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      大容量存儲器高可靠性3D封裝技術(shù)研究

      2019-06-27 09:53:16
      微處理機 2019年3期
      關(guān)鍵詞:導(dǎo)電膠管殼疊層

      劉 笛

      (中國電子科技集團公司第四十七研究所,沈陽110032)

      1 引 言

      存儲器電路在網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)安全、分布式計算、高速數(shù)據(jù)采集、大數(shù)據(jù)存儲、工業(yè)智能化、太空數(shù)據(jù)存儲、電子信息對抗等領(lǐng)域被廣泛使用。特別是大容量、高可靠存儲器電路在飛機、衛(wèi)星和火箭上的需求越來越大。我國的存儲器電路產(chǎn)品,一般以單芯片塑封為主,有效存儲容量與封裝面積的比例不高,不能滿足尖端行業(yè)對大容量存儲的需求。一些封裝廠商采用多芯片3D 堆疊封裝的方法,可以大幅度提高存儲容量與封裝面積的比例,但提出的3D 封裝方案基本上也都是以塑封為主[1-3]。3D 塑封方案雖然在存儲容量上有所提升,但由于塑封自身特點,在可靠性上存在不足之處??偠灾?,現(xiàn)階段國內(nèi)產(chǎn)品很難同時滿足航空航天等領(lǐng)域?qū)Υ鎯ζ鳟a(chǎn)品的大容量和高可靠需求。

      故此研究一種大容量存儲器電路高可靠堆疊封裝方法,以陶瓷外殼完成存儲器芯片的3D 封裝。不但可提高單只電路的儲存容量,還可以滿足國內(nèi)外各類尖端行業(yè)對儲存器產(chǎn)品的高可靠性需求。

      2 儲存器3D-SiP 產(chǎn)品可靠性設(shè)計

      2.1 3D-SiP方案設(shè)計

      對于高可靠3D 堆疊,行業(yè)內(nèi)還沒有公認(rèn)的最優(yōu)解決方案,各個封裝廠商根據(jù)自己的優(yōu)勢采用不同的方法來實現(xiàn)用戶的需求,主要途徑有4 個:

      第一:塑封方案,如圖1所示。在3D 堆疊方面,塑封較為容易實現(xiàn)。但塑封本身存在氣密性、熱應(yīng)力等問題,在高可靠領(lǐng)域仍然不具備優(yōu)勢。

      圖1 軍品3D 塑封方案外觀示意圖

      第二:類3D-Plus 模塊灌封方案,如圖2所示。依靠多層基板和多層芯片疊裝灌封,再通過側(cè)面金屬化、互連和涂漆保護,完成模塊封裝。該種方案可以實現(xiàn)更為復(fù)雜的堆疊互連,但與塑封類似,所完成的模塊產(chǎn)品在可靠性上存在先天不足。另外這種方案的造價也很高。

      圖2 類3D-Plus 模塊灌封方案

      第三:基于TSVRDLBGA 植球的晶圓級3D 堆疊方案,如圖3所示。這種方案技術(shù)含量較高,成本也較高。同時,如果需要TSV 通孔,芯片在設(shè)計時需要先預(yù)留出通孔空間。

      圖3 基于TSVRDLBGA 晶圓級3D 堆疊方案

      第四:基于LTCC 基板或者基于陶瓷外殼的管殼基板一體化的堆疊方案,如圖4所示。

      圖4 管殼基板一體化堆疊方案

      四種方案相比,能實現(xiàn)氣密封裝的是方案3 和方案4,此兩種方案都有達到宇航級要求的潛力??紤]到技術(shù)成熟度和自主可控,方案4 更佳。

      2.2 3D-SiP工藝設(shè)計

      所設(shè)計的產(chǎn)品采用陶瓷氣密封裝,如圖5所示。外殼采用CQPF 封裝形式,引腳可以從外殼底面引出,也可以從外殼側(cè)面引出,按照用戶習(xí)慣選擇。電路設(shè)置64 只外引腳。外殼具有多層鍵合指,鍵合指高度按照芯片堆疊后的高度設(shè)計,使芯片PAD 點高度與鍵合指高度基本保持一致。

