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    鉬基量子點制備的研究進展

    2023-11-09 03:55:00王佳樂武宏大楊占旭
    關(guān)鍵詞:鉬酸前體熒光

    王佳樂, 武宏大, 韓 喬, 楊占旭

    (遼寧石油化工大學(xué) 石油化工學(xué)院,遼寧 撫順 113001)

    鉬是一種擁有寬泛價態(tài)變化范圍(+2~+6)的變價金屬,其與其他元素結(jié)合形成的鉬基材料(MoS2、MoO2/MoO3、MoP、Mo2C、Mo2N、MoSe2等)在過去的幾十年被廣泛研究。豐富的活性位點、較強的酸堿適應(yīng)能力、可調(diào)的禁帶寬度,以及其優(yōu)異的導(dǎo)熱、導(dǎo)電性、易摻雜、多變的化學(xué)組分等特性使其在電催化[1]、光催化[2]、儲能材料[3]和光熱轉(zhuǎn)化等方面表現(xiàn)出巨大的潛力。

    量子點(quantum dots,QDs)通常是指粒徑小于20 nm 的納米顆粒,其粒徑小于或接近激子波爾半徑。QDs 在三個維度上受到的限制為其帶來了較高的表面積和體積比、較高的邊緣原子濃度、量子限制效應(yīng)和易摻雜等特性,同時大大增強了其催化活性和熒光量子產(chǎn)率,為材料帶來了奇特的催化效果和光電特性。近年來,C、Si 等無機元素QDs 和鈣鈦礦等半導(dǎo)體QDs 得到了充分發(fā)展,在電催化[4]、光催化[5]、光電器件[6]、太陽能電池[7]、儲能材料[8]、傳感[9]、生物醫(yī)藥[10]等領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用。

    鉬基材料QDs 因自身量子限制效應(yīng)和邊緣原子濃度的提升,其表面活性得到了大幅增強。MoS2QDs 因具有較高的熒光強度,在離子、分子傳感[11]和生物成像[12]等方面被廣泛應(yīng)用;Mo2C、MoOx、MoSe2QDs 在可見光和近紅外(NIR)區(qū)域顯示出的強烈局域表面等離子體共振(LSPR)效應(yīng)使其在光熱轉(zhuǎn)換[13-14]和生物成像[15]方面初見成效。超小尺寸的Mo2N、MoP QDs 能夠暴露大量的不飽和活性位點,在析氫反應(yīng)[16-19]中表現(xiàn)出優(yōu)異的活性。QDs 的物理化學(xué)性質(zhì)與其表面狀態(tài)密切相關(guān),通過開發(fā)不同的合成方式可得到功能各異的鉬基QDs。研究者對MoS2QDs 的制備方法已進行了多次總結(jié)[20-23],本文主要介紹MoS2QDs 之外的鉬基QDs 的制備方法。

    1 MoS2

    MoS2QDs 因其優(yōu)異的熒光性能、催化活性和良好的生物相容性引起了研究者的關(guān)注。MoS2QDs的合成方法按照合成時起始材料的不同可分為自下而上法和自上而下法。自下而上法是通過可溶性鉬鹽與含硫化合物反應(yīng)而獲得MoS2QDs 的方法,其中溶劑熱法[24-26]為典型的合成方法;自上而下法主要是通過物理或化學(xué)手段將MoS2塊狀原料粉碎、剝離,最終獲得QDs 的方法,當前主要的合成方法有超聲剝離法[27-28]、化學(xué)刻蝕法[29-31]和電化學(xué)剝離法[32-33]等。超聲剝離法制備MoS2QDs 示意圖如圖1所示[34]。由圖1 可知,超聲空化產(chǎn)生的微射流剪切力沖擊波和壓力腔等微機械化學(xué)效應(yīng)破壞MoS2層間范德華力,形成了單層納米片和QDs。為解決超聲剝離法中存在的產(chǎn)率低、耗時長等缺陷,可對塊體進行研磨[35-36]、淬火[37-38]、插層[39-41]等預(yù)處理以減小原料尺寸?;瘜W(xué)刻蝕法利用氧化劑、還原劑或加熱后的有機溶劑等對材料進行刻蝕處理,將大塊材料切割裂解成納米材料及QDs。電化學(xué)剝離法則主要依賴反應(yīng)過程中生成的OH 自由基對MoS2進行剝離產(chǎn)生QDs。溶劑熱法和化學(xué)刻蝕法通常可以簡單高效地獲得大量MoS2QDs,但含硫化合物在水熱過程中產(chǎn)生的H2S 氣體和刻蝕后產(chǎn)生的廢液廢固對環(huán)境造成較大污染,難以無害化處理;超聲剝離法一般不產(chǎn)生副產(chǎn)物,但也存在時間長、能耗大等不足;電化學(xué)剝離法具有更快的速度和更低的能耗,值得進一步研究發(fā)展。

