孫漢武,熊 彬,徐志鋒,李細(xì)光,陸裕國(guó),劉 頡,高博涵
( 1.桂林理工大學(xué) 地球科學(xué)學(xué)院,廣西 桂林 541006;2.廣西工程防震研究院,廣西 桂林 530022)
高密度電法是一種陣列勘探方法,多用于中淺層工程勘察[1-2]。與淺層地質(zhì)、探地雷達(dá)等淺層勘探方法相比,高密度電法具有成本低、受場(chǎng)地干擾小等優(yōu)點(diǎn)[3-5]。由于這些優(yōu)點(diǎn),高密度電法在路基勘察、巖溶塌陷和工程地質(zhì)勘察等方面也廣泛應(yīng)用[6-10]。本次工作位于柳州市魚(yú)峰區(qū)里雍鎮(zhèn)立沖溝生活垃圾填埋場(chǎng)附近,離柳江河道較近,為防止危廢填埋物發(fā)生滲漏對(duì)地下河、水造成污染,因此對(duì)地下是否有溶洞、隱伏斷裂等進(jìn)行探測(cè)是有必要的。近年來(lái)國(guó)內(nèi)外采用高密度電法對(duì)隱伏斷裂的探測(cè)做過(guò)許多研究[11-13],本文分析三種裝置勘探結(jié)果,與地質(zhì)資料和鉆探結(jié)果相互驗(yàn)證,說(shuō)明了高密度電法結(jié)果的準(zhǔn)確性。
項(xiàng)目場(chǎng)址位于柳江縣里雍鄉(xiāng)立沖村,距柳州市中心東南向約20 km處,與宜步立沖村隔江相望,地貌單元屬于柳南峰林峰叢谷地東南角,柳州市大橋至里雍三級(jí)公路于一期垃圾填埋場(chǎng)東側(cè)經(jīng)過(guò),場(chǎng)地位于一期垃圾填埋場(chǎng)庫(kù)區(qū)西南側(cè)約1.5 km,距離柳江河下游里雍河段約2.6 km,地理位置好,交通便利。
場(chǎng)區(qū)宏觀地貌屬構(gòu)造溶蝕-剝蝕溶丘地貌,場(chǎng)區(qū)地面高程101.0~126.0 m,丘頂高程122.5~237.0 m,相對(duì)高差21.5~120.0 m,丘坡坡度10°~30°,丘頂多呈饅頭狀,基座相連,緩坡延綿,沖溝發(fā)育。根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)調(diào)查和區(qū)域地質(zhì)資料,區(qū)域上主要分布有石炭系(C)、二疊系(P)和第四系(Q)。調(diào)查區(qū)域各地層巖性由老到新簡(jiǎn)述見(jiàn)表1。
通過(guò)實(shí)地踏勘,原SE-NW方向測(cè)線所在位置因?yàn)椴糠值囟蔚乇碇脖桓采w嚴(yán)重,難以開(kāi)展工作,分為兩段布置。測(cè)線AA’長(zhǎng)690 m,測(cè)線BB’相對(duì)于AA’向東北平移約100 m,長(zhǎng)590 m。測(cè)線CC’為SW-NE方向,長(zhǎng)890 m。三條測(cè)線總長(zhǎng)度為2170 m。
使用GPS手持機(jī)實(shí)地確定勘探線首尾端點(diǎn)位置,利用羅盤(pán)、測(cè)繩或皮尺確定各測(cè)點(diǎn)位置,測(cè)量點(diǎn)距10 m,用綁有紅布條的木筷進(jìn)行標(biāo)記,再用GPS手持機(jī)記錄各測(cè)點(diǎn)高程。
測(cè)線布置情況見(jiàn)圖1,表2給出了各測(cè)線參數(shù)。
本次高密度電法勘探采用WDA-1超級(jí)數(shù)字直流電法儀,采用Wenner、Dipole-Dipole、Schlumberger三種裝置觀測(cè),以10 m 點(diǎn)距進(jìn)行測(cè)量。其中Wenner、Dipole-Dipole兩種裝置的4個(gè)電極是等間距排列的,即對(duì)于Wenner裝置,AM=MN=NB;對(duì)于Dipole-Dipole裝置,AB=BM=MN。對(duì)于Schlumberger裝置,儀器自動(dòng)選擇測(cè)量電極距,1~7層(AB/2=15~75 m)MN=10 m,8~15層(AB/2=85~155 m)MN=30 m,16~23層(AB/2=165~235 m)MN=50 m。三種裝置均觀測(cè)了23層數(shù)據(jù)。根據(jù)三種裝置的最大電極距估計(jì),實(shí)現(xiàn)最大探測(cè)深度約120 m。
