許萬(wàn)祥,李 波,王靖坤,郭 瑞
(西安瑞鑫科金屬材料有限責(zé)任公司,陜西 西安 710016)
氧化亞銅是附加值較高的一種銅類無(wú)機(jī)鹽。利用再生資源回收高品質(zhì)氧化亞銅,研發(fā)新的工藝流程,不僅可有效解決環(huán)境問(wèn)題,同時(shí)也可產(chǎn)生巨大的經(jīng)濟(jì)效益。冶煉行業(yè)產(chǎn)生的廢銅渣及廢銅液、電子行業(yè)產(chǎn)生的酸堿蝕刻液,成分復(fù)雜,雜質(zhì)分離較為困難,絕大部分用來(lái)生產(chǎn)粗制硫酸銅、氫氧化銅、堿式碳酸銅、氯化銅等,而少用于工業(yè)生產(chǎn)氧化亞銅[1-4]。從低品位銅礦浸出液中制備氧化亞銅,可以采用溶劑萃取—硫酸銅結(jié)晶—Na2SO3還原工藝[5];以低品位銅渣為原料生產(chǎn)氧化亞銅可以選用葡萄糖直接還原浸出液工藝[6];以酸、堿蝕刻液中和得到的銅泥為原料,通過(guò)硫酸溶解轉(zhuǎn)換為硫酸銅—Na2SO3還原法也可以制備氧化亞銅[7]。從溶液中去除雜質(zhì),溶劑萃取是較為常用的方法,但其流程長(zhǎng)、成本高;而中和沉淀及結(jié)晶法較難實(shí)現(xiàn)雜質(zhì)離子的深度脫除。試驗(yàn)研究了以某冶煉廠含銅廢水為原料,通過(guò)選擇性沉淀和脫氯轉(zhuǎn)化兩步工序,制備高品質(zhì)氧化亞銅。
試驗(yàn)所用原料為某冶煉廠含銅廢液,主要成分見表1。試驗(yàn)所用試劑有SO2氣體、分析純氯化鈉、氫氧化鈉等。
表1 含銅廢液主要成分 g/L
含銅廢液中銅濃度較高,同時(shí)也含有鎳、鈣、鋅、鐵等雜質(zhì)離子,成分復(fù)雜,直接用于還原制備氧化亞銅,產(chǎn)品雜質(zhì)含量較高。
試驗(yàn)分2步進(jìn)行:第1步,通入SO2氣體,控制溶液氧化還原電位;添加NaCl沉淀劑,將Cu2+以CuCl形式選擇性沉淀,實(shí)現(xiàn)與其他雜質(zhì)離子的分離;第2步,添加NaOH溶液,控制溶液溫度,使沉淀的CuCl脫氯,進(jìn)而轉(zhuǎn)換為純度較高的Cu2O。反應(yīng)式如下:
(1)
(2)
CuCl和Cu2O用稀硝酸溶解并的定容,采用ICP-AES分析其化學(xué)組成。CuCl脫氯轉(zhuǎn)換為Cu2O過(guò)程中的氯,采用《工業(yè)氧化亞銅》(HG/T 2961—2010)的方法測(cè)定[8]。
溶液中Cu2+生成CuCl的理論還原電位為561 mV,鎳、鋅、鐵等雜質(zhì)離子形成單質(zhì)金屬電位小于零,遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于氯化亞銅的生成電位;且還原電位在0~500 mV范圍內(nèi),雜質(zhì)離子不會(huì)與氯反應(yīng)形成沉淀,因此,在保證沉淀劑NaCl過(guò)量情況下,選擇適合的還原劑,加以控制電位可使Cu2+選擇性沉淀,進(jìn)而實(shí)現(xiàn)銅與其他雜質(zhì)離子的分離;同時(shí),由式(1)可知,反應(yīng)會(huì)產(chǎn)生H+,為保證反應(yīng)快速進(jìn)行需維持溶液pH一定[9-12]。
根據(jù)前期試驗(yàn)設(shè)定選擇性沉銅試驗(yàn)條件為:廢液500 mL,Cu2+質(zhì)量濃度65 g/L,pH為1.5~2.0,溫度85 ℃,NaCl濃度1.2 mol/L,反應(yīng)時(shí)間1 h,通入SO2氣體,控制電位300 mV左右。該條件下反應(yīng)得白色沉淀CuCl,CuCl用還原性洗滌水洗滌3次,烘干稱重,分析Cu2+沉淀率及CuCl中雜質(zhì)質(zhì)量分?jǐn)?shù)(見表2),通過(guò)選擇性沉淀銅,銅沉淀率達(dá)96%。從表2看出,銅與鎳、鋅、鈣、鉛、鐵等雜質(zhì)得到初步分離。
