數(shù)字化X射線成像系統(tǒng)MTF的刀口測量法

龔紹潤，高 峰，徐雅潔

(天津大學(xué)精密儀器與光電子工程學(xué)院，天津 300072)

調(diào)制傳遞函數(shù)(modulation transfer function，MTF)是對線性影像系統(tǒng)空間頻率傳輸特性的定量描述，是影像評價方法中的重要進(jìn)展．此前普遍使用定性描述指標(biāo)，例如影像密度、對比度、清晰度、分辨率及失真度等來評價成像系統(tǒng)的影像質(zhì)量，但其結(jié)果受個人主觀因素影響大．近年來隨數(shù)字化CR、DR成像技術(shù)的迅速發(fā)展，MTF作為客觀指標(biāo)已成為放射成像工作者和研究者所關(guān)注的重要影像評價手段．同時，MTF也是獲得成像系統(tǒng)探測量子效率(detective quantum efficiency，DQE)、噪聲功率譜(noise power spectra，NPS)及噪聲等價量子數(shù)(noise equivalent quanta，NEQ)的必需參數(shù)．

要定量地評價DR系統(tǒng)的固有成像質(zhì)量，只需計算不受個人主觀因素影響的系統(tǒng)固有預(yù)采樣MTF(pre-MTF)[1]，為簡明起見，文中所有 pre-MTF均用MTF表示．實際中系統(tǒng)MTF常由以下3種擴(kuò)散函數(shù)來計算 ：點擴(kuò)散函數(shù)(point spread function，PSF) 、線擴(kuò)散函數(shù)[5](line spread function，LSF)和邊緣響應(yīng)函數(shù)(edge respond function，ERF)[6-8]，它們分別描述經(jīng)成像系統(tǒng)后點、線和邊緣彌散程度，能夠間接地反映系統(tǒng)成像能力．

狹縫法(slit camera)和刀口法(edge)已被國際放射學(xué)會公認(rèn)為是獲得 MTF的較好方法，日本將狹縫法定義成測量 MTF的標(biāo)準(zhǔn)方法[1]，刀口法也已被國際電氣技術(shù)委員會(IEC)指定為測量系統(tǒng) MTF的標(biāo)準(zhǔn)方法[6,9-10]．將通過狹縫法和刀口法所獲得的同一系統(tǒng)下不同 MTF曲線進(jìn)行比較，可知前者在高頻域有較高信噪比，而后者在低頻域有較高信噪比[7]．通過狹縫法獲得的系統(tǒng)MTF精確，且操作簡便、方法成熟．但因其加工難度高(狹縫寬度≤10mμ，誤差在1mμ內(nèi))，導(dǎo)致在實際應(yīng)用中此法較難被推廣．由于刀口法測量儀器自加工相對容易，在科研實驗和常規(guī)檢測中被廣泛使用．

對通用X 射線成像設(shè)備進(jìn)行MTF測量時，測量條件和參數(shù)選擇對最終 MTF測量結(jié)果影響較大，所以在IEC標(biāo)準(zhǔn)中對其進(jìn)行了嚴(yán)格規(guī)定[11-13]，對不同級別測量要求做了詳細(xì)說明．例如在 1994年版的IEC61267里就規(guī)定了標(biāo)準(zhǔn)射線等級的要求，包括對應(yīng)距離參數(shù)、射線等級編號、X射線管電壓、半值層、附加過濾層和標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的信噪比(signal-noise ratio，SNR)．上述規(guī)定只適用于通用 X 射線成像設(shè)備，非通用設(shè)備中很多關(guān)鍵參數(shù)如光束大小及強度與通用設(shè)備差別很大，所以對于非通用設(shè)備如乳腺 X 射線成像系統(tǒng)和小動物放射成像系統(tǒng)等其他專用的設(shè)備上述測量標(biāo)準(zhǔn)已不再適用．由上可知，在評估實驗室小動物放射成像系統(tǒng)成像質(zhì)量時無法遵從上述標(biāo)準(zhǔn)實行，而只能進(jìn)行定量分析，無法將其結(jié)果與其他成像系統(tǒng)進(jìn)行橫向?qū)Ρ龋虼?，筆者利用刀口法對 MTF進(jìn)行相對測量．雖然本文討論的是基于常規(guī)接觸模式下系統(tǒng) MTF測量，但此方法將為今后在相襯成像模式下定量評估系統(tǒng)成像質(zhì)量提供指導(dǎo)和幫助．

