醇2 –甲醚20%（FM- 220），用于處理被油脂(FM-220)污染的部件顯示不錯(cuò)的效果。

陶瓷制品清洗劑組成和方法A detergent composition and method for ware- washing:印WO 2002031095 [專]/ Unilever NV, Neth.; Unilever PLC; Hindustan Lever Ltd. (Neplenbroek, Antonius M.; Suk, Bouke.).－2002.04.18－29頁(yè).－WO 2001-EP10574（20010912）

本專利提供在洗碗過(guò)程中，尤其是公共設(shè)施洗碗機(jī)中，使用酸性漂洗可以有效去除污垢。應(yīng)用此技術(shù)含兩部分組成，每部分使用時(shí)溶解或稀釋后使用。第一部分組分含清潔劑和堿，堿的加入可以在使用濃度時(shí)呈現(xiàn)中性或弱堿性，第二部分組分含酸，酸使漂洗液呈現(xiàn)pH接近6.0酸性。第一部分是洗滌步驟，第二部分是后洗，沖洗步驟。本技術(shù)即使不添加酶也能達(dá)到高效去污垢效果。由此，陶瓷器具清洗組分含三聚磷酸鈉、偏硅酸鈉和氯化鈉，漂洗組分含潤(rùn)濕性強(qiáng)的、不起泡的非離子表面活性劑，檸檬酸和水。

工件清洗裝置

An apparatus for washing a workpiece：大馬WO 2010013995 [專]/ Invenpro (M) Sdn. Bhd. (Ng, Kae Jeng; Liang, Kien Hui; Liang, Kien Yew).－2010.02.04－20頁(yè).－WO 2009-MY107（20090731）

本發(fā)明涉及一種工件清洗，如芯片、PC板、混合電路、精密構(gòu)件和電板元件、光學(xué)儀器、醫(yī)療器械或其它類似物品。因本發(fā)明有個(gè)特別平滑的圓盤，因此更適用于清洗磁盤驅(qū)動(dòng)器組件。本發(fā)明提供了一種洗滌劑單向流動(dòng)方式，能夠使污垢在水溶液的介質(zhì)中從工件表面去除并隨溶液流走。洗滌劑單向流動(dòng)通過(guò)將洗滌劑泵入入口，同時(shí)在裝置出口流出，這阻止污垢的再次沉積。

清洗電子元件的方法

Method and system for washing electronic component:日WO 2009110549 [專]/ Du Pont-Mitsui Fluorochemicals Co., Ltd. (Kikuchi, Hideaki.).－2009.09.11－37頁(yè).－WO 2009-JP54168（20090305）

本專利提供清洗電子元件的方法，包括通過(guò)凈化器凈化不再使用的含氟有機(jī)液體洗滌劑。通過(guò)凈化器將洗滌液凈化并發(fā)送到洗滌裝置中用于洗滌電子元件。凈化器再次凈化用過(guò)的洗滌液并循環(huán)供應(yīng)洗滌液到洗滌裝置中。在凈化過(guò)程中，至少有機(jī)污垢通過(guò)精餾裝置除去，固體污垢通過(guò)過(guò)濾裝置除去。

清洗焊接印刷線路板和電子設(shè)備的配方

Composition for washing solders stuck to printed circuit boards and electronic devices:日J(rèn)P 07266028 [專]/ Tonen Corp, (Suzuki, Sadakatsu; Asami, Masayuki; Ueno, Hiroshi).－1995.10.17－6頁(yè).－JP 1994-80953（19940328）

本標(biāo)題配方組成為（1）N – 甲基- 2 -吡咯烷酮，（2）水，（3）1的下列之一化合物， 3 - 甲氧基-3 - 甲基丁醇，2 - 乙氧基乙醇和2 - 甲氧基乙醇和1 - 甲氧基-2 - 醋酸丙酯。此安全組成配方無(wú)需沖洗并且在低溫可以快速干燥。

光電裝置部件和電子裝置的清洗及其設(shè)備

Washing and its apparatus for electrooptical device components and electronic apparatus therewith:日J(rèn)P 2004261703 [專]/ Seiko Epson Corp. (Tsukahara, Akira.).－2004.09.24－10頁(yè).－JP 2003-54003（20030228）

光電裝置部件，如LCD板的接觸點(diǎn)，在由超純水組成的清洗設(shè)備運(yùn)輸帶上時(shí)，噴嘴尤其是在噴嘴下方的吹嘴都能被清洗干凈。水作為清洗媒介對(duì)于電子部件工作性能沒(méi)有任何副作用。對(duì)于電子設(shè)備如手機(jī)、電子記事本和集裝設(shè)備等會(huì)有更高要求。

清洗電子材料和電子設(shè)備保護(hù)膜的方法

Method for cleaning electronic material and device for cleaning electronic material:日WO 2010113587 [專]/ Kurita Water Industries Ltd. (Tsukamoto, Kazumi; Morita, Hiroshi.).－2010.10.07－28頁(yè).－WO 2010-JP53527（20100304）

