光學(xué)元件、輥型納米壓印裝置以及模具輥的制造方法
2016-04-29 00:00:00
科技資訊 2016年22期
授權(quán)公告號：CN101952106B
授權(quán)公告日：2016.08.31
專利權(quán)人：夏普株式會社
地址：日本大阪府
發(fā)明人：山田信明；藤井曉義；田口登喜生；林秀和
Int. Cl.：B29C33/38（2006.01）I；B29C33/42（2006.01）I；B29C59/04（2006.01）I；B82Y10/00（2011.01）I；B82Y40/00（2011.01）
I；G02B1/118（2015.01）I；G03F7/00（2006.01）I；C25D11/12（2006.01）I；C25D1/00（2006.01）I；B29C35/08（2006.01）N
優(yōu)先權(quán)：2008-053780 2008.03.04 JP
PCT進(jìn)入國家階段日：2010.08.11
PCT申請數(shù)據(jù)：PCT/JP2008/071036 2008.11.19
PCT公布數(shù)據(jù)：WO2009/110139 JA 2009.09.11
對比文件：JP 特開2004-223836 A，2004.08.12，；US 2002044356 A1，2002.04.18，；CN 1754824 A，2006.04.05，
摘 要：該發(fā)明提供一種與層壓膜貼緊性優(yōu)良的光學(xué)元件、輥型納米壓印裝置以及模具輥的制造方法。該發(fā)明是具有在表面連續(xù)形成納米尺寸的凹凸的納米構(gòu)造膜和層疊在上述納米構(gòu)造膜上的層壓膜的光學(xué)元件，上述納米構(gòu)造膜是在沿著納米構(gòu)造膜的長邊方向的兩端部具有未形成納米尺寸的凹凸的納米構(gòu)造非形成區(qū)域的輥狀光學(xué)元件。