1 刀口法測量系統(tǒng)MTF

通常刀口方向與圖像采樣方向存在一定角度，如圖 1所示，要想得到精確的邊緣響應(yīng)函數(shù) ERF必須對刀口附近圖像進(jìn)行過采樣[1,6]，經(jīng)插值擬合成ERF(x)．想從邊緣響應(yīng)函數(shù) ERF(x)運算得到線擴(kuò)散函數(shù) LSF(x)，對ERF(x)進(jìn)行差分運算或使用卷積濾波器[-0.5，0，0.5]均可．

LSF(x)函數(shù)經(jīng)傅里葉變換后再取模，就能得到其調(diào)制傳遞函數(shù)

中FT為傅里葉變換．通常在描述系統(tǒng)調(diào)制傳遞函數(shù)時使用歸一化處理后的結(jié)果，其公式為

一般來說，調(diào)制傳遞函數(shù)低頻域主要決定圖像的對比度，高頻域決定圖像細(xì)節(jié)的重現(xiàn)能力及邊緣處清晰度．從 MTF曲線的包絡(luò)面積可判斷系統(tǒng)成像質(zhì)量優(yōu)劣，通常希望成像系統(tǒng) MTF曲線包括的面積越大越好．

圖1 產(chǎn)生ERF曲線的數(shù)值模型Fig.1 Numerical model for ERF curves

2 采樣率及噪聲對系統(tǒng)MTF的影響

利用過采樣重構(gòu)ERF，需將刀口與探測器矩陣成一定傾角擺放[1,6,10]，通常將儀器邊緣和數(shù)字化探測器陣列方向之間傾角 α 保持為2°～6°(對應(yīng)插值數(shù)為9～29 條)，理論上 α 越小(插值數(shù)越高)所獲曲線就越精確，但實際中常由于探測器自身各像素點響應(yīng)差異性及刀口加工精度不高等問題的存在導(dǎo)致獲得的LSF曲線劇烈振蕩，最終影響系統(tǒng)MTF曲線的準(zhǔn)確性．下面將借助數(shù)值模擬工具來研究采樣率及噪聲對系統(tǒng)MTF曲線的影響．

2.1 過采樣ERF重構(gòu)方法

圖1中各子圖的灰色部分均表示鉛板覆蓋區(qū)域，粗黑線表示經(jīng)同軸準(zhǔn)直和理想切割后的刀口邊緣．圖 1(a)、圖 1(b)和圖 1(c)為采用刀口法進(jìn)行 16條、8條和 4條插值時(對應(yīng)的傾角α 分別為 3.58°、7.13°和 14°)的示意圖．采用16條插值來重構(gòu)過采樣ERF曲線如圖1(a)所示，對應(yīng)插值順序從1到16，然后從17到32，依此類推完成整條ERF曲線的重構(gòu)．

2.2 模擬模型中各參數(shù)選擇及處理方法

模擬真實情況下經(jīng)鉛板衰減后的強度值和未經(jīng)鉛板衰減的“空載”強度平均值分別為50和13,000(實驗系統(tǒng)使用的為 14位模數(shù)轉(zhuǎn)換器，其強度為13,000時仍工作在[0，16,384]線性響應(yīng)范圍內(nèi))．假設(shè)各像素點偏移量及響應(yīng)特性完全一致，無噪聲時刀口邊緣處各像素點的強度值為 50x＋13,000(1-x)(最簡便的處理方式是假設(shè)強度響應(yīng)等于不同衰減下強度值乘以其對應(yīng)的面積百分比之和，此處x表示該位置上鉛板覆蓋區(qū)域占單個像素面積百分?jǐn)?shù))．重構(gòu)過采樣ERF曲線時，寬度固定為3.2,mm(對應(yīng)插值的列數(shù)為 64)，也就是說采用 16條插值時矩陣大小為16×64(重構(gòu)后 ERF長度為 1,024)，8條插值時矩陣為 8×64(重構(gòu)后 ERF長度為 512)，4條插值時矩陣為4×64(重構(gòu)后ERF長度為256)．考慮到實際成像中 X射線落在相應(yīng)像素區(qū)域內(nèi)被記錄前，會在穿過熒光屏過程中與材料相互作用導(dǎo)致 X射線束彌散(滿足高斯分布)，故將插值后 ERF曲線與熒光屏PSF做卷積即可獲得重構(gòu)后 ERF．參照實驗室小動物放射成像系統(tǒng)中探測器像素點大小和熒光屏材料及厚度，選擇模擬中像素大小為 50,μm，熒光屏 PSF半高寬(full width at half maximum，F(xiàn)WHM)為100,μm．為模擬真實探測器噪聲對系統(tǒng)ERF及MTF的影響，根據(jù)實際探測過程中鉛板區(qū)域和“空載”區(qū)域噪聲水平添加隨機噪聲，鉛板區(qū)域隨機噪聲方差為50×0.2，“空載”區(qū)域隨機噪聲方差分別選取13,000×0.005、13,000×0.01進(jìn)行研究．

