基于專利視角的中國環(huán)境類和非環(huán)境類技術(shù)質(zhì)量差異分析

王崇鋒

(青島大學(xué)國際商學(xué)院，山東 青島266071)

基于專利視角的中國環(huán)境類和非環(huán)境類技術(shù)質(zhì)量差異分析

王崇鋒

(青島大學(xué)國際商學(xué)院，山東 青島266071)

在美國金融危機影響下，中國以工業(yè)為代表的實體經(jīng)濟不可避免的受到了強力沖擊，改變經(jīng)濟發(fā)展方式成為擺脫金融危機陰影的迫切需求。因此，改變工業(yè)發(fā)展模式、尋找新的經(jīng)濟增長點逐漸成為全社會的共識。在所有工業(yè)類技術(shù)中，環(huán)境類技術(shù)在中國經(jīng)濟轉(zhuǎn)型中發(fā)揮著直接的作用，而環(huán)境類技術(shù)本身的效能發(fā)揮又直接取決于技術(shù)本身的質(zhì)量水平。本文將以技術(shù)的最直接成果——發(fā)明專利作為研究對象，從專利數(shù)據(jù)入手對比環(huán)境類及其相鄰領(lǐng)域的非環(huán)境類技術(shù)間的質(zhì)量及其技術(shù)含量差異。許多學(xué)者認為，專利的授權(quán)及其存續(xù)時長能夠反映出專利的質(zhì)量水平——即授權(quán)率高，存續(xù)時間長的專利的質(zhì)量明顯高于授權(quán)率低，存續(xù)時間短的專利質(zhì)量。本文首先對比了中國環(huán)境類專利和非環(huán)境類專利的授權(quán)和存續(xù)時長。其次，本文從專利的分類號入手對比了中國環(huán)境類和非環(huán)境類專利的技術(shù)復(fù)雜度。通過對比發(fā)現(xiàn)，中國環(huán)境類專利的質(zhì)量水平和技術(shù)水平皆低于其相鄰領(lǐng)域非環(huán)境類專利技術(shù)。究其原因，本文認為主要是由于以政府為主體的社會各界長期以來對環(huán)境類專利研發(fā)重視不夠所致。最后，提出了促進中國環(huán)境類專利發(fā)展的思考。

環(huán)境類專利;非環(huán)境類專利;專利授權(quán);專利長度

從2007年8月的美國次貸危機爆發(fā)算起，這場席卷全球的危機已歷時3年有余。危機不僅引發(fā)了金融風暴，還影響到實體經(jīng)濟。工業(yè)生產(chǎn)嚴重萎縮，外貿(mào)出口大幅下降，失業(yè)率持續(xù)攀升，全球經(jīng)濟出現(xiàn)了“二戰(zhàn)”以來最嚴重的衰退［1］。在這一危機中，中國以工業(yè)為代表的實體經(jīng)濟也不可避免的受到了強力沖擊，改變經(jīng)濟發(fā)展方式成為擺脫金融危機陰影的迫切需求。如今，改變工業(yè)發(fā)展模式、尋找新的經(jīng)濟增長點逐漸成為全社會的共識。

在所有工業(yè)類技術(shù)中，環(huán)境類技術(shù)在中國經(jīng)濟轉(zhuǎn)型中發(fā)揮著直接的作用，而環(huán)境類技術(shù)本身的效能發(fā)揮又直接取決于技術(shù)本身的質(zhì)量水平。本文將以技術(shù)的最直接成果——發(fā)明專利作為研究對象，從專利數(shù)據(jù)入手對比環(huán)境類及其相鄰領(lǐng)域的非環(huán)境類技術(shù)間的質(zhì)量及其技術(shù)含量差異。進而對政府關(guān)于環(huán)境技術(shù)的發(fā)展規(guī)劃做出全面的探討。

根據(jù)OECD(Organization for Economic Co－operation and Development)的ISI－OST INPI分類方法，按照專利的主分類號(IPC，International Patent Classification)可以將專利分成六個母領(lǐng)域和三十個子領(lǐng)域［2］。其中環(huán)境技術(shù)與化學(xué)工程、材料工藝;紡織;造紙;操縱、印刷;農(nóng)業(yè)和食品加工;機器和設(shè)備六個子領(lǐng)域共同包含于工藝工程、特殊設(shè)備母領(lǐng)域之中。

