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    教學(xué)用金屬真空蒸發(fā)鍍膜實驗裝置的研制

    2017-01-04 10:34:38安奎生付申成谷德山
    大學(xué)物理實驗 2016年6期
    關(guān)鍵詞:鐘罩鍍膜真空度

    安奎生,付申成,谷德山

    (東北師范大學(xué),吉林 長春 130024)

    教學(xué)用金屬真空蒸發(fā)鍍膜實驗裝置的研制

    安奎生,付申成,谷德山

    (東北師范大學(xué),吉林 長春 130024)

    介紹了自制的金屬真空蒸發(fā)鍍膜實驗裝置,分析了真空鍍膜的實驗原理,詳述了真空蒸發(fā)鍍膜裝置的操作流程。

    真空系統(tǒng);蒸發(fā)鍍膜;鍍膜室

    真空鍍膜屬于薄膜技術(shù)和薄膜物理范疇,廣泛應(yīng)用在電真空,電子學(xué)、光學(xué)、能源開發(fā)、現(xiàn)代儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學(xué)、以及原子能工業(yè)和空間技術(shù)中。由于真空鍍膜技術(shù)的迅速發(fā)展,使得電子計算機的微型化成為可能,進而促進了人造衛(wèi)星、火箭和宇航技術(shù)的發(fā)展。

    真空鍍膜是指在真空中將金屬或金屬化合物沉積在基體表面上,從技術(shù)角度可分為:蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍膜和束流沉積等4種。真空鍍膜的優(yōu)點是:它可用一般金屬(鋁,鈦等)代替日益缺乏的貴重金屬(金,銀)進行鍍膜,從而降低產(chǎn)品成本,提高產(chǎn)品質(zhì)量;由于在真空環(huán)境下鍍膜,分子碰撞少,污染少,可獲得表面物理研究中所要求的純凈、致密的薄膜;鍍膜時間可人為控制,可得到厚度均勻或非均勻薄膜;被鍍件表面不受損壞,薄膜與基體具有同等的光潔度。

    本文介紹了自制金屬真空蒸發(fā)鍍膜實驗裝置,并以在載玻片上鍍鋁膜為例,詳述了裝置的實驗操作流程。

    1 實驗裝置

    自制金屬真空蒸發(fā)鍍膜實驗裝置主要由真空系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、水循環(huán)制冷系統(tǒng)等3部分組成。裝置設(shè)計尺寸為1 200 mm×800 mm×1 100 mm,極限真空度為5×10-3Pa,總功率為2.5 kW,其實物如圖1所示。

    圖1 金屬真空蒸發(fā)鍍膜實驗裝置

    1.1 真空系統(tǒng)

    真空系統(tǒng)由真空獲得設(shè)備、真空測量器件、真空玻璃鍍膜室和真空組裝配件構(gòu)成。

    (1)真空獲得設(shè)備

    型號為2XZ-4旋片式機械真空泵1臺,TK-150T金屬油擴散泵擴散泵1臺,DN200冷阱1個。

    (2)真空測量器件

    ZD-I-LED數(shù)字復(fù)合真空計1臺,真空規(guī)管接頭2個,ZJ-53熱電偶規(guī)管1只,JZ-27熱陰極電離規(guī)管1只。

    (3)真空玻璃鍍膜室

    真空蒸發(fā)鍍膜室是立式圓筒形玻璃鐘罩結(jié)構(gòu),其直徑為280 mm,高為320 mm,蒸發(fā)器鎢絲直徑為0.5~1 mm,玻璃鐘罩和金屬法蘭采用真空橡膠圈過渡連接。

    (4)真空組合配件

    GI-150高真空蝶閥1個,DDC-JQ25A電磁真空充氣閥1個,GD-25高真空擋板閥2個,微調(diào)充氣閥1個,波紋管3根,過渡法蘭4個,不銹鋼連接管道(三通、彎頭等)若干件,實驗臺架1個。

    1.2 電源控制系統(tǒng)

    裝置面板上安有機械泵、擴散泵和蒸發(fā)電源(通過調(diào)壓器調(diào)節(jié)蒸發(fā)電流,輸出直流0~40 A)控制開關(guān)。外部配置電源電壓分別為380 V,220 V。

    1.3 循環(huán)水系統(tǒng)

