含分流電路Galfenol聲子晶體的帶隙與減振性能

曹淑瑛，王金川,鄭加駒,張福寶

(1.河北工業(yè)大學(xué) 省部共建電工裝備可靠性與智能化國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，天津 300130; 2.河北工業(yè)大學(xué) 河北省電磁場(chǎng)與電器可靠性重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，天津 300130)

0 引言

與傳統(tǒng)聲子晶體相比，含分流電路的壓電聲子晶體[1-4]可通過(guò)調(diào)整分流電阻、電感和電容等元件對(duì)其布喇格帶隙(BBG)和共振帶隙(RBG)調(diào)節(jié)，以降低振動(dòng)傳輸。該減振控制法有望克服主動(dòng)控制系統(tǒng)龐大且需能量供給的缺陷，在減振控制中有良好的應(yīng)用前景。但壓電智能材料存在易老化、工作溫度范圍窄及過(guò)熱失效等缺點(diǎn)，限制了其應(yīng)用。

與壓電材料相比，磁致伸縮智能材料(如Terfenol-D和Galfenol)[5-7]有工作溫度范圍廣，穩(wěn)定性好及能量密度高等特點(diǎn)，在驅(qū)動(dòng)[7-8]、分流阻尼[9-10]、振動(dòng)能量采集[6]和聲子晶體[11-16]等器件中有潛在的應(yīng)用前景。然而，該器件顯示了磁-機(jī)-電耦合非線性[5-6]，這給器件的設(shè)計(jì)和性能預(yù)估帶來(lái)困難。

目前，已有研究利用等效壓磁材料模型[11-13]、一維[14]和二維[15-16]Z-L模型來(lái)描述Terfenol-D的磁-機(jī)耦合非線性，并用平面波展開(kāi)法分析其聲子晶體的BBG。Matar等[11-12]和Zhou等[13]表明，在外部靜磁場(chǎng)作用下，二維Terfenol-D聲子晶體內(nèi)的Terfenol-D因磁致伸縮效應(yīng)產(chǎn)生了機(jī)械形變和彈性模量變化，從而使其BBG產(chǎn)生明顯變化，且外加磁場(chǎng)方向?qū)BG的寬度和位置有顯著影響。Ding等[14]和Zhang等[15]表明，Terfenol-D聲子晶體的BBG除受外加磁場(chǎng)和預(yù)應(yīng)力影響外，也受器件幾何參數(shù)的影響。Gu等[16]表明，磁場(chǎng)和預(yù)應(yīng)力可使Terfenol-D聲子晶體的BBG獲得新的點(diǎn)缺陷模態(tài)。以上均是利用材料的磁致伸縮效應(yīng)對(duì)其BBG調(diào)控的研究。如何利用材料的逆磁致伸縮效應(yīng)，將有害的振動(dòng)能轉(zhuǎn)化為電能，并通過(guò)分流元件調(diào)整其帶隙，實(shí)現(xiàn)有效減振的研究還未見(jiàn)報(bào)道。

本文考慮Galfenol材料磁-機(jī)-電耦合的逆磁致伸縮非線性，利用Armstrong模型確定了材料特性參數(shù)，推導(dǎo)和驗(yàn)證了在分流電路下材料的有效彈性模量，并采用所建立的一維Galfenol聲子晶體振動(dòng)模型對(duì)其在不同偏置磁場(chǎng)Hb、應(yīng)力σ及分流電容Cs下的帶隙調(diào)控法及減振性能做了深入研究。

1 含分流電路Galfenol聲子晶體理論建模

將Galfenol棒緊密纏繞螺旋線圈，通過(guò)線圈與分流電路相連，并將該Galfenol棒周期性地連接到環(huán)氧樹(shù)脂棒上，形成在x方向上交替排列無(wú)限一維聲子晶體結(jié)構(gòu)，如圖1所示。圖中，P和Q段分別為長(zhǎng)度lm的Galfenol棒和長(zhǎng)度lb的環(huán)氧樹(shù)脂棒，a=lb+lm為晶格常數(shù)，周期n=1,2,3,…,v(v為周期總數(shù))，Zs為分流阻抗。該聲子晶體第v個(gè)周期Q段右邊界是自由的，當(dāng)其第1個(gè)周期P段左邊界受位移激勵(lì)幅值Yejωt(ω為激勵(lì)角頻率)激勵(lì)時(shí)，由逆磁致伸縮效應(yīng)和法拉第定律可知，P段中磁感應(yīng)強(qiáng)度B發(fā)生變化，從而匝數(shù)N和長(zhǎng)度lc的線圈產(chǎn)生感應(yīng)電壓u、電流i和磁場(chǎng)Hc=Ni/lc，隨之P段有效彈性模量Ee會(huì)變化，從而實(shí)現(xiàn)其彈性波調(diào)控。