1 專利申請量方面

專利申請量是特定領(lǐng)域?qū)＠l(fā)展的重要指標。從圖1可以看出，工藝工程、特殊設(shè)備母領(lǐng)域和環(huán)境類子領(lǐng)域?qū)＠暾埩拷猿手鹉晟仙厔荩绕渥?993年以后，這種上升趨勢變得更加明顯。1993年之前，環(huán)境類專利占工藝工程、特殊設(shè)備領(lǐng)域?qū)＠谋戎夭▌臃容^大，在1993年之后，該波動幅度開始變得平緩?？傮w來說，環(huán)境技術(shù)類專利占工藝工程、特殊設(shè)備領(lǐng)域?qū)＠谋戎爻手鹉晟仙厔?。這表明我國各類科研團體在環(huán)境科學(xué)方面的科研活動頻繁程度逐漸加大，環(huán)境類科研成果數(shù)量及其所占比重也日益增加。

2 專利質(zhì)量方面

我們從專利授權(quán)率和專利長度角度對比環(huán)境類和非環(huán)境類專利質(zhì)量。國外關(guān)于專利質(zhì)量的評價有一系列研究。其中一個獲得廣泛接受且較具有較高可行性的辦法是考察專利的授權(quán)情況及專利權(quán)延續(xù)的時間長度。在進行專利審查時，專利審查機構(gòu)會授予那些擁有相當程度原創(chuàng)性技術(shù)內(nèi)涵的專利以正式的專利權(quán)［3］，因此Guellec和Pottelsberghe認為被授權(quán)的專利擁有比未被授權(quán)專利更高的質(zhì)量水平［4］。專利被授權(quán)后，專利權(quán)人需要按時繳納年費以延續(xù)專利權(quán)。當從專利技術(shù)中獲取的收益不足以支付年費時，理性的專利權(quán)人會選擇不再支付年費，專利權(quán)即終止。因此，在專利被授權(quán)的基礎(chǔ)上，支付年費的時間長度進一步代表了專利中所包含的價值，即相較于年費支付延續(xù)時間較短的專利，年費支付延續(xù)時間較長的專利擁有更高的價值［5－6］。因此，專利的授權(quán)及其付費期長度從一定意義上代表了專利的質(zhì)量。通過考察一個技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的專利的授權(quán)情況和付費長度水平可以對該領(lǐng)域技術(shù)的質(zhì)量水平有一個宏觀把握。2．1 專利授權(quán)/申請率對比

圖1 我國環(huán)境類專利和工藝工程、特殊設(shè)備類專利的申請量及其比重Fig．1 Number of applications and their proportions of China’s environmental patent，process engineering and special device patents

圖2 我國環(huán)境類專利和工藝工程、特殊設(shè)備類專利的授權(quán)率Fig．2 Authorization rate of China’s environmental patent，process engineering and special device patents

圖2顯示，我國環(huán)境類專利及其母領(lǐng)域——工藝工程，特殊設(shè)備領(lǐng)域——專利的授權(quán)率皆呈現(xiàn)先下降再上升的趨勢。除1987年環(huán)境類專利及其母領(lǐng)域?qū)＠跈?quán)率比較接近外，其他年份皆低于其母領(lǐng)域?qū)＠跈?quán)率。甚至在1995年之前，環(huán)境類專利及其母領(lǐng)域?qū)＠跈?quán)率間的差距呈擴大趨勢。而在1995年之后，這種擴大趨勢開始逐年遞減，但是在2006年之前環(huán)境類專利的授權(quán)/申請率始終低于工藝工程，特殊設(shè)備領(lǐng)域。2006年以后，我國環(huán)境類專利的授權(quán)/申請率開始逐漸趕上并超過其相鄰領(lǐng)域?qū)＠氖跈?quán)/申請率。這正好與我國公布并實施第十一個五年發(fā)展規(guī)劃的時間相吻合。究其愿意，我國第十一個五年發(fā)展規(guī)劃中明確規(guī)定要鼓勵發(fā)展循環(huán)經(jīng)濟，并推動鋼鐵、有色、煤炭、電力、化工、建材、制糖等行業(yè)實施循環(huán)經(jīng)濟改造［7］。本文認為，從環(huán)境類專利的授權(quán)率逐年數(shù)據(jù)上看，十一五年發(fā)展規(guī)劃中的相關(guān)規(guī)定對于提升中國環(huán)境類技術(shù)的質(zhì)量水平具有一定的正向作用。