      圖5 3D 封裝陶瓷外殼及互聯(lián)關(guān)系設(shè)計

      產(chǎn)品采用國內(nèi)堆疊封裝比較常用的雙腔管殼設(shè)計方案,在上下兩個獨立的腔體內(nèi)分別堆疊芯片[4]。各芯片采用引線鍵合的方式與陶瓷外殼完成電連接。各芯片間的互聯(lián)關(guān)系由陶瓷外殼中間層內(nèi)部布線完成,并引出至管殼外引腳。電路組裝結(jié)構(gòu)如圖6所示。

      圖6 3D 封裝陶瓷外殼及互聯(lián)關(guān)系設(shè)計

      組裝過程中,為了控制芯片貼裝精度和芯片粘接材料的流淌范圍,選用不導(dǎo)電膠膜作為粘接材料。為了實現(xiàn)疊層芯片的低弧度鍵合、避免鍵合引線與上下層芯片發(fā)生短路,選用BSOB 引線鍵合技術(shù)。為了降低電路的組裝過程溫度,最后的封蓋方式選用平行縫焊工藝。該電路3D 堆疊工藝的核心步驟是多層芯片的粘接和鍵合,晶圓減薄工藝和平行縫焊密封工藝也較為關(guān)鍵,整體工藝流程如圖7所示。

      圖7 3D 堆疊封裝工藝選擇及組裝流程

      2.3 高可靠產(chǎn)品考核試驗設(shè)計

      按照用戶的需求,該電路質(zhì)量等級至少滿足一般民用和工業(yè)級要求,研制目標(biāo)瞄準(zhǔn)宇航級標(biāo)準(zhǔn)。為此,所設(shè)計的考核試驗條件參照GJB548B-2005相關(guān)要求。針對樣品電路進行了考核試驗。表1 中列出了一些關(guān)鍵的考核項目和條件。

      表1 關(guān)鍵考核試驗及條件

      3 3D-SiP封裝典型失效模式及優(yōu)化方案

      3.1 芯片疊層粘接中的熱應(yīng)力

      熱匹配是3D 封裝要考慮的重要因素,縱向多芯片的堆疊更是如此。早期研制過程中,考慮到目檢可以觀察到粘接劑從芯片四周溢出的輪廓,在芯片下方懸空的部分進行了不導(dǎo)電膠的填充和加固。將硅片切割成與待封裝芯片同等尺寸的大小,堆疊至兩層、三層、四層,按照表1 中的關(guān)鍵試驗項進行摸底試驗。結(jié)果表明,填充了不導(dǎo)電膠的電路發(fā)生了熱失配現(xiàn)象,在溫度循環(huán)后,上層芯片均發(fā)現(xiàn)了不同程度的裂紋,裂紋沿底層芯片邊緣位置延展,逐步擴展,最終橫向貫穿整個芯片,如圖8所示。

      圖8 芯片堆疊出現(xiàn)裂紋

      建立3D-SiP 器件的有限元模型,對溫度循環(huán)熱應(yīng)力進行仿真分析。第一層和第二層芯片之間不導(dǎo)電膠填充區(qū)域模型網(wǎng)格劃分如圖9所示,材料屬性如表2所示。

      圖9 不導(dǎo)電膠填充區(qū)域模型網(wǎng)格劃分

      表2 材料屬性表

      如圖10所示為堆疊樣品第一、第二層芯片在溫度循環(huán)試驗中的熱應(yīng)力分布情況。從仿真結(jié)果看,填充不導(dǎo)電膠之后,在溫度循環(huán)試驗過程中,上層芯片最大應(yīng)變?yōu)?4.4MPa,如圖10(a)所示。如果不填充,上層芯片相同位置的應(yīng)變則為3.7MPa,如圖10(b)所示,相對減小了91.7%;上層芯片最大應(yīng)力位置出現(xiàn)在芯片中央,數(shù)值為15.9MPa,比填充不導(dǎo)電膠的最大應(yīng)力減小64.1%。因此,在后續(xù)的產(chǎn)品中,皆采用芯片懸空堆疊的方法,并且注意膠膜的選型,以保證外殼、芯片、粘接劑等材料間的熱匹配性。

