ASML全新光刻機(jī)準(zhǔn)備中：沖擊2nm工藝

對(duì)于芯片廠商而言，光刻機(jī)顯得至關(guān)重要，而ASML也在積極布局新的技術(shù)。截至 2022 年第一季度，ASML已出貨136個(gè)EUV系統(tǒng)，約7000萬個(gè)晶圓已曝光。

按照官方的說法，新型號(hào)的EUV光刻機(jī)系統(tǒng) NXE：3600D將能達(dá)到93%的可用性，這將讓其進(jìn)一步接近DUV光刻機(jī)（95%的可用性）。數(shù)據(jù)顯示，NXE：3600D系統(tǒng)每小時(shí)可生產(chǎn)160個(gè)晶圓 （wph），速度為30mJ/cm，這比 NXE：3400C高18%。正在開發(fā)的 NXE：3800E系統(tǒng)最初將以30mJ/cm的速度提供超過195wph的產(chǎn)能，并在吞吐量升級(jí)后達(dá)到220wph。

根據(jù)ASML 在第一季度財(cái)務(wù)會(huì)議上披露的數(shù)據(jù)，公司的目標(biāo)是在2022年出貨55臺(tái)EUV系統(tǒng)，并到2025年實(shí)現(xiàn)（最多）90臺(tái)工具的計(jì)劃。ASML同時(shí)還承認(rèn)，90臺(tái)可能超過2025年的實(shí)際需求，不過他們將其描述為為滿足2030年1萬億美元半導(dǎo)體行業(yè)需求所做出的巨大努力。

按照之前的說法，ASML正在研發(fā)新款光刻機(jī)，價(jià)值高達(dá)4億美元（約合26億元人民幣），雙層巴士大、重量超過200噸。原型機(jī)預(yù)計(jì)2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年作為主力出貨。這款機(jī)器應(yīng)該指的就是High-NA EXE：5200（0.55NA），Intel是全球第一個(gè)下單的公司。所謂High-NA也就是高數(shù)值孔徑，2nm之后的節(jié)點(diǎn)都得依賴它實(shí)現(xiàn)。