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    光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展綜述

    2014-11-18 23:08:17高鵬陰曉俊趙帥鋒王瑞生殷波費(fèi)書(shū)
    光學(xué)儀器 2014年5期
    關(guān)鍵詞:行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

    高鵬+陰曉俊+趙帥鋒+王瑞生+殷波+費(fèi)書(shū)國(guó)

    摘要: 為了說(shuō)明光學(xué)薄膜行業(yè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況,對(duì)光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域相關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行了總結(jié),主要?dú)w納為5個(gè)主題方向:膜層功能、面形偏差、表面疵病、環(huán)境適應(yīng)性及產(chǎn)品應(yīng)用等。介紹了各個(gè)主題方向包含的主要標(biāo)準(zhǔn)及發(fā)展歷程,重點(diǎn)介紹了膜層功能主題方向的標(biāo)準(zhǔn)從1977年以來(lái)的4個(gè)階段性發(fā)展歷程。針對(duì)各個(gè)主題方向,分析了各個(gè)主題方向的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的適用性,并提出了光學(xué)薄膜領(lǐng)域國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展的5項(xiàng)建議:更新相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),系列化歸納標(biāo)準(zhǔn),統(tǒng)一規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)引用,對(duì)復(fù)雜標(biāo)準(zhǔn)增加解釋說(shuō)明,根據(jù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展需求制定相關(guān)新標(biāo)準(zhǔn)。

    關(guān)鍵詞: 光學(xué)薄膜; 標(biāo)準(zhǔn)化水平; 國(guó)家標(biāo)準(zhǔn); 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

    中圖分類號(hào): F 203文獻(xiàn)標(biāo)志碼: Adoi: 10.3969/j.issn.1005-5630.2014.05.019

    引言

    光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代[1],至今已形成一門獨(dú)立的技術(shù),廣泛應(yīng)用在天文、軍事、醫(yī)學(xué)、科學(xué)檢測(cè)、光顯示和光通訊等行業(yè)中。光學(xué)薄膜能改善系統(tǒng)性能(如:分束、濾光等),是滿足設(shè)計(jì)目標(biāo)的必要手段,對(duì)光學(xué)儀器的質(zhì)量起著重要或決定性的作用。

    近三十年來(lái),隨著我國(guó)光學(xué)與光電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展,光學(xué)薄膜技術(shù)在鍍制設(shè)備、膜系設(shè)計(jì)、特性測(cè)試和應(yīng)用開(kāi)發(fā)等方面取得了廣泛的成果,形成了相當(dāng)?shù)漠a(chǎn)業(yè)規(guī)模,產(chǎn)品正在走向國(guó)際化。隨著光學(xué)薄膜技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的擴(kuò)大,其生產(chǎn)的社會(huì)化程度逐漸提高、技術(shù)要求日趨復(fù)雜,因此對(duì)標(biāo)準(zhǔn)化的要求也越來(lái)越高。

    所謂標(biāo)準(zhǔn)化,是為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序,對(duì)現(xiàn)實(shí)問(wèn)題或潛在問(wèn)題制定共同使用和重復(fù)使用的條款的活動(dòng)[2]。標(biāo)準(zhǔn)化活動(dòng)最終會(huì)形成標(biāo)準(zhǔn),其定義為:為了在一定范圍內(nèi)獲得最佳秩序,經(jīng)協(xié)商一致制定并由公認(rèn)機(jī)構(gòu)批準(zhǔn),共同使用的和重復(fù)使用的一種規(guī)范性文件[2]。完善的標(biāo)準(zhǔn)化體系對(duì)促進(jìn)產(chǎn)品在技術(shù)上的相互協(xié)調(diào)配合、優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、增強(qiáng)產(chǎn)品的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力等方面具有不可估量的作用,是國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的重要技術(shù)支撐。

    我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化工作開(kāi)展于上世紀(jì)50年代,目前標(biāo)準(zhǔn)的范圍已覆蓋60多個(gè)行業(yè),且標(biāo)準(zhǔn)的數(shù)量每年呈穩(wěn)定增長(zhǎng)趨勢(shì)[3]。本文立足于光學(xué)薄膜行業(yè),分析行業(yè)相關(guān)5個(gè)領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展情況,并結(jié)合光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展現(xiàn)狀,對(duì)行業(yè)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的進(jìn)一步發(fā)展提出了幾點(diǎn)建議。

    1光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)領(lǐng)

    域光學(xué)薄膜技術(shù)涉及多個(gè)技術(shù)領(lǐng)域,總結(jié)光學(xué)薄膜相關(guān)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)時(shí),主要關(guān)注了以下5個(gè)主題方向。