2．2 生存分析曲線對比

所謂生存分析(Survival Analysis)，是指對被研究對象的某種狀態(tài)持續(xù)時間長度(如失業(yè)人員自失業(yè)之日起到重新就業(yè)之日的時間長度)及其影響因素的分析。生存分析又被稱作“過渡分析”(Transitional Analysis)［8］，是近幾年剛剛開始流行的微觀計量經(jīng)濟學(xué)的重要組成部分之一。

以專利生存分析為例，我們對生存分析技術(shù)進行一般性的概括。首先假設(shè)一項專利長度服從密度函數(shù)為f(t)的概率分布，則該專利的長度T大于t的概率為

其中F(t)是T的分布函數(shù)，S(t)被稱作專利的生存函數(shù)(Survival Function)，即專利長度超過t的概率，它的值是隨時間遞減的。在非參數(shù)估計(Nonparametric Estimation)的框架下，生存函數(shù)有其自身的估計量。為了對這個估計量進行具體說明，假設(shè)我們現(xiàn)在掌握有一個帶有隨機刪失(Random Censoring)觀測的生存樣本，并對樣本做如下假設(shè):

dj:在時點tj處結(jié)束的觀測個數(shù);

mj:在區(qū)間［tj，tj+1)處刪失的觀測的個數(shù);

在時點tj－處處于風險之中的觀測個數(shù)。

由于 λj=Pr［T=tj|T≥tj］，風險函數(shù)的一個明顯估計量是在時點tj處結(jié)束的觀測個數(shù)除以在時點tj－處處于風險的觀測個數(shù)，即

生存函數(shù)可以使用參數(shù)化方法和非參數(shù)化方法進行估計。當不需考慮因變量時，可以考慮使用非參數(shù)化方法進行估計，常見的非參估計量包括Kaplan－Meier估計量和Nelson－Aalen估計量，兩種估計量得到的生存曲線形狀非常接近。其中Kaplan－Meier估計量的公式為:

專利生存曲線的高度代表了專利生存的時間長度，即專利生存曲線越高，專利生存時間長度越長。我們使用(4)得到了中國環(huán)境類專利及不包含環(huán)境類專利的工藝工程、特殊設(shè)備領(lǐng)域?qū)＠纳媲€，如圖3所示。

圖3 環(huán)境技術(shù)類和工藝工程、特殊設(shè)備類專利的生存曲線Fig．3 Survival curves of China’s environmental patent，process engineering and special device patents

其中橫坐標表示時間t(單位:天)，縱坐標表示生存函數(shù)S(t)的估計值S^(t)。顯然一個技術(shù)領(lǐng)域所有專利的期望長度與該領(lǐng)域?qū)＠媲€的高度是成正比的。圖3顯示，在0－1000天的時間區(qū)間內(nèi)，中國環(huán)境類專利的生存曲線的高度同工藝工程，特殊設(shè)備領(lǐng)域?qū)＠媲€間的高度沒有太大差別。但1 000天之后，兩條生存曲線間的差異開始逐漸增大，很明顯中國環(huán)境類專利的生存曲線的高度低于工藝工程、特殊設(shè)備領(lǐng)域?qū)＠纳媲€高度。這說明中國環(huán)境類專利的生存時間長度低于工藝工程，特殊設(shè)備領(lǐng)域?qū)＠?。另外圖3中顯示，工藝工程，特殊設(shè)備領(lǐng)域存活時間最長的專利自授權(quán)后大約存活6 500天左右，而環(huán)境類存活時間最長的專利自授權(quán)后大約存活6 000天左右，兩者之間相差了約500天。從這兩部分生存曲線的對比可以看出環(huán)境類專利生存的時間長度低于工藝工程、特殊設(shè)備領(lǐng)域?qū)＠鏁r間長度。

因此，從專利授權(quán)率以及專利存續(xù)時間長度的對比上看，中國環(huán)境類專利的質(zhì)量水平低于其母領(lǐng)域工藝工程、特殊設(shè)備領(lǐng)域?qū)＠馁|(zhì)量水平。這說明我國環(huán)境類技術(shù)成果的質(zhì)量水平現(xiàn)狀相對于其母領(lǐng)域來說偏低。

