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      基于狄拉克半金屬超表面的可調(diào)諧太赫茲吸波器

      2021-01-22 02:29:28晨,明,
      關(guān)鍵詞:狄拉克費(fèi)米吸收率

      陳 晨, 陳 明, 成 煜

      (1.桂林電子科技大學(xué) 信息與通信學(xué)院,廣西 桂林 541004;2.桂林電子科技大學(xué) 電子工程與自動化學(xué)院,廣西 桂林 541004)

      超表面是一種厚度小于波長由周期性結(jié)構(gòu)組成的人造電磁材料,從最初的1/4波片[1-2]到偏振轉(zhuǎn)換器[3-4]、傳感器[5-7]、透鏡[8-9]、吸波器[10-12],超表面器件的功能變得越來越多樣化,它在天線技術(shù)[13]、光電器件[14]等方面具有重要的應(yīng)用價值。吸波器通過最小化反射并消除透射實(shí)現(xiàn),其為現(xiàn)實(shí)生活、軍事和生產(chǎn)中的射頻識別技術(shù)、隱身技術(shù)、電磁防護(hù)、電磁兼容和屏蔽等提供了較高的應(yīng)用價值。然而,現(xiàn)有的吸波器在穩(wěn)定性、吸收效率和質(zhì)量方面還存在很多缺點(diǎn),這使得它們不能被廣泛推廣應(yīng)用。此外,超表面的優(yōu)良電磁性能主要取決于設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)單元的形狀及尺寸,而傳統(tǒng)金屬材料不可調(diào)諧等缺點(diǎn)限制了吸波器的發(fā)展。近幾年這些缺點(diǎn)被諸如石墨烯、黑磷等二維材料所克服,在超表面應(yīng)用中顯示了廣闊的前景。石墨烯的光學(xué)響應(yīng)以其表面電導(dǎo)率σ為特征,σ與費(fèi)米能級密切相關(guān),費(fèi)米能級可通過施加偏置電壓動態(tài)調(diào)整[15-21],因其獨(dú)特的性能引起了超材料吸波器領(lǐng)域研究人員極大的關(guān)注。盡管石墨烯具有可動態(tài)調(diào)節(jié)光的可調(diào)光學(xué)性能,但其具有零或近零帶隙的特征,從而限制了在光物質(zhì)強(qiáng)相互作用中的應(yīng)用,不適于實(shí)際應(yīng)用[22]。另外,二維黑磷材料雖然具有很高的電荷載流子遷移率和很強(qiáng)的各向異性[23-24],但其不穩(wěn)定且易氧化的特性會影響其性能。

      最近,被認(rèn)為是“3D石墨烯”的狄拉克半金屬,具有出色的性能和高遷移率等特點(diǎn)[25-26],且可通過改變其費(fèi)米能級來調(diào)諧響應(yīng)頻率,無需調(diào)整幾何結(jié)構(gòu)。為此,設(shè)計(jì)了在太赫茲頻段內(nèi)的基于狄拉克半金屬超表面的可調(diào)諧吸波器,具有完美的吸收效率。

      1 理論分析與結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

      設(shè)計(jì)的基于狄拉克半金屬的吸波器3×3單元結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。其由3層結(jié)構(gòu)組成,包括頂部圖案化的狄拉克半金屬層、介電常數(shù)εr為3.9的聚合物中間介質(zhì)層和底部的金屬反射層。在x、y方向,單元周期均為p=4.3 μm。為消除器件的透射率,選擇金或銀作為底部金屬層,其厚度大于入射波的趨膚深度。本設(shè)計(jì)選擇電導(dǎo)率σ=4.56×107S/m的金作為金屬反射層。頂層的狄拉克半金屬層是一個薄圓盤,厚度t1=0.02 μm,圓盤半徑R=2 μm,其邊緣對稱切去4個小圓,小圓半徑r=0.4 μm。入射電場沿x方向,磁場沿y方向。

      圖1 基于狄拉克半金屬的吸波器3×3單元結(jié)構(gòu)示意圖

      為了建立狄拉克半金屬模型,使用隨機(jī)相位近似理論的Kubo公式,計(jì)算在長波長極限下狄拉克半金屬的復(fù)電導(dǎo)率。狄拉克半金屬在低溫極限下的動態(tài)電導(dǎo)率[27]為:

      (1)

      (2)

      其中:e為元電荷;kF=EF/(?υF)為費(fèi)米動量,?為約化普朗克常量,EF為費(fèi)米能級,vF=106S/m為費(fèi)米速度;θ為Riemann-Siegel theta函數(shù);Ω=?ω/EF為歸一化頻率;g=40為簡并因子;εc為截止能量子。由式(1)、(2)可知,改變狄拉克半金屬的費(fèi)米能級可引起表面電導(dǎo)率的變化,其中,通過化學(xué)摻雜鉻(Cr)可改變其費(fèi)米能級。由此推斷基于狄拉克半金屬超表面的吸波器具備動態(tài)可調(diào)的特性。