圖1 含分流電路的一維Galfenol聲子晶體結(jié)構(gòu)

Galfenol聲子晶體的理論建?；谝韵录僭O(shè)：

1) Galfenol中沿x軸的磁場(chǎng)H、B分布均勻。

2) 沿x軸的應(yīng)變?chǔ)藕挺姨幪幭嗟取?/p>

3) 螺旋線圈的lc和橫截面積Ac分別與Galfenol棒的lm和橫截面積Am相同。

1.1 磁致伸縮材料本構(gòu)方程

Armstrong模型[5]能準(zhǔn)確描述Galfenol磁致伸縮效應(yīng)和逆磁致伸縮效應(yīng)的磁-機(jī)耦合非線性行為，并可描述該材料參數(shù)(如彈性模量、壓磁系數(shù)、磁導(dǎo)率)隨應(yīng)力與磁場(chǎng)變化的非線性特性。

圖1中，沿x軸給Galfenol棒施加H和σ時(shí)，材料的本構(gòu)方程為

ε=σ/Em+d1H

(1)

B=d2σ+μ0μrH

(2)

式中：μ0為真空磁導(dǎo)率；d1為磁機(jī)轉(zhuǎn)換耦合壓磁系數(shù)；d2為機(jī)磁轉(zhuǎn)換耦合壓磁系數(shù)；Em為彈性模量；μr為相對(duì)磁導(dǎo)率。參數(shù)d1、d2、Em、μr均隨磁場(chǎng)與應(yīng)力變化，可由Armstrong模型表示為

(3)

(4)

(6)

(7)

(8)

(9)

式中：α1=sinθcosφ；α2=sinθsinφ；φ為方位角；θ為極角；Et為總能量；Ms、λ100、Es、K分別為材料的飽和磁化強(qiáng)度、飽和磁致伸縮、飽和彈性模量和各向異性常數(shù)；γ、Ω為材料的兩個(gè)因子；k和k+1為B、H、ε或σ的連續(xù)值。

Galfenol中，H=Hb+Hc。在Yejωt激勵(lì)下，Galfenol產(chǎn)生的i很小[6]，從而Hc?Hb，因此，可認(rèn)為Galfenol在H≈Hb和σ附近工作，可利用式(3)～(9)計(jì)算該工作點(diǎn)(Hb,σ)下的材料參數(shù)。

1.2 分流電路下有效彈性模量

在Yejωt激勵(lì)下，基于假設(shè)1)、2)和法拉第定律可得線圈中產(chǎn)生的感應(yīng)電壓為

u=-NAcBs

(10)

式中s=jω為拉普拉斯算子。

將式(2)和H=Hb+Hc代入式(10)，并考慮線圈的電阻Rc和Zs，可得：

(11)

由式(11)和Hc=Ni/lc可求得Hc，并將其代入式(1)可得：

(12)

其中：

(13)

式中：Lc=μ0μrN2Ac/lc為電感；κ=[d1d2Em/(μ0μr)]1/2為磁機(jī)耦合因子。

由式(13)可得歸一化有效彈性模量為

(14)

將復(fù)數(shù)Ee和Een表示為實(shí)部和虛部的形式為

(15)

(16)

圖1中，Zs=1/(Css)時(shí)，器件的電固有頻率fn為

(17)

式中Cs為分流電容。

圖2 Galfenol歸一化的儲(chǔ)存剛度和損耗因子特性曲線

比較圖2(a)、(b)中計(jì)算和實(shí)驗(yàn)曲線可知，計(jì)算曲線與實(shí)驗(yàn)曲線吻合良好，這說(shuō)明式(14)可提供Een隨f和Cs的合理數(shù)據(jù)趨勢(shì)。

1.3 振動(dòng)模型與傳遞矩陣?yán)碚?/h3>

圖1中，一維聲子晶體的縱向振動(dòng)方程[2]為

(18)

式中：y(x,t)為在x處的位移；ρ為密度；A為橫截面積；E為彈性模量。對(duì)于P段，Galfenol棒的密度、橫截面積和彈性模量分別為ρm、Am和Ee。對(duì)于Q段，環(huán)氧樹(shù)脂棒的密度、橫截面積和彈性模量分別為ρb、Ab和Eb。