    壓強為1.5 kg/cm2~2.5 kg/cm2,水溫低于20 ℃,冷卻水管長度為8 m,用于金屬油擴散泵冷卻。

    2 實驗原理

    在平衡狀態(tài)下,若金屬克分子蒸發(fā)熱ΔH與溫度無關(guān),則飽和蒸氣壓pS和絕對溫度T的關(guān)系為

    式中R為氣體普適常數(shù),k為積分常數(shù)。

    在真空環(huán)境下,若金屬表面靜壓強為p,則單位時間內(nèi)從單位凝聚相材料表面蒸發(fā)出的質(zhì)量(蒸發(fā)率)為

    式中α為蒸發(fā)系數(shù),M為克分子量,T為凝聚相材料的溫度。

    若真空度很高(P≈0)時蒸發(fā)的分子全部被凝結(jié)而無返回蒸發(fā)源,并且蒸發(fā)出向外飛行的分子也沒有因相互碰撞而返回,此時蒸發(fā)率為

    式中k為波爾茲曼常數(shù),n為氣體分子密度。

    p/Pa10001001011×10-11×10-21×10-3λ/m5×10-65×10-55×10-45×10-35×10-25×10-15

    3 實驗裝置操作流程

    自制金屬真空鍍膜裝置簡圖如圖2所示。

    圖2 金屬真空蒸發(fā)鍍膜裝置簡圖

    (1)準備工作

    將被鍍物(載玻片)清洗烘干后,放在蒸發(fā)器下面法蘭上,在蒸發(fā)器上掛上一定數(shù)量的鋁條(蒸發(fā)物),蓋上玻璃鐘罩。

    (2)抽真空

    關(guān)K1,開機械泵電源,慢慢打開K2(此時用手輕輕按住鐘罩,待壓緊為好),開K3,K4閥門,打開復(fù)合真空計電源,當真空度指示為5 Pa時,打開擴散泵水源和電源,關(guān)上K2。

    (3)鍍膜

    當真空度達到8 Pa時,將蒸發(fā)調(diào)節(jié)旋鈕逆時針轉(zhuǎn)到零點,開蒸發(fā)電源開關(guān),順時針緩慢旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)調(diào)節(jié)鈕,當電流在10 A左右,蒸發(fā)物從固體融化成液體,再到氣體,當蒸發(fā)物全部蒸發(fā)完畢時,鍍膜結(jié)束,將蒸發(fā)調(diào)節(jié)降到零,關(guān)掉蒸發(fā)電源開關(guān)。

    (4)關(guān)機

    關(guān)真空計電源,關(guān)擴散泵電源,關(guān)K4;開K1向鍍膜室內(nèi)充氣,取出鍍件(如圖3所示);在關(guān)掉擴散泵電源30 min后,關(guān)K3;關(guān)機械泵電源(此時電磁放氣閥DK自動打開充氣),關(guān)水源,結(jié)束實驗。

    圖3 載玻片鍍膜前后比較圖

    4 結(jié) 論

    該裝置由于實驗現(xiàn)象直觀、狀態(tài)穩(wěn)定、操作方便、造價低,因此非常適合于真空實驗課教學(xué)。管道閥K2,K3與高真空蝶閥K4、充氣閥K1配合,可以將鍍膜室隔離出來,實現(xiàn)在不停真空泵情況下連續(xù)鍍膜,亦可隨時調(diào)整安裝蒸發(fā)器及蒸發(fā)物,而擴散泵仍處在高真空的工作狀態(tài),這對連續(xù)鍍膜的生產(chǎn)是很有意義的。

    [1] 徐成海.真空工程技術(shù)[M].北京:化學(xué)工業(yè)出版社,2006:12-19.

    [2] 王欲知,陳旭.真空技術(shù)[M].北京:北京航空航天大學(xué)出版社,2007:21-23.

    [3] 達道安.真空設(shè)計手冊[M].北京:國防工業(yè)出版社,1991:29-32.

    [4] 華中一.真空實驗技術(shù)[M].上海:上海科學(xué)技術(shù)出版社出版,1985:73-79.

    [5] 高雁.真空蒸發(fā)鍍膜膜厚的測量[J].大學(xué)物理實驗,2008(4):72-79.

    Development of Experimental Apparatus for Vacuum Evaporation Coating Film

    AN Kui-sheng,F(xiàn)U Shen-cheng,GU De-shan

    (Northeast Normal University,Jilin Changchun 130024)

    Introduced homemade metal vacuum evaporation coating experimental device,analyzed the experimental principle of vacuum coating,detailing operational processes vacuum evaporation coating apparatus.

    vacuum system;evaporation coating film;coating chamber

    2016-06-20

    1007-2934(2016)06-0098-03

    O 4-33

    A

    10.14139/j.cnki.cn22-1228.2016.006.026

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