      本設(shè)計(jì)選擇AlCuFe準(zhǔn)晶體作為狄拉克半金屬層。不同費(fèi)米能級下狄拉克半金屬的動態(tài)復(fù)電導(dǎo)率如圖2所示。從圖2(b)可看出,實(shí)部在?ω/EF≥2為線性,而在?ω/EF<2可以忽略。吸波器工作在0.1~10 THz的太赫茲頻率范圍,即?ω/EF≤0.551時,在太赫茲頻率范圍實(shí)分量可視為0。使用雙帶模型的狄拉克半金屬的介電常數(shù)為

      (3)

      其中:ε0為真空介電常數(shù);εb為有效背景介電常數(shù)。

      圖2 不同費(fèi)米能級下狄拉克半金屬的動態(tài)電導(dǎo)率

      2 結(jié)果與分析

      使用CST Microwave Studio的頻域求解器對吸波器吸收性能進(jìn)行數(shù)值計(jì)算,在z方向應(yīng)用完全匹配的層邊界條件,在x、y方向應(yīng)用周期性邊界條件,該周期性結(jié)構(gòu)由法向入射平面波照射。吸波器參數(shù)設(shè)置為p=4.3 μm,t1=0.2 μm,t2=3 μm,R=2 μm,r=0.4 μm。太赫茲波垂直于吸波器入射,吸收率的計(jì)算式為

      A=1-R(ω)-T(ω),

      (4)

      其中:R(ω)=|S11|2為反射率;T(ω)=|S21|2為透射率;S11、S21分別為吸波器的反射系數(shù)和透射系數(shù)。因?yàn)榻饘賹拥暮穸冗h(yuǎn)大于趨膚深度,所以透射系數(shù)S21=0,即吸波器的吸收率計(jì)算式可簡化為A=1-R(ω)。狄拉克半金屬的費(fèi)米能級EF=75 meV的仿真計(jì)算結(jié)果如圖3所示。從圖3可看出,在諧振頻率為2.975 THz處,可實(shí)現(xiàn)高達(dá)99.75%的吸收率,因此可將吸波器視為完美吸波器。另外,TE極化與TM極化模式的吸收曲線重合,說明由于結(jié)構(gòu)關(guān)于z軸四重旋轉(zhuǎn)對稱,在這2種極化模式下都可以實(shí)現(xiàn)完美吸收,即該吸波器具有極化不敏感特性。

      圖3 TE模式和TM模式下的吸收曲線

      不同費(fèi)米能級的吸收曲線如圖4所示。從圖4可看出,EF從60 meV增加到75 meV,諧振頻率的吸收率從87.09%增加到99.75%,吸收頻點(diǎn)也從2.371 THz移至2.975 THz,諧振頻率(吸收峰對應(yīng)的頻率)發(fā)生了藍(lán)移,且呈線性關(guān)系。狄拉克半金屬的EF為65~90 meV,吸收率可以保持在95%以上,即吸波器在諧振頻率為2.46~3.50 THz可實(shí)現(xiàn)動態(tài)完美吸收,表明通過控制狄拉克半金屬的EF,可以實(shí)現(xiàn)在寬頻帶范圍內(nèi)動態(tài)可調(diào)。當(dāng)費(fèi)米能級為75 meV時,吸收率幾乎為100%,入射到該結(jié)構(gòu)的電磁波被完全損耗,此時,吸波器與自由空間實(shí)現(xiàn)了阻抗匹配,從而實(shí)現(xiàn)了完美吸收。

      圖4 不同費(fèi)米能級的吸收曲線

      不同單元周期的吸收頻譜圖如圖5(a)所示。從圖5(a)可看出,當(dāng)周期p從4 μm增加到4.8 μm時,吸收峰頻率發(fā)生了藍(lán)移,吸收頻點(diǎn)為2.70~3.10 THz。當(dāng)周期p設(shè)置為4.3 μm且其他參數(shù)不變時,吸收率達(dá)到99.75%,可認(rèn)為是完全吸收。不同尺寸的單元周期,對應(yīng)了不同的諧振頻率,表明合理設(shè)置單元尺寸,該吸波器可以在寬帶范圍內(nèi)保持高吸收率,也可以將其沿用至紅外或中紅外頻段。不同介質(zhì)層厚度t2的吸收曲線如圖5(b)所示。從圖5(b)可看出,諧振頻率隨著t2的增大而向左移動,吸收峰頻率呈現(xiàn)紅移,并且當(dāng)t2=3 μm時吸收率達(dá)到最高,隨著介質(zhì)層厚度的增大或減小,結(jié)構(gòu)的阻抗與自由空間的阻抗匹配度逐漸降低,吸收率也隨之降低。