圖1 柳州市立沖溝物探測(cè)線布置圖Fig.1 Layout map of geophysical survey line in Lichonggou of Liuzhou City
表2 柳州市立沖溝物探測(cè)線端點(diǎn)坐標(biāo)Table 2 The end point coordinates of geophysical survey line in Lichonggou of Liuzhou City
首先對(duì)原始數(shù)據(jù)(表3)進(jìn)行預(yù)處理,將電阻率一欄中的負(fù)值用其前一項(xiàng)和后一項(xiàng)的算數(shù)平均值代替,由于原始數(shù)據(jù)未帶有高程信息,不能更加直觀的與真實(shí)地形相對(duì)應(yīng),因此本文將手持GPS采集的高程信息添加至原始數(shù)據(jù)文件后,用Res2dinv進(jìn)行二維高密度反演,使反演結(jié)果圖與真實(shí)地形更加吻合,最后對(duì)結(jié)果進(jìn)行分析解釋[14-16]。由于Wenner裝置反演結(jié)果較好,因此本文僅給出該裝置的反演結(jié)果圖。
表3 柳州市立沖溝巖石電阻率特征Table 3 Resistivity characteristics of the rocks in Lichonggou of Liuzhou City
結(jié)合高密度數(shù)據(jù)二維反演和地質(zhì)資料,研究工作區(qū)視電阻率分布特征,推斷工作區(qū)內(nèi)溶洞發(fā)育和隱伏斷裂分布情況。首先分別給出三種裝置的二維反演電阻率剖面圖。電阻率剖面圖以不同的顏色表示不同的電阻率。10~20 Ω·m的電阻率表示為藍(lán)色,1000 Ω·m以上的電阻率表示為紅色。不同裝置反映不同的地下電性分布特點(diǎn),受地表不均勻、旁側(cè)影響等,同一測(cè)線的三種裝置的反演結(jié)果有所區(qū)別,綜合三種裝置的反演結(jié)果進(jìn)行解釋更為可靠。
從總體上看,三種裝置均能反應(yīng)工作區(qū)地層的三層結(jié)構(gòu),電阻率大致呈水平層狀分布,橫向連續(xù)性較好。地表電阻率250~600 Ω·m,相對(duì)高阻,反映地表含水量少,屬于比較干燥的第四系覆蓋層。中間層電阻率10~100 Ω·m,是良導(dǎo)層,反映含水量多,是緊靠基巖面的第四系覆蓋層;最下層電阻率大于500 Ω·m、最高可達(dá)數(shù)千Ω·m,是基巖層。部分地段由于各種因素影響沒(méi)有表現(xiàn)出三層結(jié)構(gòu),例如,地勢(shì)較高,含水覆蓋層較薄時(shí)表現(xiàn)為二層結(jié)構(gòu)。
基巖起伏表現(xiàn)為深部醬紅色、紅色到黃色區(qū)域的起伏,紅色區(qū)域以上基本反映覆蓋層厚度。斷裂構(gòu)造是高阻背景中的低阻體,表現(xiàn)為深部醬紅色或者紅色區(qū)域中的藍(lán)色或者綠色部分,向下延伸。溶洞在潛水面以下為低阻,應(yīng)該表現(xiàn)為深部醬紅色或者紅色高阻區(qū)域中的局部低阻,只分布在有限的深度上,不會(huì)一直向下延伸。
3.2.1 測(cè)線AA’
圖2a為 AA’ 測(cè)線Wenner裝置的二維反演電阻率斷面圖。綜合分析反演結(jié)果推斷(圖2b),地表第四系覆蓋層沿測(cè)線橫向厚度變化范圍在20~40 m之間。在高阻和低阻之間存在巖性差異的不整合界線,下伏基巖為致密灰?guī)r,其連續(xù)性很好。沒(méi)有發(fā)現(xiàn)明顯的斷裂異常和溶洞異常。
3.2.2 測(cè)線BB’
