王艾意
摘要:本文介紹了一種數(shù)字后臺校正方法,針對在小工藝尺寸下,電容匹配精度不高,從而影響ADC性能的問題,提出了一種適用于逐次逼近型模數(shù)轉換器( SAR ADC)的數(shù)字后臺校正方法。在MATLAB仿真環(huán)境中,給出了該方法的仿真結果。結果表明16位的SAR ADC在單位電容為3%的失配情況下,有效位數(shù)( ENOB)由12.1位提升至14.8位,無雜散動態(tài)范圍(SFDR)由81 dB提升至100 dB。
關鍵詞:SAR ADC;數(shù)字后臺;電容失配校正;
0引言
模數(shù)轉換器( ADC)是連接模擬世界與數(shù)字世界的橋梁,在納米工藝節(jié)點下,SAR ADC具有功耗低、結構簡單、易集成等特點成為研究熱點。但由于工藝誤差,電容的匹配精度難以高于0.1%,成為影響ADC線性度的主要因素。
為了消除電容間的失配,除了較好的電容陣列版圖之外,還需要對電容進行校正。校正方式包括數(shù)字校正與模擬校正。數(shù)字校正是指電容失配的消除在數(shù)字域完成,每一個電容的權重都對應一個數(shù)字碼字。校正的目的是讓數(shù)字權重逼近電容制造完成后在總電容陣列中所占的比重(即真實權重),從而消除電容失配。數(shù)字后臺校正是指沒有特定的校正模式,校正的過程完全在后臺自動進行。
由于電容校正的應用十分廣泛,在不同應用場景下對于校正方式與要求也不同,國內外很多人對此進行了研究。文獻[1]采用了模擬域校正方法來消除非線性,但是額外的模擬模塊會增加電路的噪聲并增加硬件復雜性,且模擬電路不會隨著工藝的進步帶來性能的顯著提高。文獻[2]提出了一種數(shù)字校正方法,但是在前臺進行的,校正工作時需將正常采樣過程停止,且校正系數(shù)不能隨外部環(huán)境變化更新可能導致不準確。文獻[3]提出了一種數(shù)字后臺校正技術通過將偽隨機噪聲注入到輸入中,但是減小了輸入信號范圍。
針對上述問題,本文提出了一種Vcm-based SARADC的數(shù)字后臺校正方法,通過對輸出碼字在數(shù)字域的處理來補償模擬域的非理想特性。校正過程在后臺進行,不影響ADC的正常采樣和量化。文章第2節(jié)主要描述該方法的工作原理及流程;第3節(jié)給出仿真結果;第4節(jié)給出最終結論。
1 數(shù)字后臺校正方法原理
LMS(Least Mean Square,最小均方)算法來源于自適應濾波器的設計,但也可以應用在ADC的數(shù)字校正中。一種方案是提供一個輸出所要趨近的理想信號d(n),一般是由精確的參考ADC提供,如單斜式ADC或∑一△ADC,其精度較高但采樣率較低。因此參考ADC的采樣頻率為主ADC的L分之一,即主ADC在L次采樣后才能進行一次迭代計算。
這種基于參考ADC的LMS校正算法增加了電路的面積、功耗、以及復雜度,一種改進的方案是采用分裂式ADC的LMS算法。即把原來的ADC分為兩個結構相同的ADC,電容值減半,兩個子ADC同時對輸入信號進行采樣和量化,輸出的平均值作為系統(tǒng)最終的輸出。雖然電容值減半噪聲會隨之加倍,但平均操作也會使噪聲減半,因此噪聲和功耗相比原ADC不會增加。
當一個N位的ADC在量化結束后,輸入信號模擬值可表示為:
圖中分裂式SAR ADC包括兩個ADC子模塊,每個ADC模塊中DAC電容陣列采用非二進制編碼電容陣列,兩個ADC分別對同一輸入信號進行采樣和量化,它們的失配情況互不相同。
其中μ為LMS的迭代系數(shù),控制著迭代的速度與精度,一般取2的指數(shù)次方。較大的值能使權重更快逼近實際權重,但是容易受到系統(tǒng)噪聲的干擾,可能出現(xiàn)迭代錯誤。較小的值可以得到更精確的權重值,但是需要更多迭代次數(shù),因此需要在速度與精度之間折中考慮。
綜上所述,本文提出的電容陣列如圖2.2所示。為了簡化這里只畫出單端示意圖,另一端與此相同。
圖中電容陣列包括16位主DAC電容陣列與8位輔助校正DAC電容陣列,采樣方式為電容下級板采樣,電容上級板均接在比較器的P輸入端。主DAC電容陣列按高位到低位的順序Cl-Cl6的電容值分別為5223 C、5223 C、5223 C、2735 C、1432 C、750 C、393 C、206 C、108 C、57 C、30 C、16 C、8C、4C、2C、1 C,其中C為單位電容。輔助DAC同樣按照高位到低位的順序CCl-CC8的電容值分別為8192 C、4096 C、360 C、188 C、98 C、5IC、27 C、14 C。
基于分裂式ADC的校正算法中兩個ADC的工作模式不能完全相同,否則當電容失配方向一致時,碼字誤差始終為零,無法被校正。為了改變ADC的工作模式,這里通過輔助校正DAC向主DAC注入了一個隨機偏移量,從而改變ADC的量化軌跡,提升ADC的線性度和動態(tài)范圍。同時電容陣列為非二進制編碼,引入了冗余量,可以弱化系統(tǒng)在量化過程中引入的動態(tài)誤差,保證了DAC失配誤差校正的可行性。