    圖1 超聲剝離法制備MoS2 QDs 示意圖Fig.1 Schematic diagram of MoS2 QDs prepared by ultrasonic peeling

    2 MoOx

    MoOxQDs(x=2、3)作為一種過渡金屬氧化物,具有較高的穩(wěn)定性、較低的毒性和較好的生物相容性,出色的LSPR 性能證明其是一種優(yōu)秀的光催化劑。MoOxQDs 優(yōu)良的性能吸引了越來越多的科研人員將注意力放在其合成和應(yīng)用上。研究者發(fā)現(xiàn),鉬前體(鉬酸鹽或氯化鉬等)與一些還原劑[42]經(jīng)過簡單的水熱過程即可得到MoOxQDs;也可在體系中加入石墨烯[43-44]或其他碳材料[45]作為基底分散制得QDs。在水熱過程中,鉬前體在高溫高壓和還原劑的作用下生成微小晶核并生長,大分子還原劑或在反應(yīng)前加入的封端劑將生長后的晶核包裹形成QDs。表面的大分子還原劑或封端劑可提高QDs 在溶劑中的分散性,避免其團聚。在水熱合成時,反應(yīng)時間、還原劑的濃度和封端劑的種類對QDs 的光學(xué)性質(zhì)均表現(xiàn)出強相關(guān)性。其中,雜原子摻雜后的MoOxQDs 的光學(xué)性質(zhì)展現(xiàn)出顯著的pH依賴性[42,46]。H.Y.CAO 等[42]通過加入氨水和以磷鉬酸為鉬源分別合成了N 摻雜和N、P 共摻雜的MoOxQDs。N 原子提供了足夠的自由電子以實現(xiàn)可調(diào)諧的光學(xué)特性,所得MoOxQDs 的熒光強度和LSPR 的峰位顯示出顯著的pH 依賴性。

    除了上述自下而上的制備方法外,也可由MoO3塊體自上而下制備MoOxQDs。其中,簡單高效的刻蝕法引起了科研人員的注意。通過氧化劑或還原劑進行熱處理,塊體材料在化學(xué)刻蝕下逐漸破碎,剝離成片層并最終形成QDs。S.J.XIAO等[47-48]和Z.Y.ZHANG 等[49]選 用 氧 化 劑H2O2和K2MnO4對MoO3進行氧化刻蝕,獲得了MoOxQDs。Z.Y.ZHANG 等[49]采用梯度氧化法合成的QDs 具有高達24.5%的熒光量子產(chǎn)率。乙二醇[50]、油胺等還原劑也被用于MoOxQDs 的制備。S.P.QI 等[51]以油胺和油酸的混合液為還原刻蝕劑,加熱MoO3獲得了富含氧空位的MoO3-xQDs。油胺作為還原劑破碎粉體,在油胺中胺基的配合下,油酸在MoO3中形成氧空位,獲得的MoO3-xQDs 在可見光和NIR 區(qū)域顯示出強烈的LSPR 效應(yīng)。氧化刻蝕和還原刻蝕雖然簡單高效,但在刻蝕過程中產(chǎn)生的副產(chǎn)物給QDs 的純化帶來困難,且強氧化或還原作用的試劑易對水體造成污染。與氧化刻蝕和還原刻蝕相比,光刻蝕更加綠色環(huán)保。X.L.LU 等[52]在研究MoO3納米片的光導(dǎo)致變色性能過程中,通過觀察MoO3納米片在紫外光照射后發(fā)生的形態(tài)變化,提出了一種新的刻蝕機制,即光刻蝕。光刻蝕制備MoO3-xQDs 示意圖如圖2 所示。

    圖2 光刻蝕制備MoO3-x QDs 示意圖Fig.2 Schematic diagram of MoO3-x QDs prepared by photolithography