本專利提供短時(shí)間內(nèi)成功分離和去除電子材料保護(hù)膜的技術(shù)。電子材料用含過(guò)硫酸的硫酸溶液分離保護(hù)膜。然后，電子材料用含溶解氣體的水清洗。此方法與常規(guī)清洗方法相比大大縮短了清洗時(shí)間。含過(guò)硫酸的硫酸溶液最好通過(guò)電解硫酸獲得。硫酸溶液除去保護(hù)膜的清洗裝置減少加入到電解器中過(guò)硫酸的濃度并可以再生，硫酸溶液中過(guò)硫酸在清洗設(shè)備中可以重復(fù)利用。這種通過(guò)使用高濃度過(guò)硫酸和重復(fù)使用硫酸溶液的方法使高效分離和去除保護(hù)膜成為可能。

清洗裝置和含臭氧水的制備裝置

Washing apparatus and ozonecontaining water production apparatus:日J(rèn)P 2011136286 [專]/ Sumitomo Heavy Industries, Ltd. (Ueno, Norieda; Takahashi, Kyosuke).－2011.07.14－13頁(yè).－JP 2009-297866（20091228）

本專利提供的清洗裝置含用于制濃縮臭氧氣體的濃縮部分，為獲得濃縮臭氧水的臭氧溶解部分，此目的可以通過(guò)高濃度臭氧溶解在水中實(shí)現(xiàn)，和用臭氧水清洗目標(biāo)物的洗滌部分。臭氧濃縮水制備裝置含用于制備濃縮臭氧的濃縮部分和可以獲得臭氧水的臭氧溶解部分。用高濃度臭氧水可以有效洗滌目標(biāo)物，如半導(dǎo)體裝置的電子零件和晶體部件。

清洗電子部件上有害物質(zhì)的方法和設(shè)備

Method and device for washing electronic parts to remove hazardous materials:日J(rèn)P 2004174375 [專]/ Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. (Tsukahara, Chisato; Sawatsubashi, Tetsuya; Tatsuhara, Kiyoshi.).－2004.06.24－12頁(yè).－JP2002-343578（20021127）

本技術(shù)通過(guò)使用一個(gè)液體清洗組分，此液體清洗組分含異丙醇、辛醇和水，能將附在被污染電子部件表面的有害物質(zhì)如PCB和廢涂層顏料等去除的方法。

去除電子設(shè)備基板表面沉積物的方法和設(shè)備

Method and apparatus for removal of surface deposits from substrates for electronic devices:日J(rèn)P2003103228 [專]/ Nomura Micro Science Co., Ltd. (Kono, Shigeru.).－2003.04.08－17頁(yè).－JP2001-304078（20010928）

本專利使用含臭氧氣體和有機(jī)酸性洗滌液的清洗劑或含臭氧的洗滌劑，將洗滌劑噴灑在旋轉(zhuǎn)基板上，能在短時(shí)間內(nèi)全面清洗干凈而不留任何殘留的技術(shù)。本設(shè)備由基板支撐物、用與噴灑洗滌液或臭氧氣體的噴嘴和一個(gè)可以固定或移動(dòng)噴嘴的夾具組成。

餐洗機(jī)用洗滌劑

Machine dishwasher detergent：德WO2011147665 [專]/ Henkel AG & Co. KGaA (Eiting, Thomas; Sendor-Mueller, Dorota; Zipfel, Johannes; Kessler, Arnd; Bastigkeit, Thorsten; Nitsch, Christian; Mueller, Sven).－2011.12.01－35頁(yè).－WO2011-EP57180（20110505）

本專利提供液體餐洗機(jī)用洗滌劑配方為：a）20-70%水；b)至少一種淀粉酶；c)至少一種Ca2+源；d) l乳酸或乳酸鹽，此配方可提高淀粉酶的穩(wěn)定性并可顯著提高清潔性能。

清洗方法和清洗設(shè)備

A cleaning method and cleaning apparatus： 日J(rèn)P2011240318 [專]/ Sakura Seiki Co., Ltd (Karasawa, Hiroshi; Asaoka, Shinta; Shimizu, Toshiaki.).－2011.12.01－15頁(yè).－JP2010-117458（20100521）

本專利提供能去除粘附在如醫(yī)療器械表面的鐵銹和水垢的清洗方法和設(shè)備。在清潔同時(shí)本技術(shù)不會(huì)引起清潔物表面的腐蝕，也不會(huì)對(duì)操作人員構(gòu)成危險(xiǎn)。對(duì)于清潔物，先使用酸性洗滌，然后用堿性洗滌劑洗滌，在堿性洗滌劑洗完后再用水或溫水和堿性洗滌劑漂洗。

地板液體洗滌劑

The liquid detergent composition for floors：日J(rèn)P2011241353 [專]/ Kao Corp. (Takano, Katsuyuki; Makino, Yasuhiko; Funoo, Mitsushi.).－2011.12.01－13頁(yè).－JP2010-117161（20100521）

本專利提供用于地板清潔的含高濃度、水不溶香精液體混合的洗滌劑，不溶香精由低濃度的表面活性劑來(lái)穩(wěn)定。配方含(a)特定的非離子表面活性劑，(b)特定的陽(yáng)離子表面活性劑，(c) C3-6的聚羧酸或它們的鹽和(d)水不溶性特殊香精。