    (1)膜層功能。光學(xué)薄膜可實(shí)現(xiàn)諸如反射、增透、濾光、分束等不同功能,以滿足多樣化的設(shè)計(jì)要求。不同膜層功能需要用不同的技術(shù)指標(biāo)去描述和評(píng)判。

    (2)面形偏差。實(shí)際光學(xué)表面與理想光學(xué)表面必然存在一定的偏差,這稱為面形偏差。在光學(xué)薄膜領(lǐng)域,面形偏差一方面由基片加工水平?jīng)Q定,另一方面也會(huì)受到膜層應(yīng)力的影響而降低或加劇。

    (3)表面疵病。鍍膜表面會(huì)存在一定的缺陷,如麻點(diǎn)、擦痕等,統(tǒng)稱為表面疵病。表面疵病程度會(huì)影響光學(xué)系統(tǒng)的性能,進(jìn)而制約著光學(xué)薄膜的用途。

    (4)環(huán)境適應(yīng)性。光學(xué)薄膜必然工作于一定的環(huán)境條件(如:溫度、濕度等),而在該條件下薄膜能否長(zhǎng)久穩(wěn)定工作,體現(xiàn)了光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性的強(qiáng)弱。環(huán)境適應(yīng)性是評(píng)判光學(xué)薄膜的一項(xiàng)重要因素,需要用一定的環(huán)境試驗(yàn)來(lái)檢驗(yàn)。(5)產(chǎn)品應(yīng)用。光學(xué)薄膜最終會(huì)形成產(chǎn)品(光學(xué)元件),安裝在儀器中以滿足一定的使用要求。一種應(yīng)用類型的光學(xué)薄膜產(chǎn)品中可能涉及多個(gè)功能的膜層。

    上述光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)領(lǐng)域,各有相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)對(duì)生產(chǎn)活動(dòng)進(jìn)行規(guī)范和指導(dǎo)。下文將逐一論述相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展情況。

    2標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展概況

    2.1膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

    膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展,大致可分為以下4個(gè)時(shí)間段。(1)1977年—1987年。這一時(shí)期,可稱為膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“起步階段”。當(dāng)時(shí),國(guó)內(nèi)光學(xué)薄膜行業(yè)的發(fā)展剛剛起步,涉及到的膜層功能不多,國(guó)家在1977年相應(yīng)頒布了GB 1315-77、GB 1316-77、GB 1317-77、GB 1320-77、GB 1321-77、GB 1325-77、GB 1326-77、GB 1327-77、GB 1328-77和1330-77等10個(gè)標(biāo)準(zhǔn),內(nèi)容涵蓋反射膜、增透膜、分束膜及窄帶濾光膜等方面。這些標(biāo)準(zhǔn)滿足當(dāng)時(shí)的行業(yè)需求。(2)1988年—1995年這一時(shí)期,可稱為膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“快速發(fā)展階段”。隨著光學(xué)薄膜行業(yè)技術(shù)水平的提升,膜層的功能逐漸趨于多樣化,1977年頒布的標(biāo)準(zhǔn)越來(lái)越無(wú)法滿足使用需求。在這種情況下,國(guó)家在1988年—1989年間,對(duì)膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行了一次系統(tǒng)整理,將相同類型的標(biāo)準(zhǔn)合并,并頒布新的膜層功能標(biāo)準(zhǔn)。經(jīng)過(guò)整理的標(biāo)準(zhǔn)見(jiàn)表1。

    序號(hào)標(biāo)準(zhǔn)號(hào)名稱1GB 1315-77光學(xué)零件薄膜的分類、符號(hào)及標(biāo)注2GB 1321-77光學(xué)零件上真空鍍鋁后陽(yáng)極氧化加固的外反光膜3GB 1327-77光學(xué)零件上水解法鍍二氧化鈦、二氧化硅三層分光膜(R∶T=1∶1)4GB 1316-88光學(xué)零件鍍膜 減反射膜5GB 1318-88光學(xué)零件鍍膜 水解法鍍雙層減反射膜6GB 1320-88光學(xué)零件鍍膜 外反射膜7GB 1322-88光學(xué)零件鍍膜 內(nèi)反射膜8GB 1330-88光學(xué)零件鍍膜 窄帶干涉濾光膜9GB 10218-88光學(xué)零件鍍膜 截止濾光膜10GB 1329-89光學(xué)零件鍍膜 中性濾光膜11GB 10989-89光學(xué)零件鍍膜 分束膜可以看出,到1989年,除GB 1315-77、GB 1321-77和GB 1327-77這3個(gè)標(biāo)準(zhǔn)外,其余1977版標(biāo)準(zhǔn)已全部更新。從1991年開(kāi)始,光學(xué)薄膜行業(yè)逐漸歸為機(jī)械行業(yè)的一個(gè)分支,相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)也開(kāi)始以機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(JB)的形式出現(xiàn)。截至1995年,膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)全部轉(zhuǎn)化為機(jī)械行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),如表2所示。

