呂紅剛 宋江珂 張 建
(東莞生益電子有限公司,廣東 東莞 523039)
分級(jí)分段金手指在設(shè)計(jì)上突破原始金手指的設(shè)計(jì)理念,將金手指設(shè)計(jì)為長(zhǎng)短不一或分段的結(jié)構(gòu),這樣在信號(hào)傳輸過(guò)程中形成有效的時(shí)間差,便于高頻信號(hào)的傳輸,而且可以實(shí)現(xiàn)帶電熱拔插技術(shù),對(duì)后續(xù)的升級(jí)維護(hù)有非常大的便利。另外此技術(shù)還大大促進(jìn)了基站控制設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)化和功能模塊化,實(shí)現(xiàn)一種控制板可以在不同產(chǎn)品上運(yùn)用,大大降低了成本。分級(jí)分段金手指是由國(guó)外提出的一項(xiàng)新興技術(shù),該技術(shù)具有產(chǎn)品集成度高(連接器密度高)、占用空間?。?U尺寸)、升級(jí)與維護(hù)簡(jiǎn)便(直接插拔)等優(yōu)勢(shì)。國(guó)內(nèi)頂尖通訊設(shè)備商在考察了該技術(shù)的優(yōu)勢(shì)以后將其直接運(yùn)用在CDMA基站的控制設(shè)備上面,并已經(jīng)成功將此技術(shù)推廣到TD、WCDMA、CDM2000等3G系統(tǒng)上。隨著3G網(wǎng)絡(luò)的不斷推廣,分級(jí)分段金手指也必將有著更加廣闊的前景。我司采用獲得專(zhuān)利授權(quán)的選擇性感光濕膜(后簡(jiǎn)稱(chēng)選擇濕膜)法制作分級(jí)金手指,其產(chǎn)品質(zhì)量控制能力是開(kāi)拓該類(lèi)市場(chǎng)的重要依靠。
分級(jí)金手指:使用選擇濕膜工藝及匹配流程實(shí)現(xiàn)單元內(nèi)同時(shí)制作出不同長(zhǎng)度金手指的工藝(圖1)。
分段金手指:使用選擇濕膜工藝及匹配流程實(shí)現(xiàn)同一根金手指中間按客戶要求任意長(zhǎng)度分隔的工藝(圖2)。
圖1
圖2
圖3
在鍍金手指前,采用感光濕膜,在金手指位置曝光產(chǎn)生圖形,鍍金后再完成蝕刻退膜,形成無(wú)導(dǎo)線的分級(jí)分段金手指,示意圖如圖4。
圖4
選擇濕膜法制作分級(jí)分段金手指,選擇濕膜采用圖形轉(zhuǎn)移的方式進(jìn)行生產(chǎn),圖5用魚(yú)骨圖分析影響選擇濕膜尺寸的因素:
圖5
通過(guò)魚(yú)骨圖分析,我們發(fā)現(xiàn)影響選擇濕膜尺寸超差的因素很多,人員、機(jī)器設(shè)備、物料、方法法和環(huán)境都有影響。其中,通過(guò)對(duì)人員進(jìn)行培訓(xùn),設(shè)備進(jìn)行調(diào)試維護(hù),物料進(jìn)行檢驗(yàn),環(huán)境進(jìn)行監(jiān)控,能夠有效的降低甚至消除人、機(jī)、物、環(huán)的影響。下面重點(diǎn)從方法面上對(duì)影響選擇濕膜尺寸的因素進(jìn)行分析,包括不同工藝參數(shù)、菲林尺寸補(bǔ)償控制及對(duì)位精度的設(shè)定。
影響選擇濕膜尺寸主要有選擇濕膜厚度、預(yù)烘參數(shù)、曝光能量三個(gè)方面因素影響。
3.3.1 選擇濕膜厚度的影響
采用絲網(wǎng)印刷,研究不同厚度情況下,曝光級(jí)數(shù)與厚度、濕膜寬度與厚度的影響,結(jié)果如圖6:
圖6 濕膜寬度與濕膜厚度關(guān)系
從圖6來(lái)看,隨著濕膜厚度的增加,濕膜的寬度增加明顯。濕膜厚度由25 μm增加至75 μm,濕膜寬度由0.200 mm增加至0.35 mm。分析原因,是由于濕膜是向外滲油,厚度越大,滲油就越明顯。根據(jù)此數(shù)據(jù),設(shè)定濕膜厚度40 μm ~ 45 μm,便于后續(xù)精度控制。
3.3.2 預(yù)烘參數(shù)的影響
絲印參數(shù)固定不變,控制濕膜厚度在40 μm ~45 μm范圍內(nèi),選用不同參數(shù)烘板,分析濕膜寬度分布,結(jié)果如圖7。
圖7 不同烘板參數(shù)濕膜寬度