3 專利技術(shù)復(fù)雜度的對比

3．1 技術(shù)復(fù)雜度的測度

其中Rjk是技術(shù)領(lǐng)域j和i之間的相關(guān)系數(shù)。

專利的深度指的是一項專利涉及其所屬領(lǐng)域的技術(shù)深度，其測度并不像專利寬度那么直接。一項專利可以同時具有較高水平的寬度和深度。例如，它涉及了多個技術(shù)領(lǐng)域，且在每個技術(shù)領(lǐng)域中都涉及了相當數(shù)量的子技術(shù)領(lǐng)域。一種直接計算專利深度的方法是計算分布在其所屬技術(shù)領(lǐng)域的副分類號的個數(shù)。用kim表示專利i的第m個副分類號，并設(shè)專利i共有M個副分類號。當分類號kim屬于j領(lǐng)域時，設(shè)xj(kim)=1，否則xj(kim)=0。這時專利i在其所屬領(lǐng)域j的技術(shù)深度為:

前文提到的三十個技術(shù)領(lǐng)域的劃分是基于專利分類號的前四位進行的劃分，而專利的分類號一般為七位或八位，因此dij只能夠粗略地給出專利在其所屬領(lǐng)域的技術(shù)深度。若要更為細致地考慮專利的技術(shù)深度，還需要進一步發(fā)掘其分類號中所包含的信息。

在其所屬領(lǐng)域中，專利所涉及的可能是相距較遠的兩個或多個子領(lǐng)域，也可能是完全相同的一個子領(lǐng)域?；谶@種考慮，在計算專利在其所屬技術(shù)領(lǐng)域的深度時，本文認為，應(yīng)當考慮其在各細分領(lǐng)域的技術(shù)深度。Mügezman使用前六位分類號劃分細分技術(shù)領(lǐng)域，并據(jù)此構(gòu)建了專利深度權(quán)重指數(shù)。其計算步驟是:首先從專利的副分類號中提取出屬于專利所屬領(lǐng)域的副分類號，然后將其中前六位相同的副分類號歸為一組，并計算每一組在所有副分類號中所占的比重。用ais表示細分領(lǐng)域s(以前六位分類號劃分)在專利i的副分類號中所占比例，Ii表示專利i在其所屬領(lǐng)域中所涉及的細分領(lǐng)域組成的集合。為了計算權(quán)重，Mügezman引入了Blau指數(shù):

較高的Blau指數(shù)意味著專利以相似比例使用其涉及的細分領(lǐng)域的知識，較低的Blau指數(shù)意味著相較于其他細分領(lǐng)域，專利更為緊密地使用了某個細分領(lǐng)域的知識。因此，較低的Blau指數(shù)值對應(yīng)著較高的知識單一化程度。在測度技術(shù)領(lǐng)域j中的專利i在該技術(shù)領(lǐng)域的深度時，Mügezman以1－ωij為權(quán)重，將專利i在其所屬領(lǐng)域 j的技術(shù)深度表達為:

Dij=dij(1－ωij) (8)

3．2 技術(shù)復(fù)雜度的分析

我們使用公式(5)和(6)計算了環(huán)境領(lǐng)域?qū)＠捌浞黔h(huán)境鄰領(lǐng)域?qū)＠募夹g(shù)寬度及深度。環(huán)境類技術(shù)一般需要多個學(xué)科交叉研究，因此其應(yīng)當具有較高水平的技術(shù)寬度。利用歐洲專利數(shù)據(jù)計算的結(jié)果如圖4所示，其中橫坐標表示使用公式(5)計算出來的專利技術(shù)領(lǐng)域的寬度，縱坐標表示使用公式(6)計算出來的專利技術(shù)領(lǐng)域的深度。從圖4中可以看出，在工藝工程，特殊設(shè)備領(lǐng)域的五個子領(lǐng)域當中，歐洲環(huán)境類技術(shù)處于最右端，這說明歐洲環(huán)境類專利技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)寬度處于最高水平。

圖4 使用歐洲專利數(shù)據(jù)計算的工藝工程，特殊設(shè)備領(lǐng)域內(nèi)各分領(lǐng)域?qū)＠募夹g(shù)復(fù)雜度圖Fig．4 Technical complexity of each field of patents in process engineering and special device calculated with European patent data