    序號(hào)標(biāo)準(zhǔn)號(hào)名稱與舊標(biāo)準(zhǔn)的關(guān)系1JB/T 6179-92光學(xué)零件鍍膜 分類、符號(hào)及標(biāo)注替代GB 1315-77(表1中序號(hào)1),重新制定,技術(shù)水平提升2JB/T 8227-1995光學(xué)零件上真空鍍鋁后陽(yáng)極氧化加固的外反光膜替代GB 1321-77(表1中序號(hào)2),直接轉(zhuǎn)化,技術(shù)內(nèi)容不變3JB/T 8228-1995光學(xué)零件上水解法鍍二氧化鈦、二氧化硅三層分光膜(R∶T=1∶1)替代GB 1327-77(表1中序號(hào)3),直接轉(zhuǎn)化,技術(shù)內(nèi)容不變4JB/T 8226.*-1995光學(xué)零件鍍膜(系列)共8個(gè)部分,相應(yīng)替代GB 1316-88等8個(gè)標(biāo)準(zhǔn)(表1中序號(hào)4~11),直接轉(zhuǎn)化,技術(shù)內(nèi)容不變5JB/T 5474-91光學(xué)零件鍍膜 偏振膜—6JB/T 5588-91光學(xué)零件鍍膜 導(dǎo)電膜—7JB/T 5589-91光學(xué)零件鍍膜 高反射膜—

    膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)自1988年起,經(jīng)過(guò)7年的發(fā)展,不但提升了技術(shù)水平,擴(kuò)展了技術(shù)領(lǐng)域,而且將零散的標(biāo)準(zhǔn)合成了一個(gè)系列標(biāo)準(zhǔn),標(biāo)準(zhǔn)號(hào)大幅減少,初步形成了膜層功能領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)體系。(3)1996年—2009年這一時(shí)期,可稱為膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“發(fā)展停滯階段”。膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)在1995年之后的14年間,發(fā)展陷入停滯。僅有的幾次調(diào)整如下。1999年,JB/T 8226.*-1995(表2中序號(hào)4)進(jìn)行了編輯性修訂,技術(shù)內(nèi)容不變。2004年,JB/T 8227-1995(表2中序號(hào)2)和JB/T 8228-1995(表2中序號(hào)3)廢止,退出歷史舞臺(tái)。2006年,國(guó)家發(fā)改委發(fā)布了第46號(hào)公告,提出將“445項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)調(diào)整為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)”。在這份公告中,將已廢止的國(guó)標(biāo)GB 1315-77(表1中序號(hào)1)直接轉(zhuǎn)化為同名行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)JB/T 10569-2006,相應(yīng)廢止了JB/T 6179-92(表2中序號(hào)1)。膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)在這一時(shí)期的發(fā)展停滯,造成了標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)水平的落后,無(wú)法滿足行業(yè)的發(fā)展需求。(4)2010年—現(xiàn)在這一時(shí)期,可稱為膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)的“發(fā)展復(fù)蘇階段”。2010年,由“沈陽(yáng)儀表科學(xué)研究院”制定的《光學(xué)和光學(xué)儀器 光學(xué)薄膜》系列標(biāo)準(zhǔn)的第1部分GB/T 26332.1-2010頒布,為沉寂已久的光學(xué)薄膜標(biāo)準(zhǔn)領(lǐng)域注入新的活力。該標(biāo)準(zhǔn)等同采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO 9211系列,共4個(gè)部分,后3部分已于2013年報(bào)批,不久將頒布實(shí)施。在這之后,又有一些新的膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)頒布,標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展呈現(xiàn)出復(fù)蘇趨勢(shì)。到目前為止,現(xiàn)行的膜層功能類標(biāo)準(zhǔn)如表3所示。

    序號(hào)標(biāo)準(zhǔn)號(hào)名稱1JB/T 5474-91光學(xué)零件鍍膜 偏振膜2JB/T 5588-91光學(xué)零件鍍膜 導(dǎo)電膜3JB/T 5589-91光學(xué)零件鍍膜 高反射膜4JB/T 8226.*-1999光學(xué)零件鍍膜(系列)5JB/T 10569-2006(=GB 1315-77)光學(xué)零件薄膜的分類、符號(hào)及標(biāo)注6GB/T 26332.1-2010光學(xué)和光學(xué)儀器 光學(xué)薄膜 第1部分:定義7GB/T 26598-2011光學(xué)儀器用透明導(dǎo)電薄膜規(guī)范8GB/T 26828-2011多光譜減反射膜規(guī)范