2.3 MTF曲線分析

圖 2(a)、圖 2(d)和圖 2(g)分別為 4條、8條和16條插值時在無噪聲、0.5%噪聲及 1%噪聲下獲得的ERF曲線，雖然對應(yīng)于右端“空載”區(qū)出現(xiàn)較高噪聲，但仍較好地完成了對 ERF曲線的采樣．與圖2(b)、圖 2(e)和圖 2(h)比較不難看出，無噪聲情況下4條插值時由于采樣間距較大，并未能采樣到LSF曲線的峰值，此處驗證了插值條數(shù)越高對 LSF曲線描述越精確，但卻同時發(fā)現(xiàn)在高插值數(shù)下其 LSF曲線右端“空載”區(qū)噪聲越明顯．根據(jù)奈奎斯特準(zhǔn)則，空間域的非足夠采樣將導(dǎo)致信號在頻率域的混疊，這將嚴(yán)重影響MTF曲線在高頻域的準(zhǔn)確性．在過采樣情況下，將多條過采樣 ERF曲線取平均值再做差分運算即可減少單條LSF曲線右端的噪聲水平．此處的模擬研究中并未采用任何降噪措施，圖2(b)、圖2(e)和圖2(g)對應(yīng)不同插值數(shù)和噪聲水平下的MTF曲線．

圖2 不同采樣率及噪聲水平下ERF、LSF和MTF曲線Fig.2 Curves of ERF, LSF and MTF under different sampling rates and noise levels

圖 2(c)、圖 2(f)和圖 2(i)中由于模擬像素點大小為 50,μm，可知其對應(yīng)極限頻率為 10,Lp/mm(line pair per millimeter，每毫米內(nèi)線對數(shù))，從圖中不難看出系統(tǒng) MTF值在 10,Lp/mm時已幾乎為零．為進(jìn)行定量分析可將圖 2(c)、圖 2(f)和圖 2(i)中不同插值數(shù)及噪聲水平下幾個離散空間頻率對應(yīng)的MTF值整理成表 1．從前面理論分析過程不難得出：無噪聲情況下插值數(shù)越高時，獲得的MTF與系統(tǒng)理想MTF值越接近．圖 2(c)和圖 2(f)中 4條和 8條插值情況下的無噪聲MTF值均小于圖2(i)中16條插值無噪聲MTF值，且兩者相較 16條插值下 MTF值的相對偏差隨著空間頻率值增高不斷增大．引入表 2中均方根誤差來定量描述不同噪聲水平與無噪聲時MTF的偏離量，假設(shè)16條插值下無噪聲MTF為真實值．從表 2數(shù)據(jù)不難看出：無噪聲時插值數(shù)越大，相對“真實值”均方根誤差越??；然而在相同噪聲下，插值數(shù)越大時其均方根誤差越大．為減少由于非充分采樣引入的頻率混淆及過采樣下噪聲對結(jié)果的影響，實驗中將采用多條過采樣 ERF曲線取平均后的結(jié)果來計算系統(tǒng)MTF值．

表1 在不同噪聲水平下各空間頻率對應(yīng)的MTF值Tab.1 MTFs under different spatial frequencies and noise levels

表2 不同噪聲水平下各插值數(shù)對應(yīng)的均方根誤差值Tab.2 Root mean square errors under different noise levels and interpolations

