郭立帥
(隴東學(xué)院 物理與電子工程學(xué)院,甘肅 慶陽 745000)
自光子晶體概念提出以來[1,2],由于在能帶和帶隙方面特殊性質(zhì),使得它很快成為光學(xué)前沿領(lǐng)域一個熱門課題。光子晶體在摻入雜質(zhì)后,原有的周期性和對稱性遭到破壞,會在光子禁帶中心出現(xiàn)一個極窄的導(dǎo)帶,該導(dǎo)帶深度會隨著摻雜的位置和自身性質(zhì)的改變,而影響禁帶中心導(dǎo)帶的深度。
目前關(guān)于一維光子晶體的研究非常多[3-8]。本文從一維摻雜光子晶體的基本結(jié)構(gòu)出發(fā),利用傳輸矩陣法尋找到當(dāng)雜質(zhì)處在某個特定位置時,禁帶中心導(dǎo)帶深度最大,在此基礎(chǔ)上通過改變基本層厚度,來研究基本層厚度變化對禁帶中心導(dǎo)帶深度的影響程度。
一維光子晶體的基本結(jié)構(gòu)可以是由兩種不同折射率(n1,n2)和不同厚度(a,b)的各向同性介質(zhì)薄層交替排列構(gòu)成的一維周期性結(jié)構(gòu),每一層介質(zhì)在其他兩維空間方向上是均勻分布的,當(dāng)一維光子晶體中出現(xiàn)了折射率不同于n1,n2時,一維光子晶體中摻入了雜質(zhì),我們稱其為一維摻雜光子晶體,用C表示雜質(zhì)層,折射率記為n3,摻雜有多種形式,我們研究(n1n2)Nn3(n1n2)β這種形式。
根據(jù)薄膜光學(xué)理論[9],電磁波在薄層介質(zhì)nj中的特征矩陣Mj為
其中
θ為光線在該介質(zhì)中與界面法線方向的夾角,一維摻雜光子晶體整體的特征矩陣為:
其中C表示雜質(zhì)層,N為雜質(zhì)層C前面的基本層周期數(shù),β為雜質(zhì)層C后面的基本層周期數(shù),一維摻雜光子晶體中電磁波的反射系數(shù)為:
根據(jù)(3)-(6)式,對一維摻雜光子晶體的帶隙結(jié)構(gòu)進(jìn)行數(shù)值研究,設(shè)一維光子晶體基本周期結(jié)構(gòu)中兩層介質(zhì)的光學(xué)厚度相等,均為某一波長λ0的m倍,m為大于0的常數(shù),即n1d1=n2d2=mλ0,則有
圖1 給出了 m=0.25,n1=1.35,n2=3.15,n3=2,p=5,N=8,當(dāng) β 取不同值時,有限周期 λ/4結(jié)構(gòu)一維摻雜光子晶體反射率R(p)隨β變化。從圖1中可以看出,當(dāng)N=8時,β取7的時候反射率最小。圖2 給出了 N=8,β =7,m=0.25,n1=1.35,n2=3.15時,一維摻雜光子晶體反射率隨p的變化,當(dāng)沒有摻入雜質(zhì)時,光子禁帶中心光位置均出現(xiàn)在p為1,3,5…等奇數(shù)處,禁帶中心的反射率接近于1。從圖1可以看出當(dāng)摻入雜質(zhì)的時候,光子禁帶中心位置出現(xiàn)一個導(dǎo)帶,并且該導(dǎo)帶深度隨著摻雜位置的不同而變化,總存在一個位置使得禁帶中心的導(dǎo)帶深度達(dá)到最大。
圖1 有限周期λ/4結(jié)構(gòu)一維摻雜光子晶體不同摻雜下反射率
圖2 有限周期λ/4結(jié)構(gòu)一維摻雜光子晶體反射率
圖3 一維摻雜光子晶體不同基本層厚度的反射率
由圖1、圖 2 可知,當(dāng) N=8,β =7,m=0.25,n1=1.35,n2=3.15,n3=2時,一維摻雜光子晶體禁帶中心,將出現(xiàn)導(dǎo)帶,并且導(dǎo)帶深度達(dá)到最大;圖3在圖1和圖2的基礎(chǔ)上通過改變m值,即改變基本層厚度,來分析當(dāng)基本層厚度發(fā)生變化時,對反射率的影響。圖3(a)-圖3(c)分別給出了p為1、2、3,隨著p的取值增大,禁帶變窄,當(dāng)p為1和2的時候,每個禁帶中心都有導(dǎo)帶,并且導(dǎo)帶深度都達(dá)到最大,而當(dāng)p為3的時候,并不是每個禁帶中心都有導(dǎo)帶,并且每兩個中心有導(dǎo)帶的禁帶夾雜兩個中心無導(dǎo)帶的禁帶,做周期性變化,進(jìn)一步分析,發(fā)現(xiàn)當(dāng)p為4和5的時候,每個禁帶中心都有導(dǎo)帶,p為6的時候和p為3的時候一樣,當(dāng)p大于7的時候出現(xiàn)的現(xiàn)象和前邊的有很大的區(qū)別。不論p為1-6中的那個值時,只要禁帶中心有導(dǎo)帶,那么該導(dǎo)帶帶寬比較窄,深度非常大,對應(yīng)著反射系數(shù)非常小,透射率非常高
本文給出了一維摻雜光子晶體結(jié)構(gòu),通過數(shù)值計(jì)算,分析了在摻雜位置給定時,光子晶體的帶隙特征。數(shù)值計(jì)算表明:在不摻雜時,禁帶中心無導(dǎo)帶。當(dāng)摻雜時,禁帶中心位置有一個極窄的導(dǎo)帶,并且雜質(zhì)前半部分光子晶體層數(shù)給定時,后半部分的層數(shù)總存在一個值,使得,反射率達(dá)到最小;當(dāng)m給定時,隨著p的改變,每個禁帶中心都出現(xiàn)一個導(dǎo)帶,并且導(dǎo)帶深度達(dá)到最大;隨后固定p,隨著m的變化可以看到,禁帶中心出現(xiàn)的導(dǎo)帶,深度仍然最大,由此可見,在實(shí)際應(yīng)用中,對于不同波長的光,我們可以通過調(diào)整基本層厚度,來改變一維摻雜光子晶體帶隙結(jié)構(gòu),以適應(yīng)不同場合的實(shí)際應(yīng)用。
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