      圖10 堆疊樣品熱應(yīng)力分布仿真

      3.2 雙面疊層引線鍵合中的質(zhì)量控制

      引線鍵合過程中,涉及到雙面鍵合、低弧鍵合、懸臂鍵合等多項關(guān)鍵技術(shù),其中部分區(qū)域還應(yīng)用到了Die-To-Die 引線鍵合技術(shù),因此,應(yīng)從工藝參數(shù)、設(shè)備選型、劈刀定制、外殼設(shè)計等多個方面進行協(xié)同設(shè)計。考慮到金絲在上述工藝技術(shù)中具有良好表現(xiàn),鍵合方案采用金絲球鍵合工藝。

      本項目以BSOB 作為核心鍵合技術(shù): 預(yù)先在芯片焊盤植一個金球形成凸點,線弧第一點落在管殼鍵合指或基板上,第二點落在芯片焊盤的金凸點上。BSOB 技術(shù)使芯片端弧高明顯降低,可達到80 微米以下,同時避免了引線-芯片短路。此外,預(yù)先形成的金凸點有效保護了芯片焊盤,減小了芯片受損的可能性[5-6]。如圖11所示為采用了BSOB 技術(shù)的樣品。

      圖11 BSOB 鍵合技術(shù)實物圖

      芯片疊層為鍵合帶來了兩個問題:

      (1) 鍵合溫度梯度。由于芯片堆疊,加熱臺預(yù)熱溫度傳導(dǎo)受到阻礙,使得上層芯片溫度低于下層芯片溫度,形成溫度梯度。

      (2) 鍵合壓力緩沖。疊層封裝的上層芯片邊緣懸空,懸空部分對劈刀施加的能量起到分散減弱的作用,不利于鍵合。

      問題主要體現(xiàn)在兩個方面,一個是短尾(Short Tail,SHTL),另一個是引線焊盤不粘(Non-Stick On Pad,NSOP)。應(yīng)對措施是優(yōu)化鍵合參數(shù),針對不同層芯片采用不同的鍵合工藝方案,每一層都在功率、壓力和時間之間尋找最優(yōu)匹配。

      由于高可靠的要求,在鍵合后,對電路抽樣進行300℃、1h 的高溫烘焙,確保鍵合質(zhì)量的可靠性。

      3.3 雙面平行縫焊的焊接應(yīng)力

      國內(nèi)雙腔管殼多采用雙面金錫焊料環(huán)熔封或單面金錫焊料環(huán)熔封、單片平行縫焊等工藝。鑒于芯片貼裝的工藝溫度較低,在設(shè)計密封溫度梯度時不宜采用熔封工藝,以免對芯片粘接的可靠性造成影響。據(jù)了解,采用雙面平行縫焊密封工藝在國內(nèi)幾乎沒有先例,技術(shù)關(guān)鍵點在于密封過程工藝參數(shù)的優(yōu)化,避免溫度和應(yīng)力造成的陶瓷管殼裂紋,以及焊接應(yīng)力在考核試驗中的釋放所導(dǎo)致的漏氣[7]。

      應(yīng)對措施是減小平行縫焊功率,增大電極X、Y向移動速度,縮短焊接總功率[8]。采用工藝優(yōu)化方案后,電路在考核試驗后可依舊保持良好性能。

      4 結(jié)束語

      提出大容量數(shù)據(jù)存儲電路的3D-SiP 封裝方案,采用疊層芯片粘接、BOSB 鍵合及雙面平行縫焊工藝等可靠性設(shè)計及工藝優(yōu)化,極大提高了陶瓷外殼內(nèi)堆疊芯片的數(shù)量,使單一電路的存儲容量達到世界一流水平,可適用于大數(shù)據(jù)和云計算等戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)以及高可靠性如飛機、雷達和衛(wèi)星等領(lǐng)域。

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