一種顯著減少拋釉磚釉面水波紋的工藝技術(shù)

劉延翔

摘 要：本文介紹了釉面水波紋顯著減少的拋釉磚的生產(chǎn)工藝流程，重點(diǎn)介紹了制備方法中的坯料化學(xué)成份、底釉和透明拋釉配方、施釉工藝、燒成制度及拋光工藝這五道關(guān)鍵技術(shù)，通過(guò)以上幾個(gè)關(guān)鍵技術(shù)得到的拋釉磚產(chǎn)品釉面具備如下效果：釉面水波紋顯著減少，平整度顯著提高，釉面光澤度提高，圖案立體感增強(qiáng)，防污性能優(yōu)越。

關(guān)鍵詞：工藝流程；底釉配方；透明釉配方；施釉工藝；拋光工序

1 引言

隨著社會(huì)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，物質(zhì)資源的豐富，人們對(duì)居家品質(zhì)要求不斷提高，高品質(zhì)的裝修材料也越來(lái)越受到消費(fèi)者的青睞。在眾多的裝修材料中，瓷磚作為難以替代的產(chǎn)品，成為房屋裝修過(guò)程的主要材料之一。全拋釉瓷磚是一款匯集了傳統(tǒng)微粉拋光磚和仿古釉面磚優(yōu)點(diǎn)于一體的瓷磚產(chǎn)品，在近幾年的瓷磚消費(fèi)中占據(jù)了大部分的市場(chǎng)份額。然而傳統(tǒng)的全拋釉產(chǎn)品由于工藝技術(shù)的限制，釉面水波紋的問(wèn)題在很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)一直未得到很好地解決，不能很好地提升拋釉磚產(chǎn)品的檔次，限制了其市場(chǎng)的發(fā)展。陶瓷行業(yè)的工藝技術(shù)研發(fā)人員針對(duì)這個(gè)問(wèn)題展開研究，攻克了一個(gè)又一個(gè)難題，使拋釉磚的釉面水波紋問(wèn)題得到了較好地解決，產(chǎn)品檔次明顯提高，產(chǎn)品附加值也隨之提升。

本文在分析了傳統(tǒng)全拋釉產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝后，改良了坯體配方、釉料配方、施釉工序、燒成制度及拋光工藝，最終獲得了具有傳統(tǒng)全拋釉優(yōu)良特性而且釉面水波紋顯著減少的產(chǎn)品。

2 顯著減少拋釉磚釉面水波紋的生產(chǎn)工藝流程

顯著減少拋釉磚釉面水波紋的生產(chǎn)工藝流程如圖1所示。

3 顯著減少釉面水波紋的拋釉磚關(guān)鍵工藝技術(shù)

3.1 坯體化學(xué)成份

化學(xué)成份如表1所示。

3.2 底釉配方

為了減少釉面產(chǎn)品在施釉后的燒成工序中出現(xiàn)氣泡、針孔等問(wèn)題，同時(shí)考慮釉面發(fā)色及產(chǎn)品平直度等情況，研發(fā)人員做了大量的對(duì)比試驗(yàn)，反復(fù)調(diào)整面釉配方組成及比例，最終確定了配方組成。

底釉配方組成如表2所示。

3.3 透明釉配方組成

透明釉要求發(fā)色好、透明度高、燒成范圍寬。研發(fā)人員選用高品質(zhì)鉀長(zhǎng)石再搭配較高比例的助熔劑（諸如滑石、硅灰石、碳酸鋇、氧化鋅及高溫透明熔塊等），保證釉料有較高的始熔點(diǎn)，熔融效果好，并拓寬了釉料的燒成范圍，保證了釉面發(fā)色，使釉面熔融后平整度好、透明度高、圖案清晰、釉層干凈、氣泡少。經(jīng)過(guò)研發(fā)人員的反復(fù)試驗(yàn)，最終確定透明拋釉配方。

透明拋釉配方如表3所示。

3.4 施釉工藝

3.4.1 施釉工藝流程

施釉工藝流程如圖2所示。

3.4.2 施釉工藝參數(shù)

（1）磚坯

坯溫：70～85 ℃；

噴水量：20 g±2 g。

（2）淋底釉

比重：1.88～1.92 g/L；

施釉量：115 g±2 g。

（3）淋透明釉

比重：1.98～1.92 g/L；

施釉量：290 g±2 g。

3.4.3 施釉注意事項(xiàng)

（1）保證磚坯出干燥窯后的強(qiáng)度（必須大于等于

1.2 MPa），否則在施透明釉后的后續(xù)釉線走磚過(guò)程中容易造成坯裂。

（2）保證釉線環(huán)境的清潔，杜絕落臟和揚(yáng)塵，最大限度降低燒成前的釉面缺陷。

（3）保證底釉和面釉釉漿性能良好，尤其透明釉的釉漿性能，嚴(yán)格控制施釉參數(shù)尤其是比重等參數(shù)。

（4）噴墨印花后，需對(duì)磚坯進(jìn)行烘干，防止墨水未干對(duì)后續(xù)施釉造成影響，產(chǎn)生釉面缺陷，并可以加快釉面干燥速度。

（5）燒成前一定要對(duì)施釉后的坯體進(jìn)行干燥，先排除部分自由水，確保燒成過(guò)程不炸坯。

3.5 拋光工藝

3.5.1 拋光工藝流程

如圖3所示，本拋光工序采用三段拋磨和一段表面增亮鍍膜及防污處理。第一段為粗研磨拋光，使用彈性磨塊作為拋光磨具的拋光機(jī)，磨料的細(xì)度為240目12組、320目4組，共16組，對(duì)釉面進(jìn)行一定程度的磨削，進(jìn)一步平整釉面；第二段為中拋，使用彈性磨塊作為拋光磨具的拋光機(jī)，磨料細(xì)度為320目4組、400目6組、600目3組、800目3組，共16組；第三段為精拋，使用彈性磨塊作為拋光模具的拋光機(jī)，磨料細(xì)度為800目1組，1000目、1200目、1500目、2000目、3000目各3組，共16組；第四段使用納米防污劑，對(duì)拋磨后的釉表面進(jìn)行鍍膜，提高釉表面的光澤度，以及對(duì)磨拋后被破壞的釉表面進(jìn)行修補(bǔ)處理。

4 結(jié)論

本文所述的拋釉磚制備方法是通過(guò)精心、嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓に囋O(shè)計(jì)，反復(fù)的配方調(diào)試和驗(yàn)證，科學(xué)的燒成制度，不斷優(yōu)化拋光過(guò)程而獲得的產(chǎn)物。該拋釉磚產(chǎn)品生產(chǎn)工藝技術(shù)穩(wěn)定可行、產(chǎn)品品質(zhì)穩(wěn)定、各項(xiàng)理化性能優(yōu)越，這也證明產(chǎn)品工藝設(shè)計(jì)及配方合理，生產(chǎn)工藝可控制。該拋釉磚產(chǎn)品仿石材圖案效果逼真、層次豐富、立體感強(qiáng)、釉面平整，極大地提升了產(chǎn)品檔次，是高檔瓷磚的首選品類。