而我們利用中國專利數(shù)據(jù)的計算結(jié)果顯示如圖5所示，中國環(huán)境類技術(shù)并不是處于最右端，而是處于中間的位置。本文認為，這說明我國環(huán)境類技術(shù)研發(fā)的學(xué)科交叉性弱于歐洲在工藝工程、特殊設(shè)備母領(lǐng)域內(nèi)部，環(huán)境類專利包含的五個分類號所對應(yīng)的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)復(fù)雜度也僅處于中等水平，并沒有顯示出技術(shù)復(fù)雜度方面的優(yōu)勢。這些數(shù)據(jù)共同表明了我國環(huán)境類技術(shù)不僅水平偏低，而且學(xué)科交叉度偏弱。

4 促進環(huán)境類專利發(fā)展的對策

資源和環(huán)境技術(shù)一般作為競爭前的共性技術(shù)，具有較強的外部性、基礎(chǔ)性和戰(zhàn)略性，政府的主導(dǎo)和干預(yù)是十分重要的［9］。在環(huán)境類專利數(shù)量和質(zhì)量的提升方面，政府作用體現(xiàn)在:在創(chuàng)新收益上對“創(chuàng)新租金”的維護;在創(chuàng)新路徑上，保持創(chuàng)新路徑的穩(wěn)定;在創(chuàng)新方式上，實施有利于創(chuàng)新的產(chǎn)業(yè)政策［10］。

圖5 使用中國專利數(shù)據(jù)計算的工藝工程、特殊設(shè)備領(lǐng)域內(nèi)各分領(lǐng)域?qū)＠募夹g(shù)復(fù)雜度圖Fig．5 Technical complexity of each field of patents in process engineering and special device calculated with China patent data

對于促進環(huán)境類專利的發(fā)展，本文從微觀和宏觀兩方面提出了相應(yīng)對策。宏觀方面的對策主要著手于社會道德、政府政策法律等方面，力圖打造有助于專利發(fā)展的良好社會大環(huán)境，包括提高全民專意識、改善專利管理、建立專利發(fā)展激勵機制和落實對專利權(quán)的保護等;微觀方面的對策則著力解決環(huán)境類專利發(fā)展過程中所特有的問題，主要包括學(xué)科間交叉研究、縮短專利申請時間、培育專利中介服務(wù)機構(gòu)、建立專項獎勵基金等。

4．1 宏觀對策

專利研發(fā)的最終目的在于獲取經(jīng)濟利益。因此所有促進專利發(fā)展的宏觀策略都將圍繞保護專利持有人的經(jīng)濟利益展開。

(1)提高公民專利意識。目前，我國民眾的專利意識還停留在較低的層面，這給盜版等侵害專利權(quán)的行為提供了廣闊的市場。改變這一現(xiàn)實必須大力普及專利知識，提高公民的專利意識，使大眾認識到侵權(quán)行為的長遠危害性和后果嚴重性，最終改變消費者的專利觀念，使侵權(quán)行為失去市場。提高民眾專利意識，消滅侵權(quán)行為的市場是保護專利持有人利益的最根源途徑，更是最本質(zhì)的方法。

(2)改善專利管理機制。高效的專利管理機制能有效促進專利權(quán)向經(jīng)濟效益的轉(zhuǎn)化。我國建立高效的專利管理機制可以從建立市場化的專利管理體系、構(gòu)建專利信息平臺等方面著手進行。建立市場化的管理機制可以將政府的權(quán)威性與市場的高效性有機結(jié)合，構(gòu)建專利信息平臺則可以實現(xiàn)專利信息的有效傳遞，這些機制的建立都有利于加快專利權(quán)向經(jīng)濟利益的轉(zhuǎn)化，提高專利研發(fā)的積極性。

(3)建立專利發(fā)展激勵機制。我國專利激勵機制不夠完善，評獎制度不夠合理，專利專項扶持資金很少或不到位，可能會造成個人或單位因資金短缺問題而放棄申請，企業(yè)因缺乏專利維持資金而放棄專利，從而對專利的申請、保護和實施帶來負面影響。要提高專利發(fā)展水平，我國政府應(yīng)該建立強有力的激勵機制和制度，激勵各企事業(yè)單位進行創(chuàng)新，并最終轉(zhuǎn)化為專利，促進各個組織專利的申請和保護。