3 實驗準(zhǔn)備

由于CMOS比CCD在價格、能耗及數(shù)字化處理速度等方面都占有優(yōu)勢，圖3(a)所示DR成像系統(tǒng)選用了CMOS探測器．系統(tǒng)相關(guān)指標(biāo)如下：X射線陽極采用鎢靶，并帶有0.2,mm厚鈹窗，標(biāo)稱微焦點源直徑50,μm，點源空間半角β＝10.8°，140μm厚材料為氧硫化二釓的 Kodak熒光屏，CMOS探測器有效像素點大小為50μm(對應(yīng)fNyquist＝10,Lp/mm)，管電壓在5～45,kV內(nèi)可調(diào)，管電流固定為0.5,mA，曝光時間在0.1～19.9,s內(nèi)可調(diào)．圖 3(b)所示的探測器 D可通過移動軸在與微焦點源S距離為 0.6～1.8,m范圍內(nèi)自由移動．該系統(tǒng)現(xiàn)在主要被用于X射線相襯成像方法的研究，本文做常規(guī)接觸模式下系統(tǒng)MTF測量研究是為今后在相襯成像模式下定量評估系統(tǒng)成像質(zhì)量奠定實驗基礎(chǔ)．文中所有實驗將探測器保持在最高位置，使其到微焦點源S的距離固定為 0.6,m．為減少光源曝光隨機性影響，文中用于計算 MTF值的圖像均為 10幅圖像求和后再取多段過采樣 LSF曲線的平均結(jié)果．實驗中其他參數(shù)的選擇如下．

圖3 DR成像系統(tǒng)及其結(jié)構(gòu)示意Fig.3 DR imaging system and its sketch

3.1 曝光管電壓及曝光時間

管電壓及時間的選擇從以下2方面綜合考慮：探測器上不放置任何物體(空載)時強度圖像的均勻性和各管電壓下產(chǎn)生 X射線光子能量的分布范圍．表3為不同曝光管電壓及曝光時間下成像中心區(qū)域強度標(biāo)準(zhǔn)差與其平均值百分比．

表 3數(shù)據(jù)反映出 CMOS板響應(yīng)的均勻性．使用33,kV和35,kV曝光管電壓時，任何曝光時間下獲得的圖像均勻性明顯好于25,kV和30,kV時．在此無需考慮更高管電壓情況，因為管電壓越高產(chǎn)生的光子穿透力越強，會增加LSF曲線高頻噪聲．從圖4不同管電壓產(chǎn)生 X射線光子能量分布范圍可知[14]，當(dāng)管電壓為33,kV時，其產(chǎn)生的光子能量峰值出現(xiàn)在25,keV左右，適用于乳腺或其他軟組織成像，為系統(tǒng)用于乳腺成像研究奠定了基礎(chǔ)．

表3 不同條件下成像中心區(qū)域強度標(biāo)準(zhǔn)差與其平均值百分比Tab.3 Percentage of the intensity’s standard deviation to its mean value in the central imaging area under different tube voltages and exposure time%

圖4 不同管電壓下X射線光子能量分布Fig.4 Photon energy distributions of X-ray under different tube voltages

3.2 刀口法測量材料的選擇

刀口法測量材料的選擇對最終MTF值也有較大影響，需綜合考慮材料相對該曝光管電壓下 X射線的衰減特性及材料厚度對 LSF曲線兩方面的影響．根據(jù)不同材料對X射線的衰減程度高低不同，可將所獲圖像分為黑白過渡和灰白過渡2種情況，灰白過渡(仍有部分 X射線穿過材料)會導(dǎo)致最終 MTF值高頻分量偏高[6]．表 4是選取曝光管電壓 33 kV、曝光時間為10 s時，不同材料和不同厚度下感興趣區(qū)域強度平均值、標(biāo)準(zhǔn)差及偏差百分比．

表4 不同材料不同厚度下感興趣區(qū)域強度平均值、標(biāo)準(zhǔn)差及偏差百分比Tab.4 Intensity’s mean values，intensity’s standard deviations，and percentages of the standard deviation to its mean value of different materials with different thickness in the interest area

從表4不難看出，選擇鉛板材料時其圖像強度平均值和標(biāo)準(zhǔn)差均小于黃銅板，較低平均值和較小方差能夠減少最終 MTF值高頻誤差．1,mm 厚鉛板的強度平均值和標(biāo)準(zhǔn)差與 2,mm厚鉛板相差無幾，考慮到實際中將厚鉛板完全擺放水平具有相當(dāng)難度，傾斜時ERF引入的誤差會嚴(yán)重影響 MTF值，所以實驗中選擇1,mm厚鉛板進(jìn)行MTF相對測量．

4 實驗結(jié)果分析及討論

為了更直觀地對傳統(tǒng)成像質(zhì)量評估方法和 MTF客觀評價方法進(jìn)行比較，首先使用線對卡來分析系統(tǒng)的成像質(zhì)量，隨后介紹了使用刀口儀器有效測量系統(tǒng)MTF值的方法．