從圖7分析,增加烘板時(shí)間或升高烘板溫度,濕膜寬度均有下降趨勢(shì),且公差會(huì)隨之減小。但提高烘板條件會(huì)增加退膜難度、增加菲林補(bǔ)償,而且在70 ℃ /30 min條件下仍可保證0.03 mm極差,因此不宜將烘板參數(shù)調(diào)高。此處選擇70 ℃/30 min烘板條件。
3.3.3 曝光能量的影響
控制濕膜厚度在40 μm ~ 45 μm,預(yù)烘參數(shù)70 ℃/30 min,試驗(yàn)選用不同曝光能量,同時(shí)記錄曝光尺,結(jié)果見(jiàn)圖8。
圖8 濕膜寬度隨曝光能量變化趨勢(shì)圖
從圖8的結(jié)果來(lái)看,隨著曝光指數(shù)的增加,曝光尺曝光級(jí)數(shù)和濕膜寬度相應(yīng)增加。選取160~200的曝光指數(shù)最佳,此時(shí)濕膜寬度不會(huì)過(guò)小、區(qū)間內(nèi)變化不明顯、且公差可控。
3.3.4 綜合結(jié)果
絲網(wǎng)印刷,濕膜厚度控制40 μm ~ 45 μm,70 ℃/30 min烘板,曝光指數(shù)160~200,為選擇濕膜制作最優(yōu)條件。
3.4.1 菲林尺寸、濕膜后寬度與成品間距(L2)對(duì)應(yīng)關(guān)系分析
以菲林尺寸0.20 mm設(shè)計(jì)值進(jìn)行設(shè)計(jì),按前述優(yōu)選參數(shù)進(jìn)行制作,測(cè)量濕膜制作后和成品間距(L2)數(shù)據(jù),結(jié)果如表1。
表1
3.4.2 對(duì)菲林進(jìn)行補(bǔ)償
根據(jù)以上數(shù)據(jù),將菲林設(shè)計(jì)補(bǔ)償設(shè)為-0.023 mm,再次制作測(cè)量精度結(jié)果,蝕刻Ⅱ后分段間距范圍控制在0.19 mm ~ 0.22 mm,Cpk值為2.1,較菲林未補(bǔ)償時(shí)進(jìn)一步提升。
3.5.1 增加對(duì)位焊盤(pán)和檢查焊盤(pán)
由于L1精度主要受選擇濕膜位置與圖形對(duì)位精度影響,為了提高手動(dòng)對(duì)位精度,在每個(gè)單元對(duì)角增加對(duì)位焊盤(pán)與檢查焊盤(pán),對(duì)位焊盤(pán)用于對(duì)位員工觀察,檢查焊盤(pán)用于選擇濕膜顯影后員工檢查對(duì)位情況。根據(jù)設(shè)計(jì)公差±0.15 mm要求,此處對(duì)位精度設(shè)置0.05 mm即可。
按前述控制條件增加對(duì)位焊盤(pán)和檢查焊盤(pán),制作結(jié)果,長(zhǎng)度能力Cpk 3.32,能力足夠,方法有效。
在確定以上關(guān)鍵過(guò)程控制點(diǎn)后,建立了工藝規(guī)范與控制計(jì)劃,主要包括:
(1)選擇性感光濕膜物料控制;
(2)絲印參數(shù)與濕膜厚度控制;
(3)預(yù)烘參數(shù)控制;
(4)對(duì)位圖形設(shè)計(jì)與對(duì)位方法;
(5)曝光參數(shù)控制;
(6)顯影參數(shù)控制;
(7)顯影后鍍金手指前濕膜尺寸標(biāo)準(zhǔn)與抽檢;
(8)成品抽檢。
按以上規(guī)范進(jìn)行批量生產(chǎn)后,持續(xù)收集數(shù)據(jù),分級(jí)分段金手指尺寸L1精度能力可達(dá)到1.60,L2精度能力可達(dá)到2.20。
在建立規(guī)范后,極大的改變了原制造過(guò)程控制不穩(wěn)定問(wèn)題,過(guò)程重復(fù)性高,制作窗口寬,過(guò)程中可及時(shí)發(fā)現(xiàn)異常并及時(shí)糾正。產(chǎn)品合格率大幅提高,提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定性,為開(kāi)拓該類(lèi)產(chǎn)品市場(chǎng),打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
[1]林金堵, 龔永林.信息產(chǎn)業(yè)部電子行業(yè)職業(yè)技能鑒定指導(dǎo)中心[M].現(xiàn)代印制電路基礎(chǔ), 印制電路行業(yè)協(xié)會(huì), 2001,2.