淺析專利申請文件中權利要求書的撰寫

江定國+袁任遠

【摘 要】本文對專利申請文件中權利要求書的撰寫要求和撰寫步驟進行了詳細介紹，并通過實際案例介紹了權利要求書的撰寫。

【關鍵詞】專利申請；權利要求書

專利法第五十九條規(guī)定，發(fā)明或者實用新型專利權的保護范圍以其權利要求的內容為準，說明書及附圖可以用于解釋權利要求的內容。由此可見，權利要求書是確定發(fā)明或實用新型專利權保護范圍的法律文件，而專利的價值體現(xiàn)在權利要求所獲得的保護范圍，因此，權利要求書是發(fā)明和實用新型專利申請文件中最重要的文件。為普及專利知識，本文著重對權利要求書的撰寫進行介紹。

1 權利要求書應滿足的要求

專利法第二十六條第四款規(guī)定，權利要求書應當以說明書為依據(jù)，清楚、簡要地限定要求專利保護的范圍。

1.1 以說明書為依據(jù)

以說明書為依據(jù)是指權利要求書應當?shù)玫秸f明書的支持。也就是說，請求保護的發(fā)明或實用新型的技術方案應當是本領域技術人員能夠從說明書充分公開的內容中得到或概括得出的技術方案，其不得超出說明書公開的范圍。其中“說明書公開的內容”是指“說明書記載的內容”及“根據(jù)記載的內容能夠概括得出的內容”。

1.2 清楚

權利要求書應當清楚主要包括：類型清楚和保護范圍清楚。其中類型清楚主要是指主題名稱清楚以及主題名稱與技術內容相適應等，而保護范圍清楚則包括權利要求中用詞含義清楚、標點符號使用準確、語句表述清楚以及權利要求書整體清楚等。

1.3 簡要

權利要求書應當簡要主要是指權利要求書中不得出現(xiàn)兩個或兩個以上保護范圍相同的技術方案。

2 撰寫權利要求書的主要步驟

權利要求書的撰寫可按照如下四個步驟進行。

（1）確定權利要求的主題名稱、與主題名稱相關的技術特征以及與本申請最接近的現(xiàn)有技術。

（2）確定本申請相對于最接近的現(xiàn)有技術所要解決的技術問題，列出本申請為解決此技術問題需包括的全部必要技術特征以及各必要技術特征之間的關系。對必要技術特征可以用上位概念概括，使其具有較寬的保護范圍。

（3）與最接近的現(xiàn)有技術相比，將它們共同的必要技術特征寫入獨立權利要求的前序部分，本申請區(qū)別于最接近的現(xiàn)有技術的必要技術特征寫入特征部分，從而完成獨立權利要求的撰寫。在撰寫獨立權利要求時應避免將非必要技術特征寫進來，以使得獨立權利要求的保護范圍最寬。

（4）對其他技術特征進行分析，將可能對本申請的創(chuàng)造性起作用的技術特征作為對本申請進一步限定的附加技術特征，寫成相應的從屬權利要求。

3 權利要求書撰寫示例

假設與該污水處理裝置最接近的現(xiàn)有技術為“一種具有生物反應器的污水處理裝置，但是該生物反應器中無膜組件?！?/p>

撰寫權利要求書的步驟為：

（1）確定該權利要求的主題名稱為“一種污水處理裝置”，與本申請最接近的現(xiàn)有技術為“一種具有生物反應器的污水處理裝置，但是該生物反應器中無膜組件”。

（2）本申請相對于最接近的現(xiàn)有技術所要解決的技術問題為“提供一種能實現(xiàn)泥水分離并且出水水質良好的污水處理裝置”。本申請的全部必要技術特征為：進水泵、液位控制器、生物反應器、鼓風機、曝氣頭、出水泵、膜組件。

（3）與最接近的現(xiàn)有技術相比，它們共同的必要技術特征為“進水泵、液位控制器、生物反應器、鼓風機、曝氣頭、出水泵”，本申請區(qū)別于最接近的現(xiàn)有技術的必要技術特征為“膜組件”。

（4）對其他技術特征如“膜組件的類型”、“膜組件的制造材料”等進行分析，撰寫從屬權利要求。

因此，撰寫的獨立權利要求為：

“1.一種污水處理裝置，包括：進水泵（2）、液位控制器（3）、生物反應器（4）、鼓風機（5）、曝氣頭（10）、出水泵（8），其特征在于：生物反應器（4）中固定有膜組件（6），在出水泵（8）的抽吸作用下由所述膜組件（6）過濾得到出水?！?/p>

撰寫的從屬權利要求為：

“2.根據(jù)權利要求1所述的污水處理裝置，其特征在于：所述膜組件為超濾膜組件或微濾膜組件。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的污水處理裝置，其特征在于：所述膜組件的制造材料為聚丙烯或聚乙烯或聚砜或聚偏氟乙烯。

4.……。”

4 結束語

本文對專利申請文件中權利要求書的撰寫要求和撰寫步驟進行了詳細介紹。但是，完成權利要求書的撰寫只是申請專利的第一步，發(fā)明專利申請還需要通過后續(xù)的實質審查以及實用新型專利申請還需要通過后續(xù)的初步審查才能獲得授權。

【參考文獻】

[1]中華人民共和國國家知識產權局.專利審查指南（2010）[M].北京：知識產權出版社，2010，1.

[2]吳觀樂.專利代理實務（第2版）[M].北京：知識產權出版社，2007，5.

[責任編輯：湯靜]