      圖5 不同結(jié)構(gòu)參數(shù)下的吸收頻譜圖

      根據(jù)仿真獲得的S參數(shù),當(dāng)入射角以15°為步長從0°調(diào)整至75°時,不同入射角度下的吸收頻譜圖如圖6所示。從圖6可看出:當(dāng)入射角從0°增加到45°時,吸收率可保持在95%以上,并且沒有明顯的下降;即使入射角度為60°時,在諧振頻率2.975 THz下的吸收率仍大于88%。仿真結(jié)果表明,所設(shè)計(jì)的吸收器受入射角的影響較小,在斜入射下仍能保持電磁諧振,單元結(jié)構(gòu)的高度對稱不僅使其對極化角不敏感,也對入射角不敏感,這一出色性能使其在光譜成像等方面具有潛在的應(yīng)用。

      圖6 不同入射角度下的吸收頻譜圖

      當(dāng)p=4.3 μm,t1=0.2 μm,t2=3 μm,R=2 μm,r=0.4 μm,EF=75 meV,且諧振頻率為2.975 THz時,電場和磁場分布如圖7所示。x極化波入射,即電場沿x方向入射,磁場沿y方向入射。頂層的狄拉克半金屬層在TE模式和TM模式下的電場分布分別如圖7(a)、圖7(b)所示。從圖7(a)可以看出,在TE模式下,在y軸方向上的小圓切口處電場最強(qiáng),這是由于在該處表面等離子體振蕩增強(qiáng)。同樣,圖7(b)的TM模式下,響應(yīng)的是x軸方向上的小圓切口。TE模式下yoz截面的電場分布如圖7(c)所示。從圖7(d)可看出,電場主要集中在狄拉克半金屬薄圓盤的邊緣切割小圓處,即在此處發(fā)生了強(qiáng)烈的共振。另外,電場主要分布在狄拉克半金屬層的切割小圓和介質(zhì)層的上半部分。TE模式下yoz平面截面的磁場分布如圖7(d)所示。從圖7(d)可看出,入射電磁場和吸波器結(jié)構(gòu)可以在諧振頻率下有效耦合。

      圖7 吸波器的電場與磁場強(qiáng)度圖

      仿真得到TE模式下狄拉克半金屬的表面電流分布如圖8所示。從圖8(a)看到,在狄拉克半金屬表面形成了沿-y方向的偶極子等離子體共振,即電諧振,它使得諧振結(jié)構(gòu)表面產(chǎn)生沿-y方向的表面電流。同時,表面電流使金屬基底與介質(zhì)層交界面處形成y方向的鏡像電流,如圖8(b)所示,促成了反向平行電流的產(chǎn)生,使狄拉克半金屬薄圓盤和金屬基底的感應(yīng)電流形成閉合的磁諧振通路,激勵起強(qiáng)磁諧振。

      頻率2.975 THz時,TE模式下監(jiān)測截面y=0磁場分布如圖9所示。從圖9可看到,磁場的旋向可使表面電流聚集到狄拉克半金屬的切口處,與圖8(b)中金屬底板的電流相互作用形成了磁極化諧振,狄拉克半金屬層與金屬底板層形成了反向磁諧振,與電諧振聯(lián)合作用促成了在諧振頻率處的完美吸收。

      3 結(jié)束語

      為解決傳統(tǒng)光學(xué)器件體積大、靈活性差等問題,設(shè)計(jì)了一種基于狄拉克半金屬超表面的可調(diào)諧吸波器。由于結(jié)構(gòu)的對稱性,在TE和TM極化模式都可以實(shí)現(xiàn)完美的吸收,且廣角入射波不敏感。當(dāng)?shù)依税虢饘俚馁M(fèi)米能級EF從65 meV增加至90 meV時,可以在2.46~3.50 THz內(nèi)實(shí)現(xiàn)吸收頻率動態(tài)可調(diào),吸收率均可保持在95%以上。另外,該吸收器對幾何參數(shù)如電介質(zhì)層的周期、厚度等敏感,因此可通過適當(dāng)調(diào)整結(jié)構(gòu)參數(shù),擴(kuò)展其工作頻段,實(shí)現(xiàn)在實(shí)際應(yīng)用中所需要的優(yōu)良性能。與傳統(tǒng)材料相比,基于狄拉克半金屬的超表面可調(diào)且更薄,有利于推動集成化的發(fā)展,可以為太赫茲傳感器、光譜成像和光學(xué)濾波器等光電器件領(lǐng)域提供潛在的應(yīng)用,并減少電子設(shè)備的電磁輻射,在電磁保護(hù)和信息安全方面具有一定的實(shí)際效果。

      圖8 吸波器的電場與磁場強(qiáng)度圖

      圖9 xoz截面的磁場

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