利用Bloch定理和傳遞矩陣方法，可推得式(18)的特征值方程[2]為

|T-eα+jβI|=0

(19)

圖1中，當(dāng)該聲子晶體第1個(gè)周期P段左邊界受Yejωt激勵(lì)時(shí)，利用邊界條件和傳遞矩陣法[2]，可得其第v個(gè)周期Q段右邊界位移幅值yvQ(va)與第1個(gè)周期P段左邊界位移幅值y1P(0)的比，即位移傳輸為

(20)

式中D=[cos(λ2a) sin(λ2a)]，λ2=(ρb/Eb)0.5ω為Q段的波數(shù)；Tv為T的v次方。

2 結(jié)果與討論

圖1中，環(huán)氧樹(shù)脂棒和Galfenol棒有相同的直徑db=dm=5 mm和lb=lm=35 mm；N=460和內(nèi)阻Rc=6.99 Ω；環(huán)氧樹(shù)脂的Eb=4.35 GPa，ρb=1 180 kg/m3[2]；Galfenol的Es=59 GPa，Ms=1.66/μ0A/m，λ100=212×10-6，K=1.75×104J/m3，ρm=7 496 kg/m3，γ=0.9和Ω=707[5]。利用上述參數(shù)，采用所建的模型計(jì)算所得曲線如圖3～5所示。

圖3 Hb不同時(shí)，Galfenol參數(shù)隨應(yīng)力變化曲線

圖4 開(kāi)路下Galfenol聲子晶體的性能曲線

圖5 分流電容電路下Galfenol聲子晶體的性能曲線

2.1 Galfenol特性參數(shù)的非線性

圖3為利用Armstrong模型計(jì)算在不同磁場(chǎng)下Galfenol參數(shù)Em、d1、d2、μr、Lc和κ隨應(yīng)力變化的非線性曲線。由圖可看出，對(duì)于給定的H=Hb，Em首先隨著σ的增加先減小后增加，最后接近Es=59 GPa。而d1、d2、μr、Lc和κ隨著σ的增加先增加后減小。由于Galfenol棒的滯后小，故圖3(c)中d1≈d2，這符合熱力學(xué)理論。此外，在點(diǎn)(1.78 kA/m,-8.7 MPa)處，Lc和κ達(dá)到最大，即Lc max=98.9 mH，κmax=0.777。

比較圖3中計(jì)算曲線與測(cè)量曲線[5]發(fā)現(xiàn)，計(jì)算和測(cè)量的d2-σ、Em-σ曲線有近似的數(shù)量和趨勢(shì)，且在(H,σ)處，計(jì)算d1-σ、μr-σ與測(cè)量d1-H、μr-H[5]曲線的d1、μr數(shù)值非常近似。結(jié)果表明，Armstrong模型能準(zhǔn)確描述Galfenol參數(shù)非線性特性。

在Hb=1.78 kA/m和σ=[-25 MPa，0]下，參數(shù)Em、d1、d2、μr、Lc和κ的數(shù)值變化范圍最大，這有益器件應(yīng)用。

2.2 開(kāi)路下Galfenol聲子晶體的性能

圖4為在開(kāi)路(即Zs=∞)下，σ和H=Hb對(duì)Galfenol聲子晶體BBGs的影響。由圖4(a)可看出，在H=Hb=1.78 kA/m時(shí)，BBGs的起始頻率fs≈6.58 kHz幾乎不隨σ變化，而αp和fc隨σ變化顯著。

不同H=Hb下，αp-σ和fc-σ曲線如圖4(b)所示。顯然，對(duì)于給定的Hb，αp、fc隨σ的變化規(guī)律與圖3(a)所示的Em隨σ的變化規(guī)律一致。這是因?yàn)楫?dāng)Zs=∞時(shí)，由式(13)可知，Ee=Em。即當(dāng)Zs=∞時(shí)，BBGs特性僅取決于Em。此外，當(dāng)Em接近Es(Es=59 GPa)時(shí)，BBGs的αp和fc數(shù)值分別接近最大值(αpmax=2.19,fcmax=24.66 kHz)。

實(shí)際應(yīng)用中，為了實(shí)現(xiàn)減振，常希望在施加的Hb和σ較小時(shí)，器件的αp和fc可接近αpmax和fcmax，從而實(shí)現(xiàn)最佳或次最佳減振。由圖4(b)可看出，在1.78 kA/m和-25 MPa下，器件的αp=αpmax,fc=fcmax,因此，(1.78 kA/m,-25 MPa)為器件的最佳工作點(diǎn)。此外，在工作點(diǎn)(1.78 kA/m,0)處，器件的αp≈2.13,fc≈23.99 kHz,分別接近αpmax=2.19和fcmax=24.66 kHz，因此,該點(diǎn)為次最佳工作點(diǎn)。