    2.2面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

    國(guó)內(nèi)面形偏差類標(biāo)準(zhǔn)只有GB/T 2831,其最早頒布于1981年,即GB 2831-81《光學(xué)零件的面形偏差 檢驗(yàn)方法(光圈識(shí)別)》。該標(biāo)準(zhǔn)適用于以等厚光波干涉原理檢驗(yàn)球面(包括平面)光學(xué)零部件的面形偏差,其提出的用“光圈”描述面形偏差的方法,在國(guó)內(nèi)獲得普遍應(yīng)用。2009年,該標(biāo)準(zhǔn)參照國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO 10110-5:2007進(jìn)行了修訂,即GB/T 2831-2009《光學(xué)零件的面形偏差》。修訂后的標(biāo)準(zhǔn)保留了“光圈”的描述方式,同時(shí)引入了國(guó)際上描述面形偏差的術(shù)語(yǔ),如“PV值”、“rms值”等,初步實(shí)現(xiàn)了與國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的接軌。

    2.3表面疵病類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

    國(guó)內(nèi)表面疵病類標(biāo)準(zhǔn),只有GB/T 1185,共有以下3個(gè)版本。(1)GB 1185-74 《光學(xué)零件表面疵病》該標(biāo)準(zhǔn)頒布于1974年(以下稱“74版標(biāo)準(zhǔn)”),是參照當(dāng)時(shí)蘇聯(lián)標(biāo)準(zhǔn)ГOCT 11141《光學(xué)零件表面光潔度等級(jí)檢測(cè)方法》而制定的[4-5]。“74版標(biāo)準(zhǔn)”把表面疵病分為10個(gè)等級(jí),在國(guó)內(nèi)獲得普遍應(yīng)用。(2)GB 1185-89《光學(xué)零件表面疵病》“74版標(biāo)準(zhǔn)”在1989年進(jìn)行了修訂(以下稱“89版標(biāo)準(zhǔn)”),修訂時(shí)參照了當(dāng)時(shí)德國(guó)提出的ISO 10110-7國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)草案[5],完全拋棄了之前的等級(jí)概念,采用表面疵病允許個(gè)數(shù)G和表面疵病大小級(jí)數(shù)J來(lái)表征表面疵病。(3)GB/T 1185-2006《光學(xué)零件表面疵病》“89版標(biāo)準(zhǔn)”在2006年再次進(jìn)行了修訂(以下稱“06版標(biāo)準(zhǔn)”),此次修訂是根據(jù)ISO 10110-7:1996和ISO 14997:2003這兩個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)重新起草的?!?6版標(biāo)準(zhǔn)”延續(xù)了“89版標(biāo)準(zhǔn)”的表面疵病表征方式,增加了表面疵病未注公差、可視度要求等技術(shù)內(nèi)容,標(biāo)準(zhǔn)顯得更加細(xì)膩。目前,“06版標(biāo)準(zhǔn)”修訂時(shí)參照的兩個(gè)國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)已更新為ISO 10110-7:2008和ISO 14997:2011,“06版標(biāo)準(zhǔn)”也將面臨再次修訂。

    2.4環(huán)境適應(yīng)性類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

    應(yīng)用在光學(xué)薄膜行業(yè)中的環(huán)境適應(yīng)性類標(biāo)準(zhǔn),現(xiàn)行的有以下3個(gè)。(1)GB/T 2423.*《電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)方法》GB/T 2423.*是一個(gè)系列標(biāo)準(zhǔn),最早頒布于1981年,目前還在持續(xù)更新中。標(biāo)準(zhǔn)中描述的環(huán)境試驗(yàn)方法,是為電工電子產(chǎn)品而設(shè)定,并非針對(duì)于光學(xué)薄膜,但其中的“低溫”、“高溫”、“恒定濕熱”、“交變濕熱”、“鹽霧”等試驗(yàn)方法從1988年開(kāi)始廣泛被光學(xué)薄膜行業(yè)借用。(2)GB/T 12085.*《光學(xué)和光學(xué)儀器 環(huán)境試驗(yàn)方法》GB/T 12085.*是一個(gè)系列標(biāo)準(zhǔn),最早制定于1989年,在2010—2011年進(jìn)行了修訂,內(nèi)容與ISO 9022系列基本一致。標(biāo)準(zhǔn)中描述的環(huán)境試驗(yàn)方法是針對(duì)光學(xué)儀器而設(shè)定,其中的“低溫”、“高溫”、“濕熱”、“鹽霧”等試驗(yàn)方法適用于光學(xué)薄膜,相關(guān)試驗(yàn)方法在光學(xué)薄膜國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO 9211系列中有所引用。(3)GB/T 26331-2010《光學(xué)薄膜元件環(huán)境適應(yīng)性試驗(yàn)方法》GB/T 26331-2010是專門針對(duì)光學(xué)薄膜的環(huán)境試驗(yàn)方法標(biāo)準(zhǔn),在制定中參考了ISO 9211、ISO 9022等相關(guān)內(nèi)容,對(duì)環(huán)境試驗(yàn)方法進(jìn)行了歸納整理,適合光學(xué)薄膜行業(yè)使用。另外,前文提到已報(bào)批的GB/T 26332系列標(biāo)準(zhǔn),后兩部分也是關(guān)于光學(xué)薄膜環(huán)境試驗(yàn)方面的內(nèi)容,分別等同采用ISO 9211-3:2008和ISO 9211-4:2012。試驗(yàn)方法與“GB/T 12085.*”和“GB/T 26331-2010”相關(guān)內(nèi)容一致,彼此相容。