圖3a為BB’測(cè)線Wenner裝置的二維反演電阻率斷面圖。綜合分析反演結(jié)果推斷(圖3b),地表第四系覆蓋層沿測(cè)線橫向厚度變化范圍在10~35 m之間,測(cè)線中部220~380 m之間基巖深度比較淺,測(cè)線兩端基巖深度比較大。在高阻和低阻之間為巖性差異的不整合界線,下伏基巖為致密灰?guī)r,其連續(xù)性很好。沒(méi)有發(fā)現(xiàn)明顯的斷裂異常和溶洞異常。
3.2.3 測(cè)線CC’
圖4a為 CC’ 測(cè)線Wenner裝置的二維反演電阻率斷面圖。綜合分析反演結(jié)果推斷(圖4b),地表第四系覆蓋層沿測(cè)線橫向厚度變化比較大,測(cè)線西南端0~160 m范圍覆蓋層很薄,基巖深度0~10 m之間。測(cè)線其余部分在15~40 m之間。下伏基巖為致密灰?guī)r,其連續(xù)性很好。在測(cè)線的160~240 m范圍內(nèi),基巖中有一個(gè)低阻構(gòu)造異常,三種裝置對(duì)該異常反映都很明顯,而且一致,推斷為構(gòu)造異常,其地表位置大致在190~230 m之間,向小號(hào)點(diǎn)方向(西南方向)傾斜。
圖2 AA’測(cè)線Wenner裝置電阻率反演斷面圖(a)與推斷地質(zhì)剖面(b)Fig.2 Resistivity inversion cross-section map of the Wenner device (a) and inferred geological profile (b) of AA’ survey line1—覆蓋層 2—灰?guī)r 3—硅質(zhì)巖 4—不整合界線
圖3 BB’測(cè)線 Wenner裝置電阻率反演斷面圖(a)與推斷地質(zhì)剖面(b)Fig.3 Resistivity inversion cross-section map of the Wenner device (a) and inferred geological profile (b) of BB’ survey line1—覆蓋層 2—灰?guī)r 3—硅質(zhì)巖 4—不整合界線
與地質(zhì)資料結(jié)合進(jìn)行解析,該異常處為硅質(zhì)巖與灰?guī)r不整合接觸面,其上有大量古風(fēng)化殼。上覆硅質(zhì)巖風(fēng)化較強(qiáng)烈,近地表部分表現(xiàn)為風(fēng)化碎石,棱角明顯,沒(méi)有經(jīng)過(guò)動(dòng)力作用,鐵質(zhì)或泥質(zhì)膠結(jié);中下部表現(xiàn)為近水平的中風(fēng)化的薄層狀硅質(zhì)石,還可以分辨出原巖的原生構(gòu)造,局部泥質(zhì)或鐵質(zhì)膠結(jié);下覆基巖為灰?guī)r,巖石完整,裂隙不發(fā)育。除此異常外,未見(jiàn)其他明顯異常,經(jīng)推斷,該區(qū)斷裂或溶洞未發(fā)育。
圖4 CC’測(cè)線 Wenner裝置電阻率反演斷面圖(a)與推斷地質(zhì)剖面(b)Fig.4 Resistivity inversion cross-section map of the Wenner device (a) and inferred geological profile (b) of CC’ survey line1—覆蓋層 2—灰?guī)r 3—硅質(zhì)巖 4—不整合界線及古風(fēng)化殼
為驗(yàn)證 CC’ 測(cè)線的160 m至240 m測(cè)點(diǎn)間有一個(gè)低阻構(gòu)造異常,在地表220 m和205 m位置分別布設(shè)了ZK1和ZK2兩個(gè)物探異常驗(yàn)證孔(圖5)。
1)ZK1鉆孔
第一層層底深度約5.8 m,分層厚度約5.8 m,硬塑狀含角礫黏土,灰褐—黃褐色,粒徑2.0~40.0 m的粗顆粒占比15%~25%,其成分為硅質(zhì)巖、泥巖風(fēng)化碎塊,局部已風(fēng)化成土狀,碎塊及顆粒面呈角狀,分選性差。分布較連續(xù)、均勻。