表2 CuCl中雜質(zhì)質(zhì)量分?jǐn)?shù) %
2.2.1 反應(yīng)時(shí)間的影響
氯化亞銅質(zhì)量50 g,NaOH溶液質(zhì)量濃度100 g/L,溫度80 ℃,液固體積質(zhì)量比5∶1,反應(yīng)時(shí)間對(duì)氯脫除率的影響試驗(yàn)結(jié)果如圖1所示。
圖1 反應(yīng)時(shí)間對(duì)氯脫除率的影響
由圖1看出:在CuCl脫氯轉(zhuǎn)為Cu2O過(guò)程中,隨反應(yīng)時(shí)間延長(zhǎng),氯脫除率提高;反應(yīng)4 h后,氯脫除率達(dá)94%。
2.2.2 溫度的影響
氯化亞銅質(zhì)量50 g,NaOH溶液質(zhì)量濃度100 g/L,液固體積質(zhì)量比5∶1,溫度對(duì)氯脫除率的影響試驗(yàn)結(jié)果如圖2所示。
圖2 溫度對(duì)氯脫除率的影響
由圖2看出:隨溫度升高,氯脫除率提高,反應(yīng)時(shí)間大大縮短;反應(yīng)時(shí)間為1.5 h、反應(yīng)溫度分別為90和100 ℃時(shí),氯脫除率分別為94.1%和99.6%。綜合考慮,試驗(yàn)確定適宜的反應(yīng)溫度為100 ℃。
2.2.3 液固體積質(zhì)量比的影響
氯化亞銅質(zhì)量50 g,反應(yīng)溫度100 ℃,NaOH溶液質(zhì)量濃度100 g/L,液固體積質(zhì)量比對(duì)Cu2O中氯質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響試驗(yàn)結(jié)果見表3。
表3 液固體積質(zhì)量比對(duì)Cu2O中氯質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響
由表3看出:隨液固體積質(zhì)量比增大,Cu2O中氯質(zhì)量分?jǐn)?shù)先降低后升高;當(dāng)液固體積質(zhì)量比為5∶1時(shí),Cu2O中氯質(zhì)量分?jǐn)?shù)降至最低,為0.2%。綜合考慮,試驗(yàn)確定適宜的液固體積質(zhì)量比為5∶1。
氯化亞銅質(zhì)量500 g,反應(yīng)溫度100 ℃,NaOH溶液質(zhì)量濃度100 g/L,反應(yīng)時(shí)間1.5 h,液固體積質(zhì)量比5∶1。在此條件下所得Cu2O中主要雜質(zhì)質(zhì)量分?jǐn)?shù)見表4,X射線衍射分析結(jié)果如圖3所示。
表4 Cu2O中主要雜質(zhì)質(zhì)量分?jǐn)?shù) %
1—Cu2O產(chǎn)品;2—標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。圖3 廢銅液所制備Cu2O的XRD圖譜
由表4、圖3看出,以廢銅液為原料,通過(guò)選擇性沉淀—CuCl脫氯工藝所制備的Cu2O產(chǎn)品純度較高。
以含銅廢液為原料,通過(guò)選擇性沉銅—CuCl脫氯工藝制備氧化亞銅是可行的。適宜條件下,銅與其他雜質(zhì)初步分離,經(jīng)脫氯轉(zhuǎn)換,獲得高純氧化亞銅產(chǎn)品,產(chǎn)品中氯質(zhì)量分?jǐn)?shù)僅0.17%。溫度控制對(duì)脫氯轉(zhuǎn)換反應(yīng)影響較大。