趙靈潔,孫海歐
北部戰(zhàn)區(qū)總醫(yī)院 口腔科,遼寧 沈陽 110016
氧化鋯修復體作為口腔固定修復類材料的首選,在試戴時需要進行調(diào)磨修改以獲得更好的固位及咬合關系。但不同磨改方式產(chǎn)生的細微劃痕均會對氧化鋯修復體表面的光滑度產(chǎn)生影響[1]。此外,粗糙的表面還會降低修復體的機械強度,導致修復體著色[2-3]。拋光是臨床上最常見的陶瓷材料表面光滑處理方式之一,但各拋光套裝的拋光效果存在一定的差異。本研究旨在探討不同拋光處理對全瓷冠細菌粘附及色素沉著的影響,為氧化鋯全瓷材料拋光工具的選擇提供一定的臨床指導?,F(xiàn)報道如下。
1.2 實驗方法
1.2.1 試件拋光后粗糙度測定 取樣長度為0.8 mm,評定長度為4.0 mm。在試件的中心區(qū)域隨機選取3個位點,以不同方向進行粗糙度測量,記錄Ra值。
1.2.2 細菌粘附量的測定 將消毒后的各組試件分別置于試管內(nèi),每個試管一個試件,測試面朝上,每個試管加入1 ml細菌濃度為0.5×109CFU/ml的變形鏈球菌細菌懸液[4],于厭氧條件下培養(yǎng)24 h后,計算細菌菌落數(shù)。
1.2.3 試件的浸泡與著色 將各組拋光后的試樣浸泡于人工唾液中24 h,然后浸泡于碳酸飲料中4周,取出試件后蒸餾水清洗30 s,自然干燥,將電子比色儀的測量頭垂直于測試面中心點進行測量,分別記錄浸泡前、后的L*、a*、b*色度值,計算色差(△E)值。
△E=(△L*2+△a*2+△b*2)1/2
2.1 各組試件表面粗糙度比較 對照組粗糙度為(0.524±0.079)μm,高于SHOFU組的(0.309±0.059)μm、EVE組的(0.321±0.045)μm、TOBOOM組的(0.384±0.072)μm,差異有統(tǒng)計學意義(P<0.05)。TOBOOM組粗糙度高于SHOFU組及EVE組,差異有統(tǒng)計學意義(P<0.05)。
2.2 各組細菌粘附量比較 對照組細菌粘附量為(0.954±0.095)×104CFU/mm2,高于SHOFU組的(0.613±0.075)×104CFU/mm2、EVE組的(0.558±0.049)×104CFU/mm2、TOBOOM組的(0.827±0.058)×104CFU/mm2,差異有統(tǒng)計學意義(P<0.05)。TOBOOM組細菌粘附量高于SHOFU組及EVE組,差異有統(tǒng)計學意義(P<0.05)。
2.3 各組色素沉著比較 對照組△E為(3.060±0.217),SHOFU組為(1.092±0.153),EVE組為(1.269±0.120),TOBOOM組為(1.524±0.074)。各組△E比較,差異均有統(tǒng)計學意義(P<0.05)。
既往研究表明,拋光可以降低氧化鋯修復體表面的粗糙度,減少細菌的粘附量[7]。本研究發(fā)現(xiàn),SHOFU組、EVE組、TODOOM組的表面粗糙度均優(yōu)于未拋光的對照組,同時,細菌粘附量也優(yōu)于對照組;SHOFU組、EVE組的粗糙度、細菌粘附量低于TODOOM組,與既往研究[8]結果一致。
△E在2.0~4.0是臨床可接受的閾值,材料顏色變化的差異不易被肉眼察覺[9]。本研究中,各組△E均在臨床可接受范圍內(nèi),即修復體顏色的變化不易被肉眼所察覺,這可能與觀察時間較短有關。
綜上所述,臨床上對氧化鋯修復體進行精細拋光,可以明顯降低表面粗糙度,減少細菌的附著及色素沉著。三種拋光套裝中,SHOFU、EVE的拋光效果更理想,更利于減少細菌附著及色素沉著。