    由圖2 可知,MoO3在受到光激發(fā)之后,產(chǎn)生空穴氧化破壞晶體,量子尺寸效應(yīng)引發(fā)尺寸選擇性腐蝕,形成了帶隙大于光子能量的MoO3-xQDs;光生空穴氧化水或氫氧根產(chǎn)生的羥基自由基在刻蝕過程中起到了關(guān)鍵作用[33]。超聲法是制備QDs 的主要方法之一,然而低產(chǎn)率、高能耗等缺陷制約了超聲法的推廣。為了提高超聲效果,可將超聲與刻蝕法結(jié)合。超聲過程中產(chǎn)生的空化效果會提高溶液中的化學(xué)反應(yīng)速率,加速刻蝕的進行,提高QDs 的產(chǎn)率。強酸是一種高效的刻蝕劑,MoS2塊體在H2SO4中超聲不同時間可得到單層薄膜、多孔納米片 和QDs 等 結(jié) 構(gòu)[44]。據(jù) 此,D.J.BORAH 等[53-54]研 究了HCl 濃度和溫度對超聲產(chǎn)生的QDs 的影響。隨著溫度的提升,大顆粒的粒徑逐漸減小,且在55 ℃時得到最小顆粒(粒徑為6.1 nm)。制得MoO3的晶相也隨鹽酸濃度和溫度的提升從h-MoO3向α-MoO3轉(zhuǎn)變。當前MoOxQDs 的制備仍在發(fā)展階段,水熱法和刻蝕法產(chǎn)量大但均存在純化過程繁瑣且違背綠色環(huán)保理念的問題;光刻蝕和超聲法產(chǎn)量低,難以應(yīng)用推廣。因此,MoOxQDs 的制備仍需尋找一條綠色、經(jīng)濟、高效的制備之路。

    3 MoP

    MoP 的類Pt 電子結(jié)構(gòu)、幾乎為零的H 原子結(jié)合能力和高導(dǎo)電性,使其成為最有潛力的析氫催化劑之一。然而,在高溫磷化過程中的團聚和燒結(jié)給QDs 制備帶來了挑戰(zhàn)。為解決這一問題,考慮以水熱法低溫制備QDs。MoP QDs 多以五氯化鉬[16,19](MoCl5)和六羰基鉬[17-18]作為鉬前體進行水熱合成。H.KANG 等[16]采用兩步法制備了MoP QDs。首先合成Mo 金屬納米粒子,然后注入活化后的三辛基膦(TOP)以獲得MoP QDs。與S.S.NKABINDE等[19]的一鍋法相比,兩步法合成的QDs 具有最低的電荷轉(zhuǎn)移電阻和最高的電化學(xué)活性。 J.M.MCENANEY 等[18]通過六羰基鉬Mo(CO)6和TOP的反應(yīng)合成的無定形MoP QDs 具有較好的熱穩(wěn)定性,退火除去表面配體后尺寸仍不改變。為了提高電催化活性,M.KIM 等[17]通過陽離子交換的方式將Co、Ni 等金屬引入MoP QDs 中,在電流密度為10 mA/cm2處析氫過電位從195 mV(純MoP QDs)分別降低至167、179 mV。然而,作為磷源的TOP 毒性較大,且上述實驗過程復(fù)雜,產(chǎn)率不高,難以廣泛應(yīng)用。F.YANG 等[55]開發(fā)一種簡便的固相法并合成了無定形MoP QDs。將MoO3與NaH2PO2·H2O混合后置于惰性環(huán)境中煅燒,隨著煅燒溫度的升高,MoP 尺寸逐漸增大,在300 ℃時得到粒徑為2.7 nm、大小均勻的MoP QDs。這種低溫磷化的方法有望推廣應(yīng)用于其他金屬磷化物QDs 的制備。