    2.5產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展

    光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn),最早出現(xiàn)的是兩個(gè)專業(yè)標(biāo)準(zhǔn)ZBY 327-85《顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格》和ZBN42 001-87《35 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件》。在這之后,隨著光學(xué)薄膜技術(shù)水平的提升,產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)也在不斷變更和擴(kuò)充。截至2013年,光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)的變化情況如表4所示。

    序號(hào)標(biāo)準(zhǔn)號(hào)名稱狀態(tài)標(biāo)準(zhǔn)替代關(guān)系1ZB Y 327-85顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止被JB/T 9334-1999替代JB/T 9334-1999顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止啟用GB/T 26601-2011GB/T 26601-2011顯微鏡 光譜濾光片現(xiàn)行—2ZB N42 001-8735 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-94替代JB/T 7467-9435 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-2008替代JB/T 7467-200835 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件現(xiàn)行—3JB/T 5590-91光譜儀器用濾光片現(xiàn)行—4GB/T 26328-2010生物化學(xué)分析儀器用干涉濾光片現(xiàn)行—5JB/T 11532-2013線性漸變中性密度濾光片現(xiàn)行—

    3光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議

    經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展,我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化工作取得了相當(dāng)?shù)某尚?,?biāo)準(zhǔn)的數(shù)量和質(zhì)量都不斷提升,并開(kāi)始逐步與國(guó)際接軌,這從上文對(duì)光學(xué)薄膜領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展情況的分析中可窺見(jiàn)一斑。今后,建議從以下幾個(gè)方面來(lái)完善光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。

    (1)對(duì)落后標(biāo)準(zhǔn)的更新。表3中前5個(gè)標(biāo)準(zhǔn)以及JB/T 5590-91(表4中序號(hào)3)均為現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn),但核心內(nèi)容為1991年之前所制定,技術(shù)水平較低,需要修訂;另外GB/T 1185-2006對(duì)應(yīng)的ISO標(biāo)準(zhǔn)已更新,該標(biāo)準(zhǔn)也需要修訂。

    (2)標(biāo)準(zhǔn)系列化發(fā)展。膜層功能類方面,JB/T 5474-91、JB/T 5588-91、JB/T 5589-91和JB/T 8226.*都是“光學(xué)零件鍍膜”相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),內(nèi)容有一定的相關(guān)性,卻被分散在多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中,檢索和應(yīng)用都不方便,建議進(jìn)行修訂時(shí)將它們歸為一個(gè)系列標(biāo)準(zhǔn),減少標(biāo)準(zhǔn)號(hào)的分布。

    (3)標(biāo)準(zhǔn)引用統(tǒng)一。光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性方面,可引用的標(biāo)準(zhǔn)包括GB/T 2423.*、GB/T 12085.*、GB/T 26331-2010。由于GB/T 2423.*被光學(xué)薄膜行業(yè)引用較早(從1988年開(kāi)始),目前人們還是習(xí)慣引用該標(biāo)準(zhǔn),但與之相比,GB/T 12085.*以及其后的標(biāo)準(zhǔn)更適合光學(xué)薄膜,并與國(guó)際通用方法一致。為了行業(yè)中標(biāo)準(zhǔn)引用的統(tǒng)一,建議GB/T 2423.*逐漸淡出光學(xué)薄膜行業(yè)。

    (4)為復(fù)雜標(biāo)準(zhǔn)提供必要的說(shuō)明文件。面形偏差標(biāo)準(zhǔn)GB/T 2831-2009和表面疵病標(biāo)準(zhǔn)GB/T 1185-2006的實(shí)施一直都不順暢,這與標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容相對(duì)復(fù)雜、人們對(duì)其理解不深入有一定關(guān)系。對(duì)于內(nèi)容復(fù)雜的標(biāo)準(zhǔn),建議以后在發(fā)布標(biāo)準(zhǔn)的同時(shí),提供配套的技術(shù)輔助文件來(lái)說(shuō)明標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容,增強(qiáng)人們對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的理解。同時(shí),國(guó)家應(yīng)鼓勵(lì)專家學(xué)者發(fā)表標(biāo)準(zhǔn)方面的論文和著作,這有利于標(biāo)準(zhǔn)的順利實(shí)施和推廣普及。