(4)落實對專利權(quán)的保護。專利權(quán)的保護力度是影響專利經(jīng)濟效益實現(xiàn)的最直接因素，與道德知識層面的專利意識的普及相對應(yīng)，我國政府還應(yīng)該從法律層面切實保護專利權(quán)人的利益。專利權(quán)在本質(zhì)上是一種或然權(quán)利，其界定和實施都與司法體制密切相關(guān)，關(guān)鍵在于如何應(yīng)用“等同原則”和“逆向等同原則”［11］。這兩個原則從技術(shù)效果達成方法上界定專利侵權(quán)行為，因此應(yīng)在專利保護中得到切實體現(xiàn)，并最終體現(xiàn)在相關(guān)法律法規(guī)上。于此同時，我國政府還應(yīng)該加大對盜版等侵權(quán)行為的打擊力度，改進專利訴訟的審理執(zhí)行程序，最終將法律對專利權(quán)的保護落到實處，消除專利研發(fā)的后顧之憂。

4．2 微觀對策

促進環(huán)境類專利發(fā)展的微觀對策是針對產(chǎn)生到轉(zhuǎn)化為經(jīng)濟效益的各環(huán)節(jié)所面臨的問題入手，對其路徑進行優(yōu)化。

(1)增進學(xué)科交叉研究。環(huán)境類專利往往涉及多個學(xué)科，這與其他專利有很大不同，因此促進學(xué)科間的交叉研究是增加環(huán)境類專利產(chǎn)量的重要手段。這可以通過建立專利研發(fā)信息交流平臺，增強不同企業(yè)間、不同科研機構(gòu)間，企業(yè)同科研機構(gòu)間的信息交流與合作來進行改善。

(2)縮短專利申請時間。發(fā)明專利授權(quán)不僅表明專利權(quán)人獲得了其發(fā)明技術(shù)的排他性產(chǎn)權(quán)，也意味著其發(fā)明技術(shù)轉(zhuǎn)變?yōu)槭芊杀Ｗo的無形資產(chǎn)和競爭優(yōu)勢［12］。但是環(huán)境類專利的存續(xù)時間相對較短，而當前我國的專利制度要求的審查時間較長且保護器從申請日起算，這進一步縮短了專利作為無形資產(chǎn)的存續(xù)的時間，直接導(dǎo)致了很多優(yōu)秀的環(huán)境類科研成果放棄申請專利。為了解決這一問題，可以在專利申請時對所申請成果進行認定，如果是環(huán)境類成果，可以考慮適當縮短其審查時間，以此提高環(huán)境類成果申請專利的積極性。

(3)培育專利中介機構(gòu)。由于涉及學(xué)科較多，環(huán)境類專利的研發(fā)團隊往往人員較為復(fù)雜，內(nèi)部管理不明了，在這種情況下將研究成果經(jīng)過較為復(fù)雜的申請過程和較長的審查時間轉(zhuǎn)化為專利對研發(fā)團隊來說是不小的挑戰(zhàn)。對此問題，可以考慮通過培育專利中介服務(wù)機構(gòu)進行解決。中介服務(wù)機構(gòu)可以接受委托對專利申請?zhí)岢鼋ㄗh、代為申請專利甚至對其進行托管，這樣可以有效提高專利申請的效率和成功率。

(4)建立專項獎勵基金。環(huán)境類專利由于往往應(yīng)用于公共事業(yè)，因此與其他專利相比轉(zhuǎn)化為經(jīng)濟效益的能力較差，具有準公共物品的屬性。與此同時，我國環(huán)境類專利較之其他專利更難以獲得授權(quán)。針對這一問題，我國可以考慮建立專項獎勵基金對環(huán)境類專利的持有人進行獎勵，對環(huán)境類專利的申請費用給予適當補貼，對于環(huán)境類專利的研發(fā)進行定向資金資助，以提高研究人員的研發(fā)熱情和積極性。