    為了防止高表面能的QDs 自聚,可利用碳做載體提高QDs 的分散性,通過對含鉬的有機前體進行原位熱解并磷化可制得MoP QDs 的碳材料。M.H.WEI 等[56]和J.L.ZHANG 等[57]通 過水 熱 過 程 在 聚 吡咯(PPy)表面合成了含Mo 有機前體,B.YU 等[58]則利用聚醚胺(D-400)的固化作用制備了含鉬石墨烯氣凝膠。將上述兩種前體與次磷酸鈉在惰性環(huán)境中煅燒,次磷酸鈉釋放的PH3氣體與Mo 原子結(jié)合,在碳材料中生成均勻的MoP QDs。然而,這種方法的磷化效果一般較差,產(chǎn)生的PH3氣體不能充分反應(yīng)。為提高磷化效果,可選取有機磷源并使其與鉬前體形成有機前體,充分混合。Y.HUANG 等[59]通過植酸將磷鉬酸和三聚氰胺交聯(lián)在一起,以確保物質(zhì)在原子水平的均勻混合,形成含鉬有機前體;經(jīng)原位熱解得到粒徑為5~15 nm 的MoP QDs 摻雜和氮摻雜的碳納米花球。E.J.JIANG 等[60]使氯化鉬與含磷樹脂(氨甲基膦酸樹脂)螯合形成前體,以KOH為活化劑煅燒,最終生成的MoP-Mo2C QDs 異質(zhì)結(jié)構(gòu)被分散在N、P 共摻雜的多孔碳納米片上。MoP和Mo2C QDs 相互耦合后,獲得了足夠的活性界面和催化活性位點,復(fù)合材料在1 mol/L KOH 中的析氫過電位僅為120 mV。磷鉬酸鹽是制備MoP 的優(yōu)秀前體,可同時提供所需的P 元素和Mo 元素。以磷鉬酸銨為前體制備MoP QDs 示意圖如圖3[61]所示。Z.H.YAN 等[61]等以檸檬酸鈉為模板劑,與磷鉬酸銨溶解混合后退火處理,將粒徑為4.0 nm 的MoP QDs 均勻地嵌入到花瓣狀多孔碳中。

    圖3 以磷鉬酸銨為前體制備MoP QDs 示意圖[61]Fig.3 Schematic diagram of MoP QDs prepared with ammonium phosphomolybdate as precursor[61]

    等離子體刻蝕技術(shù)是一種表面工程工具,通過產(chǎn)生高能活性物質(zhì)對材料表面進行非接觸式刻蝕。N.N.CHEN 等[62]在N2和Ar 氛圍下對負載在碳布上的MoP 進行了等離子體刻蝕,MoP 顆粒被刻蝕至量子尺寸(在Ar 氛圍和N2氛圍中分別為9.2、7.4 nm),并且在N2氛圍中的處理使N 摻雜進MoP QDs晶體中。因雜原子N 的摻入誘導(dǎo)使摻雜位點附近的電子局域化,從而可實現(xiàn)更高的電催化性能。在MoP QDs 的制備方法中,以TOP 為磷源的水熱合成法具有毒性大、過程復(fù)雜等缺點,而固相法和原位磷化法會釋放出大量劇毒氣體PH3,與綠色化學(xué)的理念相悖。等離子體刻蝕法雖然綠色環(huán)保,但其苛刻的反應(yīng)條件和較高的操作難度也限制了其發(fā)展。

    4 Mo2C/MoC

    Mo2C/MoC 是新興的MXene 材料中的一員,具有熔點高、硬度大、耐磨、抗氧化等特性,在儲能和催化方面均表現(xiàn)出色,然而獨立制備Mo2C QDs 的報道卻很少。W.H.DAI 等[13]在超純水中以400 W的功率對Mo2C 粉末超聲20 h,最終得到了粒徑為6.0 nm 的Mo2C QDs。LSPR 效應(yīng)所獲得的Mo2C QDs 表現(xiàn)出強而寬的NIR 吸收,因此具有良好的光熱轉(zhuǎn)換效率。