輸入信號同時經過兩個子ADC模塊采樣,采樣結束后DAC電容上級板電壓可表示為:
由于SAR ADC的第一次比較結果只與采樣值有關,電容還沒有開始切換,這樣會導致兩個ADC最高位的電容會朝著一個方向切換,因此就無法被校正。這里需要對最高位電容的切換進行單獨處理,具體流程如下所述。
采樣結束后首先隨機切換輔助校正DAC電容陣列最高位電容Cc1,由于ADC為雙端電容陣列,比較器的兩個輸入端分別連接了DAC電容陣列,因此P端往上切,N端往下切,即P端連接的DAC電容陣列的最高位電容下極板從共模電壓切換到更高的電源電壓,N端連接的DAC電容陣列的最高位電容下極板從共模電壓切換到更低的地電壓。因此切換后N端上級板電壓小于P端上級板電壓,DAC電容陣列的上級板電壓變化如圖2.3所示。
由于P端電壓大于N端,因此第二次比較器比較結束后,P端主DAC電容陣列的最高位電容C1下極板會從V cm接到低電位地,N端電容C1下極板會從V cm接到高電位VREF,同時PN兩端的輔助電容陣列次高位電容CC2繼續(xù)朝相反方向隨機切換。
假設第二次電容切換后P端電壓仍大于N端電壓,在第三次比較結束后,P端主DAC電容陣列的次高位電容C2下極板會從Vcm接到低電位地。N端電容C2下極板會從Vcm接到高電位V REF,同時PN兩端的輔助電容陣列次電容CC3繼續(xù)朝相反方向隨機切換。即主DAC電容陣列的切換一定是朝著Vcm的方向進行,而輔助DAC電容陣列的切換一直都是隨機并且PN兩端朝著相反的方向切換。
以此類推,直到8次比較以后,輔助DAC電容陣列下極板均連接Vcm,主DAC電容陣列剩下還未切換的電容按著Vcm -based切換方式進行切換,最終得到兩個ADC分別量化產生的不同的16位碼字DA和DiB。將兩個輸出碼字DiA與DiB的差值作為誤差信號連接到LMS ωiB模塊與LMS模塊并按照公式2-9與公式2-10進行一次迭代處理。初始權重為設計電容值對應的二進制序列,迭代系數(shù)值取2-16。通過每次量化結束后的不斷迭代,直到最終輸出碼字D out的線性度達到要求,即可認為接近實際電容值,消除了電容間的失配。
2 仿真結果
基于第2節(jié)的原理介紹,在MATLAB仿真環(huán)境中進行了行為級驗證,證明了本方法可以有效地消除ADC中電容之間的失配,圖3.1與圖3.2為一個16位的SAR ADC經過數(shù)字后臺校正后的結果,單位電容給3%的失配大小,在無校正的情況下有效位數(shù)( ENOB)為12.1位,在校正之后提升至14.8位。在無校正的情況下無雜散動態(tài)范圍( SFDR)為81 dB,在校正之后提升至100 dB。
3 結論
隨著制造工藝的特征尺寸進入納米量級,數(shù)字電路的集成度越來越高,同時電源電壓也逐漸降低。但模擬電路并未像數(shù)字電路一樣受益于工藝的進步,相反隨著MOS管尺寸和電源電壓減小,精確匹配、高增益和大擺幅等指標更難實現(xiàn),因此,采用數(shù)字信號處理的方式來解決模擬電路中的非理想因素是一種趨勢。本文提出了一種電容失配的數(shù)字后臺校正方法,能實時跟隨環(huán)境參數(shù)的變化,適用于SAR ADC,能有效消除電容之間的失配,明顯地提高ADC性能。
參考文獻
[1] Bang-Sup Song,M.F.Tompsett and K.R.Lakshmikumar,“A 12-bit 1-Msample/s capacitor error-averaging pipelinedA/D converter," in IEEE Journal of Solid-State Circuits, vol.23, no.6,pp. 1324-1333, Dec. 1988.
[2] M. Yoshioka,K.lshikawa,T.Takayama and S.Tsukamoto,"A 10b 50MS/s 820uW SAR ADC with on-chipdigital calibration," 2010 IEEE International Solid-StateCircuits Conference - (ISSCC), San Francisco, CA, 2010,pp. 384-385.
[3] W. Liu,P.Huang and Y.Chiu,“A 12b 22.5/45MS/S 3.OmW 0.059mm2 CMOS SAR ADC achieving over90dB SFDR," 2010 IEEE International Solid-State CircuitsConference - (ISSCC), San Francisco, CA, 2010, pp. 380-381.