    (5)根據(jù)行業(yè)需求,發(fā)布新標(biāo)準(zhǔn)。通過(guò)表4可以看到,現(xiàn)有光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)僅涉及顯微鏡、光譜儀、生化分析儀及電影放映機(jī)等方面。隨著光學(xué)薄膜技術(shù)的發(fā)展,其應(yīng)用領(lǐng)域在不斷擴(kuò)展,如手機(jī)的顯示觸摸屏、3D立體影像、天文觀測(cè)等方面都有光學(xué)薄膜的身影。因此,在光學(xué)薄膜應(yīng)用領(lǐng)域,應(yīng)隨著產(chǎn)品的逐漸發(fā)展成熟而酌情頒布新的標(biāo)準(zhǔn)。

    4結(jié)論

    隨著光學(xué)薄膜技術(shù)水平的提升,行業(yè)上對(duì)標(biāo)準(zhǔn)化的要求也不斷提高。為了使光學(xué)薄膜行業(yè)相關(guān)人士了解本行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)狀況,本文針對(duì)光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)的5個(gè)領(lǐng)域,論述了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況,并結(jié)合現(xiàn)狀對(duì)光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展提出了幾點(diǎn)建議。相信我國(guó)光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)會(huì)越來(lái)越完善,我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化水平也會(huì)不斷踏上新的臺(tái)階。參考文獻(xiàn):

    [1]葉帆,顧兵,黃曉琴.薄膜材料折射率色散的進(jìn)展與展望[J].光學(xué)儀器,2010,32(4):90-94.

    [2]中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局.GB/T 20000.1-2002 標(biāo)準(zhǔn)化工作指南 (第1部分):標(biāo)準(zhǔn)化和相關(guān)活動(dòng)的通用詞匯[S].北京:中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社,2002.

    [3]莫潔.我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化工作建設(shè)現(xiàn)狀分析及對(duì)策研究[J].生產(chǎn)力研究,2012(7):166-169.

    [4]果寶智.光學(xué)表面光潔度評(píng)述[J].激光與紅外,1991,21(4):29-34.

    [5]劉慶明,盛益鵬.GB/T 1185《光學(xué)零件表面疵病》與俄、美相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)比分析[J].國(guó)防技術(shù)基礎(chǔ),2007(8)6-10,18.

    序號(hào)標(biāo)準(zhǔn)號(hào)名稱狀態(tài)標(biāo)準(zhǔn)替代關(guān)系1ZB Y 327-85顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止被JB/T 9334-1999替代JB/T 9334-1999顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止啟用GB/T 26601-2011GB/T 26601-2011顯微鏡 光譜濾光片現(xiàn)行—2ZB N42 001-8735 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-94替代JB/T 7467-9435 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-2008替代JB/T 7467-200835 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件現(xiàn)行—3JB/T 5590-91光譜儀器用濾光片現(xiàn)行—4GB/T 26328-2010生物化學(xué)分析儀器用干涉濾光片現(xiàn)行—5JB/T 11532-2013線性漸變中性密度濾光片現(xiàn)行—

    3光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議

    經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展,我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化工作取得了相當(dāng)?shù)某尚В瑯?biāo)準(zhǔn)的數(shù)量和質(zhì)量都不斷提升,并開(kāi)始逐步與國(guó)際接軌,這從上文對(duì)光學(xué)薄膜領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展情況的分析中可窺見(jiàn)一斑。今后,建議從以下幾個(gè)方面來(lái)完善光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。

    (1)對(duì)落后標(biāo)準(zhǔn)的更新。表3中前5個(gè)標(biāo)準(zhǔn)以及JB/T 5590-91(表4中序號(hào)3)均為現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn),但核心內(nèi)容為1991年之前所制定,技術(shù)水平較低,需要修訂;另外GB/T 1185-2006對(duì)應(yīng)的ISO標(biāo)準(zhǔn)已更新,該標(biāo)準(zhǔn)也需要修訂。

    (2)標(biāo)準(zhǔn)系列化發(fā)展。膜層功能類方面,JB/T 5474-91、JB/T 5588-91、JB/T 5589-91和JB/T 8226.*都是“光學(xué)零件鍍膜”相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),內(nèi)容有一定的相關(guān)性,卻被分散在多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中,檢索和應(yīng)用都不方便,建議進(jìn)行修訂時(shí)將它們歸為一個(gè)系列標(biāo)準(zhǔn),減少標(biāo)準(zhǔn)號(hào)的分布。