第二層層底深度約25.9 m,分層厚度約20.1 m,強(qiáng)風(fēng)化硅質(zhì)巖、硅質(zhì)泥巖,灰黃—灰褐色,灰黑色,細(xì)晶結(jié)構(gòu),中薄層狀構(gòu)造,原巖結(jié)構(gòu)大部分已破壞,裂隙發(fā)育,風(fēng)化強(qiáng)烈,巖體破碎,已風(fēng)化呈土狀,局部殘留泥巖結(jié)構(gòu)及層理,巖心呈礫砂狀、碎塊狀,粒徑2.0~15.0 cm,分布較連續(xù)、均勻。
圖5 巖心Fig.5 Drilling core
第三層層底深度約29.0 m,分層厚度約3.1 m,微風(fēng)化灰?guī)r,灰色,細(xì)品質(zhì)結(jié)構(gòu),中厚層塊狀構(gòu)造,主要礦物成分為方解石、石英、白云巖等,性脆質(zhì)硬,閉合節(jié)理裂隙較發(fā)育,局部可見(jiàn)小溶孔,偶見(jiàn)方解石脈發(fā)育及白色鈣質(zhì)膠結(jié),膠結(jié)良好,巖心呈短柱狀,巖體較完整,斷面新鮮。
2)ZK2鉆孔
第一層層底深度約3.5 m,分層厚度約3.5 m,硬塑狀含角礫黏土,灰褐—黃褐色,粒徑2.0~40.0 m的粗顆粒占比15%~25%,其成分為硅質(zhì)巖、泥巖風(fēng)化碎塊,局部已風(fēng)化成土狀,碎塊及顆粒面呈角狀,分選性差。分布較連續(xù)、均勻。
第二層層底深度約43.0 m,分成厚度約39.5 m,強(qiáng)風(fēng)化硅質(zhì)巖、硅質(zhì)泥巖,灰黃—灰褐色,灰黑色,細(xì)晶結(jié)構(gòu),中薄層狀構(gòu)造,原巖結(jié)構(gòu)大部分已破壞,裂隙發(fā)育,風(fēng)化強(qiáng)烈,巖體破碎,已風(fēng)化呈土狀,局部殘留泥巖結(jié)構(gòu)及層理,巖心呈礫砂狀、碎塊狀,粒徑2.0~15.0 cm,分布較連續(xù)、均勻。
第三層層底深度約44.0 m,分層厚度約1.0 m,中風(fēng)化灰?guī)r,灰色,細(xì)品質(zhì)結(jié)構(gòu),中厚層塊狀結(jié)構(gòu),主要礦物成分為方解石、石英、白云石等,性脆質(zhì)硬,閉合節(jié)理裂隙發(fā)育,局部可見(jiàn)小溶孔,偶見(jiàn)方解石脈發(fā)育及白色鈣質(zhì)膠結(jié),膠結(jié)良好,巖心呈塊狀半塊狀,巖體較完整,斷面新鮮。
兩個(gè)鉆孔近地表部分表現(xiàn)為風(fēng)化碎石,棱角明顯,沒(méi)有經(jīng)過(guò)動(dòng)力作用,鐵質(zhì)或泥質(zhì)膠結(jié);中下部表現(xiàn)為近水平的中風(fēng)化的薄層狀硅質(zhì)石,還可以分辨出原巖的原生構(gòu)造,局部泥質(zhì)或鐵質(zhì)膠結(jié)。下覆基巖為灰?guī)r,巖石完整,裂隙不發(fā)育。物探異常驗(yàn)證鉆孔中沒(méi)有見(jiàn)到構(gòu)造碎裂巖、構(gòu)造角礫巖、斷面和巖石變形等斷裂構(gòu)造跡象,說(shuō)明該區(qū)斷裂和溶洞未發(fā)育。推斷該異常為不整合面上部風(fēng)化殼引起,鉆孔異常結(jié)果與高密度電法反演結(jié)果基本一致。
通過(guò)本次工作得到如下結(jié)論:
1)工作區(qū)地層大多為三層結(jié)構(gòu),電阻率大致呈水平層狀分布,橫向連續(xù)性較好。近地表含水很少,比較干燥的第四系覆蓋層為相對(duì)高阻層;基巖以上的富含水、甚至水飽和的第四系覆蓋層為低阻層;最下層的基巖為高阻層。
2)CC’測(cè)線的160 m至240 m測(cè)點(diǎn)間有一個(gè)低阻電阻率間斷面,三種裝置對(duì)該異常反映都很明顯,而且一致,經(jīng)鉆孔驗(yàn)證為硅質(zhì)巖與灰?guī)r不整合接觸面,存在大量古風(fēng)化殼,其地表位置大致在190~230 m之間,向小號(hào)點(diǎn)方向(西南方向)傾斜。
3)鉆探結(jié)果與高密度電法反演結(jié)果基本一致,說(shuō)明了高密度電法在淺層勘探中的良好效果,為今后的高密度工作提供依據(jù)。