4.1 線對卡分析

實驗仿體為 Gammex公司 X射線測試模型MA0647，該模型對 X射線強吸收材料為金鎳合金，線對卡的測試范圍為5～20,Lp/mm．圖5為曝光管電壓 33,kV、曝光時間 10,s條件下獲取的圖像．調(diào)整圖像窗寬和窗位后，利用肉眼尚可清楚分辨出9,Lp/mm，然而對于10,Lp/mm時則比較模糊，可見利用此高精度線對卡進(jìn)行系統(tǒng)成像質(zhì)量評價時受主觀因素的影響較大．從圖 6中 5～11,Lp/mm 強度剖面圖可清楚分辨出 5～9,Lp/mm的強度剖面圖，10,Lp/mm 時強度對比度已不太高，利用此強度剖面圖分析后仍說明采用線對卡評估時最終成像質(zhì)量受主觀因素影響較大．圖6中11,Lp/mm的線對卡圖像對比度已被嚴(yán)重破壞，無法正確辨認(rèn)．

圖5 線對卡圖像Fig.5 Image of the test line pair card

首先根據(jù) 5～11,Lp/mm 強度剖面中數(shù)據(jù)定位到每個線對圖像處，找到某一空間頻率下最小值和其周圍的最大值，從每個空間頻率下的最小值和最大值轉(zhuǎn)換成表 5中對應(yīng)調(diào)制度．以上數(shù)據(jù)不難證明，空間頻率值增大時其對應(yīng)調(diào)制度不斷減小，由于到 11,Lp/mm 時對應(yīng)的調(diào)制度已經(jīng)下降到 1.14%，導(dǎo)致最終線對卡圖像已經(jīng)無法辨認(rèn)．

圖6 線對卡5～11 Lp/mm圖像強度剖面圖Fig.6 Intensity profiles of the test card in the range from 5 Lp/mm to 11 Lp/mm

表5 不同空間頻率對應(yīng)的調(diào)制度Tab.5 Modulation degrees under different spatial frequencies

4.2 MTF測量

圖 7所示刀口法測試儀器是將經(jīng)微納設(shè)備加工后的黃銅及鉛板材料與有機玻璃支架組裝而成，支架上放置的刀口測試材料可隨時更換為黃銅板或鉛板，實驗中需將精細(xì)加工后刀口放置于視場中心，利用支架上的3顆螺絲可對整個測試儀器進(jìn)行水平性調(diào)整．

圖7 刀口法測試儀器Fig.7 Equipment used in the edge measurement

實驗中將刀口邊緣和 CMOS探測器陣列方向擺放成 3.57°，對應(yīng)插值數(shù)為 16條．圖 8(a)為經(jīng)軟件自動擬合生成的曲線．圖 8(a)中 ERF曲線較光滑，清楚地展示了刀口邊緣突變效應(yīng)．對 ERF曲線做差分或卷積濾波后再經(jīng)長度截斷可得圖 8(b)LSF曲線，不難發(fā)現(xiàn)圖中 LSF曲線左右兩端的高頻噪聲較大，而且中心位置的沖激響應(yīng)也出現(xiàn)急劇變化，這是由于精細(xì)加工刀口面不平整所致．圖8(c)中MTF曲線的低頻區(qū)衰減較快，在 5 Lp/mm 的空間頻率處其MTF值已經(jīng)衰減到 0.3以下，與線對卡在 5 Lp/mm的 MTF值 0.38相差較大，獲取的 MTF值和線對卡值在10 Lp/mm時都衰減到0.07左右．該結(jié)果中由于包括了LSF曲線中高頻噪聲影響，致使對系統(tǒng)成像質(zhì)量的評價不夠準(zhǔn)確．

圖8 傾角3.57°時利用刀口法獲得的ERF、LSF及MTF曲線Fig.8 Curves of ERF, LSF and MTF with the edge positioned at a slight angle of 3.57° to the detector array