    (3)標(biāo)準(zhǔn)引用統(tǒng)一。光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性方面,可引用的標(biāo)準(zhǔn)包括GB/T 2423.*、GB/T 12085.*、GB/T 26331-2010。由于GB/T 2423.*被光學(xué)薄膜行業(yè)引用較早(從1988年開(kāi)始),目前人們還是習(xí)慣引用該標(biāo)準(zhǔn),但與之相比,GB/T 12085.*以及其后的標(biāo)準(zhǔn)更適合光學(xué)薄膜,并與國(guó)際通用方法一致。為了行業(yè)中標(biāo)準(zhǔn)引用的統(tǒng)一,建議GB/T 2423.*逐漸淡出光學(xué)薄膜行業(yè)。

    (4)為復(fù)雜標(biāo)準(zhǔn)提供必要的說(shuō)明文件。面形偏差標(biāo)準(zhǔn)GB/T 2831-2009和表面疵病標(biāo)準(zhǔn)GB/T 1185-2006的實(shí)施一直都不順暢,這與標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容相對(duì)復(fù)雜、人們對(duì)其理解不深入有一定關(guān)系。對(duì)于內(nèi)容復(fù)雜的標(biāo)準(zhǔn),建議以后在發(fā)布標(biāo)準(zhǔn)的同時(shí),提供配套的技術(shù)輔助文件來(lái)說(shuō)明標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容,增強(qiáng)人們對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的理解。同時(shí),國(guó)家應(yīng)鼓勵(lì)專家學(xué)者發(fā)表標(biāo)準(zhǔn)方面的論文和著作,這有利于標(biāo)準(zhǔn)的順利實(shí)施和推廣普及。

    (5)根據(jù)行業(yè)需求,發(fā)布新標(biāo)準(zhǔn)。通過(guò)表4可以看到,現(xiàn)有光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)僅涉及顯微鏡、光譜儀、生化分析儀及電影放映機(jī)等方面。隨著光學(xué)薄膜技術(shù)的發(fā)展,其應(yīng)用領(lǐng)域在不斷擴(kuò)展,如手機(jī)的顯示觸摸屏、3D立體影像、天文觀測(cè)等方面都有光學(xué)薄膜的身影。因此,在光學(xué)薄膜應(yīng)用領(lǐng)域,應(yīng)隨著產(chǎn)品的逐漸發(fā)展成熟而酌情頒布新的標(biāo)準(zhǔn)。

    4結(jié)論

    隨著光學(xué)薄膜技術(shù)水平的提升,行業(yè)上對(duì)標(biāo)準(zhǔn)化的要求也不斷提高。為了使光學(xué)薄膜行業(yè)相關(guān)人士了解本行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)狀況,本文針對(duì)光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)的5個(gè)領(lǐng)域,論述了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況,并結(jié)合現(xiàn)狀對(duì)光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展提出了幾點(diǎn)建議。相信我國(guó)光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)會(huì)越來(lái)越完善,我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化水平也會(huì)不斷踏上新的臺(tái)階。參考文獻(xiàn):

    [1]葉帆,顧兵,黃曉琴.薄膜材料折射率色散的進(jìn)展與展望[J].光學(xué)儀器,2010,32(4):90-94.

    [2]中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局.GB/T 20000.1-2002 標(biāo)準(zhǔn)化工作指南 (第1部分):標(biāo)準(zhǔn)化和相關(guān)活動(dòng)的通用詞匯[S].北京:中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社,2002.

    [3]莫潔.我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)化工作建設(shè)現(xiàn)狀分析及對(duì)策研究[J].生產(chǎn)力研究,2012(7):166-169.

    [4]果寶智.光學(xué)表面光潔度評(píng)述[J].激光與紅外,1991,21(4):29-34.

    [5]劉慶明,盛益鵬.GB/T 1185《光學(xué)零件表面疵病》與俄、美相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)比分析[J].國(guó)防技術(shù)基礎(chǔ),2007(8)6-10,18.

    序號(hào)標(biāo)準(zhǔn)號(hào)名稱狀態(tài)標(biāo)準(zhǔn)替代關(guān)系1ZB Y 327-85顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止被JB/T 9334-1999替代JB/T 9334-1999顯微鏡光譜濾光片 基本規(guī)格廢止啟用GB/T 26601-2011GB/T 26601-2011顯微鏡 光譜濾光片現(xiàn)行—2ZB N42 001-8735 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-94替代JB/T 7467-9435 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件廢止被JB/T 7467-2008替代JB/T 7467-200835 mm和70 mm電影放映機(jī)反光鏡技術(shù)條件現(xiàn)行—3JB/T 5590-91光譜儀器用濾光片現(xiàn)行—4GB/T 26328-2010生物化學(xué)分析儀器用干涉濾光片現(xiàn)行—5JB/T 11532-2013線性漸變中性密度濾光片現(xiàn)行—