2.3 分流電容電路下Galfenol聲子晶體的性能

圖5為Zs=1/(Css)下,Hb=1.78 kA/m、不同σ和Cs時(shí)Galfenol聲子晶體的性能。圖中，曲線1：σ=-8.7 MPa，Cs=0.1 μF；曲線2：σ=-8.7 MPa，Cs=0.05 μF；曲線3：σ=-8.7 MPa，Cs=0.03 μF；曲線4：σ=-2 MPa，Cs=0.05 μF；曲線5：σ=0，Cs=0.05 μF；曲線6：σ=0，Cs=0.006 μF。對(duì)于給定的Hb=1.78 kA/m和σ=0、-2 MPa、-8.7 MPa，可由圖3(a)、(d)得到其相應(yīng)參數(shù)：Em分別為48.8 MPa、41.9 MPa、21.9 GPa，Lc分別為13.8 mH、26.8 mH、98.9 mH，κ分別為0.339、0.526、0.777。因此，圖5中的曲線1～3和曲線5、6顯示了變化的Cs對(duì)器件性能的影響，而曲線2、4和曲線5顯示了變化的Lc、κ和Em對(duì)器件性能的影響。由圖5可得：

2) 當(dāng)Cs和器件內(nèi)在Lc組成的電磁振蕩器起作用時(shí)，該聲子晶體不僅有BBG，且有RBG和共振公共帶隙(RCBG)。

然而，曲線1～5的高頻BBGs幾乎不隨Cs和σ變化，且與開(kāi)路下最佳BBG具有相同的起始頻率(fs≈6.58 kHz)、最大衰減常數(shù)峰值(αpmax≈2.19)和最大截止頻率(fcmax≈24.66 kHz)。這是因?yàn)?，由圖5(c)、(d)可知，在諧振窄頻帶RBGs后，Ee總是迅速下降到飽和彈性模量(Es=59 GPa)。

此外，圖5(a)、(e)表明，Cs=0.006 μF，σ=0時(shí)，RBG進(jìn)入BBG，兩帶隙合并產(chǎn)生了衰減幅度很大的RCBG。

3) 比較圖5(a)、(e)可知，圖5(a)中衰減常數(shù)大的頻率區(qū)域與圖5(e)中振動(dòng)衰減幅值大的頻率區(qū)域相對(duì)應(yīng)。此外，圖5(e)表明，在f=6.58～24.66 kHz內(nèi)，BBGs和RCBG的振動(dòng)衰減幅值分別可達(dá)80 dB和250 dB。圖5(e)、(f)表明，曲線1～3相應(yīng)的3個(gè)RBGs振動(dòng)衰減幅值分別約達(dá)40 dB、80 dB和120 dB，但其頻率范圍很窄，分別為1.58～1.66 kHz，2.24～2.35 kHz和2.88～3.04 kHz。為了改善RBGs帶寬，需研究其混合分流電路[2]和非線性分流電路[4]。

3 結(jié)論

利用所建模型，對(duì)有效彈性模量、Galfenol非線性參數(shù)及其聲子晶體的衰減常數(shù)和位移傳輸進(jìn)行了計(jì)算與比較研究，可得結(jié)論：

1) 比較計(jì)算結(jié)果與測(cè)試結(jié)果表明，所建模型能描述歸一化有效彈性模量隨頻率和分流電容變化的合理數(shù)據(jù)趨勢(shì)，并能預(yù)測(cè)Galfenol材料參數(shù)隨應(yīng)力變化的非線性特性，這為預(yù)測(cè)含分流電路Galfenol聲子晶體的性能奠定了理論基礎(chǔ)。

2) 開(kāi)路下，該聲子晶體在最佳工作點(diǎn)(1.78 kA/m,-25 MPa)處，其BBG具有最大衰減常數(shù)峰值αpmax和最大截止頻率fcmax；在次最佳工作點(diǎn)(1.78 kA/m,0)處，其BBG衰減常數(shù)峰值和截止頻率接近αpmax和fc max。

3) 分流電容電路下，通過(guò)調(diào)節(jié)分流電容和應(yīng)力，可快速調(diào)整RBG，并可產(chǎn)生寬頻和衰減幅值很大的RCBG；且較大磁機(jī)耦合因子、較大電感和較小分流電容可顯著提高器件減振性能。