前面實驗結(jié)果可說明，由于傾角 3.57°較小(插值數(shù)16條)，CMOS探測器上各像素點響應(yīng)差異性較大導(dǎo)致LSF曲線高頻噪聲較大(如圖8(b)中LSF曲線所示)，最終求得的MTF曲線與表5中數(shù)據(jù)相差太大，沒能正確反映出系統(tǒng)成像能力．下面對實驗結(jié)果進(jìn)行指數(shù)校正．首先根據(jù) ERF曲線的特征將其分成左、中、右 3大段．隨后分別對 ERF曲線左側(cè)和右側(cè)進(jìn)行指數(shù)擬合，曲線兩側(cè)的細(xì)小波動經(jīng)處理后基本為一條直線，再在最小二乘法的指導(dǎo)下，對 ERF曲線的階躍響應(yīng)采用分段指數(shù)擬合，擬合結(jié)果見圖 9(a)．?dāng)M合前后 ERF曲線重合度較高，在強度值[1,250，12,260]階躍變化段，經(jīng)指數(shù)擬合前后的均方根誤差為72.6，相對于突變強度值來說是較小的，數(shù)據(jù)擬合極大地減少了像素點差異性引入的奇異值．圖 9(b)中未截斷拖尾的LSF曲線是從經(jīng)指數(shù)擬合后的ERF曲線差分后獲得的，與圖8(b)中LSF曲線相比，高頻噪聲得到抑制．隨后為解決紅色LSF曲線左側(cè)的延伸，采用設(shè)定閾值截斷并對截斷部分進(jìn)行指數(shù)延伸后可得到圖9(b)中截斷拖尾后的 LSF曲線．圖 9(b)中原始LSF曲線和擬合后LSF曲線的峰值和附近點強度值都較好地吻合．從圖 9(c)中不難看出，后者較前者在[0,Lp/mm，8,Lp/mm]范圍內(nèi)MTF響應(yīng)均要高一些，與線對卡值較接近．說明原始 ERF曲線經(jīng)指數(shù)擬合后能夠消除因刀口加工精度不高引入的奇異點，然后將LSF曲線拖尾截斷再經(jīng)指數(shù)延伸后能夠提高M(jìn)TF的低頻響應(yīng)值并降低高頻噪聲的影響．將最終 MTF曲線和線對卡值進(jìn)行比較不難觀察到，前者略微低于后者，源自于此測試方法仍存在一些不可避免的系統(tǒng)誤差，例如：傾斜角度擺放隨意導(dǎo)致插值非整數(shù)而產(chǎn)生的系統(tǒng)誤差；由于載物臺的存在導(dǎo)致刀口邊緣距探測器有一定距離，且距離越大導(dǎo)致最終 MTF的測量誤差越大[7]．利用本文介紹的方法適當(dāng)?shù)剡x擇傾角后，再對原始 ERF曲線進(jìn)行指數(shù)函數(shù)分段擬合，然后對LSF曲線拖尾截斷獲得圖9(c)中MTF曲線，相對于圖 8(c)已更為接近系統(tǒng)MTF值，證明了利用該實驗方法及測量材料模型可以更為準(zhǔn)確地得到 X射線成像系統(tǒng) MTF曲線，說明此方法和實驗操作對獲取 MTF曲線的可行性及有效性．要想通過此法獲取系統(tǒng)精確MTF值仍需克服刀口法自身的缺陷及機械加工上的配合，例如克服因插值非整數(shù)產(chǎn)生的系統(tǒng)誤差、強衰減材料及其厚度的選擇、刀口邊緣加工精度、探測器和刀口擺放時相對于光源的水平性判斷等諸多因素．

圖9 經(jīng)指數(shù)曲線擬合及截斷拖尾后獲得的ERF、LSF及MTF曲線Fig.9 Curves of ERF, LSF and MTF after exponential curve fitting and tail portion truncating

5 結(jié) 語

采用刀口法適當(dāng)選擇傾角(4°左右)，對原始ERF曲線進(jìn)行指數(shù)擬合并對 LSF曲線拖尾截斷，能夠有效地測量DR系統(tǒng)的MTF曲線．選擇合適的傾角能保證滿足奈奎斯特采樣頻率的要求，減少信號混疊，通過采用多條過采樣 ERF曲線取平均值在一定程度上抑制由于探測器本身各像素點響應(yīng)差異性引入的高頻噪聲影響，然后對原始 ERF曲線利用指數(shù)函數(shù)進(jìn)行分段擬合后再截斷 LSF曲線拖尾現(xiàn)象可以提高 MTF低頻響應(yīng)并抑制高頻噪聲的影響，實驗結(jié)果給出了系統(tǒng)較為準(zhǔn)確的 MTF曲線．綜上所述，利用文中介紹的方法對DR系統(tǒng)的MTF值進(jìn)行有效測量是可行的．

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