5 結(jié)論

中國環(huán)境類技術(shù)的技術(shù)含量相對于其他技術(shù)偏低，這主要是由于環(huán)境類技術(shù)的研發(fā)長期以來沒有真正受到政府的重視所導(dǎo)致的。但是2011年提出的十二五規(guī)劃中，明確提出:“當前我國要加快建設(shè)資源節(jié)約型、環(huán)境友好型社會，提高生態(tài)文明水平”“樹立綠色、低碳發(fā)展理念，以節(jié)能減排為重點，健全激勵和約束機制，加快構(gòu)建資源節(jié)約、環(huán)境友好的生產(chǎn)方式和消費模式，增強可持續(xù)發(fā)展能力。”“開發(fā)應(yīng)用源頭減量、循環(huán)利用、再制造、零排放和產(chǎn)業(yè)鏈接技術(shù)，推廣循環(huán)經(jīng)濟典型模式?！边@些規(guī)劃的實現(xiàn)與否，將極大程度的依賴于擁有自主產(chǎn)權(quán)的中國環(huán)境類技術(shù)的發(fā)展水平。此外，碳排放指標也首次作為約束性指標納入了國民經(jīng)濟和社會發(fā)展中長期規(guī)劃。如果我國能在黨中央的領(lǐng)導(dǎo)下，切實在促進環(huán)境類技術(shù)的宏觀和微觀方面如前文所述的做一些改變和改進，那么可以預(yù)見，在未來5－10年時間內(nèi)，中國以清潔能源、生物工程等為代表的環(huán)境類技術(shù)將不斷實現(xiàn)突破與創(chuàng)新，其授權(quán)率和存續(xù)時長必將會有很大的提高，與其他學(xué)科的關(guān)聯(lián)度也將極大的提高。與此同時，我國環(huán)境類專利的數(shù)量與質(zhì)量大幅度的提升，也將有力推動我國建設(shè)資源節(jié)約型、環(huán)境友好型的社會，促進經(jīng)濟增長方式轉(zhuǎn)變，并最終實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展目標。本文的不足之處和可能的拓展方向在于:首先，本文僅在專利的第二層子領(lǐng)域中對環(huán)境類專利的發(fā)展情況進行了分析，并未對環(huán)境類專利的內(nèi)部發(fā)展情況進行分析，這樣可能使得分析結(jié)果較為籠統(tǒng)，導(dǎo)致制定對策方面缺乏具體針對性。其次，本文提出的宏觀對策主要為方向性建議，在實踐過程中還需要從操作層面對環(huán)境類專利發(fā)展對策進行細致的設(shè)計，并將其與微觀對策有效結(jié)合在一起，這是一個龐大的工程，有待于進行下一步更深入的研究。

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Differentia Analysis of China’s Environmental and Non-environment Technical Quality Based on the Perspective of Patent

WANG Chong-feng
(International Business College of Qingdao University，Qingdao Shandong 266071，China)

Under the influence of American financial crisis，the industry-based real economy in China is inevitably subject to strong impacts，so changing the mode of economic development is the urgent need to get rid of the financial crisis．Therefore，changing the industrial development mode and seeking new economic growth points have gradually become the consensus of the whole society．In all aspects of industrial technologies，the environmental technology is playing a direct role in the economic transition in China，while the effectiveness and performance of environmental technology directly depend on the quality level of the technology．The paper adopted the most direct result of the technology—patent for invention as the research object，and compared the quality and technical differences between environmental technologies and non-environmental technologies in related areas based on patent data．Many scholars think that the patent authorization and its surviving time represent the quality level of the patent—which means the patent with higher authorization rate and longer surviving time has higher quality than the one with lower authorization rate and shorter surviving time．This paper firstly compared of the authorization and surviving time of China’s environmental and non-environmental patents．Then it compared the technical complexity of them in terms of patent classification number．After the comparison，we found that both the quality level and the technical level of China’s environmental patent were lower than that of its adjacent non-environmental patent technology．This paper thought that the major reason was that all sectors of the society with government as the main body have not paid enough attention to the research and development of environmental patents for a long time．At last，it puts forwards suggestions on the development of China’s environmental patents．

environmental patents;non-environmental patents;patents’granting;patents’duration

F403．6

A

1002－2104(2011)11－0112－06

10．3969/j．issn．1002－2104．2011．11．019

2011－05－16

王崇鋒，博士，副教授，主要研究方向為環(huán)境經(jīng)濟學(xué)、產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟學(xué)。

(編輯:溫武軍)