    目前,Mo2C/MoC QDs 的制備多以原位熱解為主,以碳材料為基體,使Mo 前體均勻分散碳化形成QDs。一般地,鉬酸鹽前體與有機前體可通過靜電組裝緊密結(jié)合,形成Mo-有機前體復(fù)合物,或?qū)f酸鹽前體與碳源固相均勻混合[63-65],通過原位熱解即可得到Mo2C QDs 負載的碳材料。通過控制鉬酸鹽前體的加入量,可以調(diào)節(jié)最終納米顆粒的尺寸。X.F.Liu 等[66]利用均苯四酸酐(PMDA)與4,4-亞甲基二苯胺(MDA)和乙二胺(EDA)之間的酸堿反應(yīng)制備了兩種共聚單體鹽,然后以磷鉬酸鹽為鉬源水熱縮合,磷鉬酸根在多重氫鍵、p-p 堆疊和靜電相互作用下均勻地固定在聚酰亞胺鏈上,形成Mo-有機前體。原位熱解后Mo2C QDs 被均勻限制在N 摻雜納米帶和N 摻雜納米片中。C.L.CUI 等[67]將聚乙烯吡咯烷酮(PVP)水熱還原鉬酸鹽得到的MoOxQDs 在管式爐中進行高溫退火,MoOxQDs 被碳化生成粒徑小于5.0 nm 的MoC QDs,并均勻分散在PVP 熱解生成的碳膜上。高溫滲碳是碳化物制備的常用方法,在高溫作用下,C 原子緩慢滲入鉬前體中形成Mo2C QDs。B.YU 等[68]提出了一種噴霧干燥法,利用工業(yè)噴霧將鉬前體均勻涂敷在碳納米管(CNT)表面,高溫碳化后Mo2C QDs 被牢牢地固定在CNT上。L.LIN 等[69]通過簡單的浸漬法在氮化碳表面負載了α-MoC1-xQDs。 C3N4與鉬酸銨首先形成Mo2N,隨著溫度的升高,碳載體與Mo2N 反應(yīng),C 原子取代N 的位置,形成α-MoC1-x。當前Mo2C/MoC的制備方法有限,原位熱解法最為簡單高效,但復(fù)合結(jié)構(gòu)使Mo2C QDs 與催化體系的接觸面積大大縮小,一定程度上降低了催化效果。雖然目前已通過超聲法制得未負載的Mo2C QDs,但其產(chǎn)率低、耗時長,難以大規(guī)模應(yīng)用。因此,開發(fā)高效地制備Mo2C QDs 的方法仍是重中之重。

    5 Mo2N/MoN 和MoSe2

    Mo2N/MoN 中Mo—N 可改變鉬的d 帶性質(zhì),使其性質(zhì)類似于第Ⅷ族貴金屬。然而,過強的Mo—H結(jié)合力導(dǎo)致H2形成的動力學(xué)緩慢。為暴露更多的活性位點,促進質(zhì)量傳輸并縮短電解質(zhì)擴散距離,制備具有良好分散性的納米結(jié)構(gòu)材料是一種有效途徑。與Mo2C/MoC 相似,Mo2N/MoN QDs 一 般通過載體分散制得。在制備Mo2C/MoC 的體系中加入相應(yīng)的氮源[70],即可熱解得到Mo2N QDs 復(fù)合材料。Mo2N/MoN 的合成溫度相對Mo2C/MoC 更低,熱解過程中氮源釋放的NH3氮化生成Mo2N,隨著溫度的升高,在碳滲透作用下Mo2N 會轉(zhuǎn)變?yōu)镸o2C[69]。三聚氰胺作為氮源在熱解時只能得到少量的Mo2N,為了提高氮化程度,Z.Lü 等[70]用HNO3對三聚氰胺進行處理,合成了三聚氰胺二硝胺,這增加了前體中NH2基團的數(shù)量,使氮與碳的質(zhì)量比由純?nèi)矍璋纷鳛榈磿r的2.42 提高至2.76。三聚氰胺中氮的質(zhì)量分數(shù)提高,最終得到純Mo2N QDs 負載的氮摻雜碳。與Mo2C/MoC QDs 相似,Mo2N/MoN QDs 目前只能通過原位熱解與含氮碳材料形成復(fù)合結(jié)構(gòu),難以獲得獨立的Mo2N/MoN QDs,在一定程度上阻礙了其實際發(fā)展,因此開發(fā)制備獨立Mo2N/MoN QDs 的方法顯得尤為重要。

    MoSe2作為過渡金屬硫族化合物,具有與MoS2相似的性質(zhì),但MoSe2有限的活性邊緣以及低電導(dǎo)率阻礙了MoSe2基催化劑的廣泛應(yīng)用。因此制備MoSe2QDs 時,暴露更多活性位點成為提高MoSe2活性的策略之一。B.G.MAO 等[14]以聚乙二醇(PEG)為封端劑,將Na2MoO4和Se 粉混合水熱后得到了MoSe2HDH,即MoSe2QDs 與納米片的異質(zhì)結(jié)構(gòu)。PEG 阻礙了QDs 的聚集,使MoSe2QDs錨定在納米片表面。L.H.YUWEN[71]等在含有F127 的水溶液中對MoSe2粉末進行超聲處理制備了QDs,表面活性劑F127 吸附在超聲產(chǎn)生的MoSe2QDs表面,避免了其聚集。C.Y.LUAN 等[72]和N.DHENADHAYALAN 等[73]在NMP中對MoSe2超聲得到了QDs。結(jié)果表明,隨著超聲功率的增大,所得QDs的尺寸逐漸減小。N.DHENADHAYALAN等[73]對超聲制得的MoSe2QDs 進行表面改性,分別得到了羧基、胺基和硫醇功能化的 MoSe2QDs(MoSe2/COOH、MoSe2/NH2和 MoSe2/SH)。結(jié)果表明,3種改性后的QDs 均表現(xiàn)出優(yōu)異的傳感行為,可成功用于Cu2+、2,4,6-三硝基苯酚(TNP)和三聚氰胺(MA)的檢測。減小尺寸是提高MoSe2活性的有效方式,然而當前制取MoSe2QDs 的策略相對較少,現(xiàn)有的水熱法無法擺脫對表面活性劑的依賴,超聲法的產(chǎn)率仍需提高。