    3光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展建議

    經(jīng)過(guò)幾十年的發(fā)展,我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化工作取得了相當(dāng)?shù)某尚?,?biāo)準(zhǔn)的數(shù)量和質(zhì)量都不斷提升,并開(kāi)始逐步與國(guó)際接軌,這從上文對(duì)光學(xué)薄膜領(lǐng)域標(biāo)準(zhǔn)發(fā)展情況的分析中可窺見(jiàn)一斑。今后,建議從以下幾個(gè)方面來(lái)完善光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。

    (1)對(duì)落后標(biāo)準(zhǔn)的更新。表3中前5個(gè)標(biāo)準(zhǔn)以及JB/T 5590-91(表4中序號(hào)3)均為現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn),但核心內(nèi)容為1991年之前所制定,技術(shù)水平較低,需要修訂;另外GB/T 1185-2006對(duì)應(yīng)的ISO標(biāo)準(zhǔn)已更新,該標(biāo)準(zhǔn)也需要修訂。

    (2)標(biāo)準(zhǔn)系列化發(fā)展。膜層功能類方面,JB/T 5474-91、JB/T 5588-91、JB/T 5589-91和JB/T 8226.*都是“光學(xué)零件鍍膜”相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),內(nèi)容有一定的相關(guān)性,卻被分散在多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)中,檢索和應(yīng)用都不方便,建議進(jìn)行修訂時(shí)將它們歸為一個(gè)系列標(biāo)準(zhǔn),減少標(biāo)準(zhǔn)號(hào)的分布。

    (3)標(biāo)準(zhǔn)引用統(tǒng)一。光學(xué)薄膜環(huán)境適應(yīng)性方面,可引用的標(biāo)準(zhǔn)包括GB/T 2423.*、GB/T 12085.*、GB/T 26331-2010。由于GB/T 2423.*被光學(xué)薄膜行業(yè)引用較早(從1988年開(kāi)始),目前人們還是習(xí)慣引用該標(biāo)準(zhǔn),但與之相比,GB/T 12085.*以及其后的標(biāo)準(zhǔn)更適合光學(xué)薄膜,并與國(guó)際通用方法一致。為了行業(yè)中標(biāo)準(zhǔn)引用的統(tǒng)一,建議GB/T 2423.*逐漸淡出光學(xué)薄膜行業(yè)。

    (4)為復(fù)雜標(biāo)準(zhǔn)提供必要的說(shuō)明文件。面形偏差標(biāo)準(zhǔn)GB/T 2831-2009和表面疵病標(biāo)準(zhǔn)GB/T 1185-2006的實(shí)施一直都不順暢,這與標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容相對(duì)復(fù)雜、人們對(duì)其理解不深入有一定關(guān)系。對(duì)于內(nèi)容復(fù)雜的標(biāo)準(zhǔn),建議以后在發(fā)布標(biāo)準(zhǔn)的同時(shí),提供配套的技術(shù)輔助文件來(lái)說(shuō)明標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容,增強(qiáng)人們對(duì)標(biāo)準(zhǔn)的理解。同時(shí),國(guó)家應(yīng)鼓勵(lì)專家學(xué)者發(fā)表標(biāo)準(zhǔn)方面的論文和著作,這有利于標(biāo)準(zhǔn)的順利實(shí)施和推廣普及。

    (5)根據(jù)行業(yè)需求,發(fā)布新標(biāo)準(zhǔn)。通過(guò)表4可以看到,現(xiàn)有光學(xué)薄膜產(chǎn)品應(yīng)用類標(biāo)準(zhǔn)僅涉及顯微鏡、光譜儀、生化分析儀及電影放映機(jī)等方面。隨著光學(xué)薄膜技術(shù)的發(fā)展,其應(yīng)用領(lǐng)域在不斷擴(kuò)展,如手機(jī)的顯示觸摸屏、3D立體影像、天文觀測(cè)等方面都有光學(xué)薄膜的身影。因此,在光學(xué)薄膜應(yīng)用領(lǐng)域,應(yīng)隨著產(chǎn)品的逐漸發(fā)展成熟而酌情頒布新的標(biāo)準(zhǔn)。

    4結(jié)論

    隨著光學(xué)薄膜技術(shù)水平的提升,行業(yè)上對(duì)標(biāo)準(zhǔn)化的要求也不斷提高。為了使光學(xué)薄膜行業(yè)相關(guān)人士了解本行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)狀況,本文針對(duì)光學(xué)薄膜技術(shù)相關(guān)的5個(gè)領(lǐng)域,論述了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展概況,并結(jié)合現(xiàn)狀對(duì)光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的發(fā)展提出了幾點(diǎn)建議。相信我國(guó)光學(xué)薄膜技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)會(huì)越來(lái)越完善,我國(guó)的標(biāo)準(zhǔn)化水平也會(huì)不斷踏上新的臺(tái)階。參考文獻(xiàn):

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