    6 總結(jié)與展望

    在過去的幾十年中,鉬基QDs 的制備技術(shù)取得了巨大的進步。更多高效、節(jié)能、綠色的技術(shù)手段被應(yīng)用到這一研究中,提高了QDs 的產(chǎn)率及性能,為鉬基QDs 的大規(guī)模研究和應(yīng)用打下了堅實的基礎(chǔ)。盡管QDs 的制備已經(jīng)取得了重大進展,但QDs的廣泛應(yīng)用之路仍有一些問題亟待解決。首先,雖然鉬基QDs 的產(chǎn)率已有質(zhì)的飛躍,但相比于傳統(tǒng)的鎘基QDs 及新型的鈣鈦礦QDs 仍有較大差距。其次,部分鉬基QDs 的發(fā)展較為緩慢,如Mo2C、Mo2N QDs 僅能通過在碳材料中分散得到,而復(fù)合結(jié)構(gòu)的構(gòu)建會阻礙活性組分和體系的接觸,因此,開發(fā)制備獨立Mo2C、Mo2N QDs 具有重要意義。當前MoSe2QDs 的合成案例較少,其與MoS2同為過渡金屬硫族化合物,結(jié)構(gòu)和性質(zhì)存在相似之處,MoS2的眾多合成方法對其具有一定的借鑒意義。最后,QDs 的純化技術(shù)繁瑣且效率低下,透析法耗時長,超濾法和密度梯度離心法操作復(fù)雜、效率低,且在純化過程中需要消耗大量溶劑。因此,開發(fā)更為簡潔高效的純化方法已迫在眉睫。

    鉬基QDs 已在眾多應(yīng)用中顯示出巨大的潛力,通過合成過程中對QDs 的功能化,其應(yīng)用范圍仍在不斷擴大,但也存在一些問題。

    1)具有強近紅外吸收的鉬基QDs 已在光熱療法、凈水等方面得到了初步應(yīng)用。QDs 吸收近紅外光將光能轉(zhuǎn)化為熱能,利用高溫滅殺癌變細胞或蒸發(fā)廢水實現(xiàn)凈化。然而,鉬基QDs 的光熱轉(zhuǎn)化效率并不理想,無法實現(xiàn)能量的高效利用。

    2)穩(wěn)定的熒光性能使QDs 在熒光傳感、生物成像等方面取得了進展。例如,通過離子或分子對QDs 熒光的猝滅效應(yīng)測定其濃度,或使用QDs 對細胞進行標記,通過熒光效應(yīng)實現(xiàn)生物成像。但是,其熒光量子產(chǎn)率較低,熒光發(fā)射波長較短,因此,與實際應(yīng)用仍存在一定差距,同時當前的傳感及成像機制均基于熒光猝滅效應(yīng),熒光信號易被設(shè)備干擾,造成檢測結(jié)果不準確。

    3)鉬基材料自身較高的電化學(xué)活性使鉬基QDs 在電催化方面嶄露頭角。量子尺寸的鉬基材料可暴露更多的活性位點,有利于提高其電催化性能。但是,QDs 的高表面活性使其在循環(huán)過程中易發(fā)生團聚而降低活性。

    QDs 作為一種新型材料,展現(xiàn)出了與1D、2D 和3D 材料不同的優(yōu)良性能??梢灶A(yù)見的是,QDs 的引入將會使其他納米結(jié)構(gòu)材料的應(yīng)用實現(xiàn)革命性的提升,不僅能促進科學(xué)和技術(shù)的發(fā)展,而且也能引領(lǐng)出一個全新的前沿研究領(lǐng)域。

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